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公开(公告)号：CN109643064A
公开(公告)日：2019-04-16
申请号：CN201780052378.8
申请日：2017-07-14
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供即使将曝光的扫描速度设为超高速，也能够具有液浸液的高追随性并能够减少残渣和显影缺陷的感光化射线性或感放射线性树脂组合物等。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有具有以通式(1)所表示的重复单元的树脂(C)。图案形成方法包含通过感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜的工序，电子器件的制造方法包含图案形成方法。通式(1)中，Z表示卤素原子、以R11OCH2－所表示的基团或以R12OC(＝O)CH2－所表示的基团。R11及R12表示一价取代基。X表示氧原子或硫原子。L表示(n+1)价的连结基团。R表示如下基团，该基团具有通过碱显影液的作用而分解并在碱显影液中的溶解度增大的基团。n表示正整数。
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公开(公告)号：CN114375421A
公开(公告)日：2022-04-19
申请号：CN202080060142.0
申请日：2020-07-29
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种用于能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的树脂以及作为其单体的化合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有树脂X，所述树脂X含有来源于下述化合物的重复单元。化合物：其含有2个以上由阴离子部位和阳离子部位构成的结构部位及聚合性基团，通过光化射线或放射线的照射产生含有来源于上述2个以上的结构部位中的上述阴离子部位的酸性部位的酸。
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公开(公告)号：CN113795790B
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202080033770.X
申请日：2020-06-16
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。还提供一种使用了感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含酸分解性树脂及通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物，通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物包含1种以上的选自由化合物(I)～(III)组成的组中的化合物，选自由上述化合物(I)～(III)组成的组中的化合物的含量相对于组合物中的总固体成分超过20.0质量％。
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公开(公告)号：CN115997167A
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202180041834.5
申请日：2021-05-19
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 本发明的第1课题在于提供一种可获得良好的形状的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，本发明的第2课题在于提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。并且，本发明的第3课题在于提供一种能够适合用于上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的化合物。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物、重均分子量为30,000以下的酸分解性树脂及溶剂，上述通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物包含化合物(I)。
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公开(公告)号：CN115023652A
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202180011617.1
申请日：2021-01-22
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F212/08 , C09K3/00 , G03F7/039 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种正型抗蚀剂组合物、使用上述正型抗蚀剂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，所述正型抗蚀剂组合物含有(A)离子性化合物及(B)树脂，所述(B)树脂含有具有与上述离子性化合物中的离子性基团相互作用的相互作用性基团的重复单元(b1)，并且主链通过X射线、电子束或极紫外线的照射而分解。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113795790A
公开(公告)日：2021-12-14
申请号：CN202080033770.X
申请日：2020-06-16
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。还提供一种使用了感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含酸分解性树脂及通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物，通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物包含1种以上的选自由化合物(I)～(III)组成的组中的化合物，选自由上述化合物(I)～(III)组成的组中的化合物的含量相对于组合物中的总固体成分超过20.0质量％。
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公开(公告)号：CN114375421B
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202080060142.0
申请日：2020-07-29
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种用于能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的树脂以及作为其单体的化合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有树脂X，所述树脂X含有来源于下述化合物的重复单元。化合物：其含有2个以上由阴离子部位和阳离子部位构成的结构部位及聚合性基团，通过光化射线或放射线的照射产生含有来源于上述2个以上的结构部位中的上述阴离子部位的酸性部位的酸。
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公开(公告)号：CN115917431A
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN202180039928.9
申请日：2021-05-19
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F220/28 , C08F220/12 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20
Abstract: 本发明的课题在于提供一种即使在长期保存后也能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，本发明的课题还在于提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含通过酸的作用分解而极性增大的树脂及通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物，上述通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物包含选自化合物(I)及(III)中的1种以上。
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公开(公告)号：CN115769146A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202180038836.9
申请日：2021-04-21
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , C07C303/22 , C07C309/06 , C07C309/17 , C07C381/12 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种可获得LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法、化合物及化合物的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含具有含有通过酸的作用分解而极性增大的基团的重复单元的树脂，感光化射线性或感放射线性树脂组合物除树脂以外还包含具有至少一个由通式(1)表示的阳离子的化合物，或者树脂除重复单元以外还具有含有由通式(1)表示的阳离子的重复单元。(Rd1)m‑[Xd1]+‑(Ld1‑Ard1‑(S‑Xd2)p)n(1)
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公开(公告)号：CN109643064B
公开(公告)日：2022-07-26
申请号：CN201780052378.8
申请日：2017-07-14
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供即使将曝光的扫描速度设为超高速，也能够具有液浸液的高追随性并能够减少残渣和显影缺陷的感光化射线性或感放射线性树脂组合物等。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有具有以通式(1)所表示的重复单元的树脂(C)。图案形成方法包含通过感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜的工序，电子器件的制造方法包含图案形成方法。通式(1)中，Z表示卤素原子、以R11OCH2－所表示的基团或以R12OC(＝O)CH2－所表示的基团。R11及R12表示一价取代基。X表示氧原子或硫原子。L表示(n+1)价的连结基团。R表示如下基团，该基团具有通过碱显影液的作用而分解并在碱显影液中的溶解度增大的基团。n表示正整数。
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