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公开(公告)号：CN109643061B
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN201780052785.9
申请日：2017-06-09
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种保存稳定性优异且形成有抗蚀剂图案时的图案线宽的波动(LWR)较小的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有通过光化射线或放射线的照射而产生由下述式(I)表示的酸的化合物及树脂。抗蚀剂膜由感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成。图案形成方法及电子器件的制造方法中使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物。
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公开(公告)号：CN110088679A
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201780077182.4
申请日：2017-12-12
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F220/26 , C09K3/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C381/12
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、及光酸产生剂、以及使用这些的感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有(A)通过光化射线或放射线的照射而产生pKa为-1.40以上的酸的光酸产生剂、及(B)具有含有酸分解性基的重复单元的树脂，通过具有上述酸分解性基的重复单元的Et h灵敏度为5.64以下的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，尤其在形成超微细的图案时，粗糙性能、曝光宽容度及焦点裕度非常优异。
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公开(公告)号：CN104508557B
公开(公告)日：2019-05-31
申请号：CN201380039975.9
申请日：2013-09-19
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , C08F212/14 , C08F220/04 , C08F220/18 , C08F220/26 , C08F220/28 , C08F220/58 , C08F232/00 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0388 , C08F212/14 , C08F212/32 , C08F220/04 , C08F220/18 , C08F220/26 , C08F220/28 , C08F220/58 , G03F7/038 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2002 , G03F7/2037 , G03F7/30 , G03F7/325 , G03F7/40
Abstract: 本发明的图案形成方法包括(i)使用光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物形成膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物含有具有包含能够通过归因于酸的作用的分解而生成极性基团的基团的重复单元和包含羧基的重复单元的树脂(A)，根据使用光化射线或放射线的照射生成酸的化合物(B)，以及溶剂(C)；(ii)使用KrF准分子激光、极紫外线或电子束将所述膜曝光；以及(iii)通过使用包含有机溶剂的显影液将已曝光的膜显影而形成阴图型色调图案。
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公开(公告)号：CN104583866B
公开(公告)日：2018-10-02
申请号：CN201380045257.2
申请日：2013-08-16
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07D279/12 , C07D327/06 , C07D411/04 , G03F7/039
Abstract: 提供了一种光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物，其含有由式(1)表示的化合物：其中R1表示多环芳族基团或多环杂环芳族基团，R2表示(n+2)价的饱和的烃基，R3表示(m+2)价的饱和的烃基，R4和R5各自独立地表示取代基，Q表示含有杂原子的连接基团，m和n各自独立地表示0至12的整数，当n为2以上时，多个R4可以是相同的或不同的，多个R4可以相互连接与R2一起形成非芳族环，当m为2以上时，多个R5可以是相同的或不同的，且多个R5可以相互连接与R3一起形成非芳族环，且X‑表示非亲核阴离子。
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公开(公告)号：CN106200268A
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201610793819.7
申请日：2011-03-25
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/325 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/2041 , Y10T428/24
Abstract: 本发明提供一种形成图案以确保优良的曝光宽容度(EL)以及聚焦宽容度(聚焦深度DOF)的方法。所述图案形成方法包含(A)由光阻组成物形成膜；(B)使所述膜曝光；以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影，藉此形成负像图案。所述光阻组成物含有(a)在受酸作用时使其分解且其由下式(1)表示的ΔSP为2.5(兆帕)1/2或2.5(兆帕)1/2以上的树脂，(b)当曝露于光化射线或辐射时分解产生酸的化合物，以及(c)溶剂。ΔSP＝SPF-SPI(1)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102844710B
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201180010800.6
申请日：2011-02-24
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/30 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/0758 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/38 , Y10T428/24479
Abstract: 本发明提供一种形成图案以确保优良的感光度、限制解析力、粗糙度特性、曝光宽容度(EL)、曝光后烘烤(PEB)温度依赖性以及聚焦宽容度(聚焦深度DOF)的方法以及一种用于所述方法的抗蚀剂组成物。所述方法包括(A)由包括含有重复单元的树脂的抗蚀剂组成物形成膜，其中所述重复单元含有在受酸作用时即分解藉此产生醇羟基的基团，所述树脂从而在受酸作用时降低其在含有有机溶剂的显影剂中的溶解度；(B)使所述膜曝光；以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影。
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公开(公告)号：CN102844710A
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN201180010800.6
申请日：2011-02-24
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/30 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/0758 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/38 , Y10T428/24479
Abstract: 本发明提供一种形成图案以确保优良的感光度、限制解析力、粗糙度特性、曝光宽容度(EL)、曝光后烘烤(PEB)温度依赖性以及聚焦宽容度(聚焦深度DOF)的方法以及一种用于所述方法的抗蚀剂组成物。所述方法包括(A)由包括含有重复单元的树脂的抗蚀剂组成物形成膜，其中所述重复单元含有在受酸作用时即分解藉此产生醇羟基的基团，所述树脂从而在受酸作用时降低其在含有有机溶剂的显影剂中的溶解度；(B)使所述膜曝光；以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影。
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公开(公告)号：CN114270264A
公开(公告)日：2022-04-01
申请号：CN202080058597.9
申请日：2020-07-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/09 , G03F7/00 , C07C311/51 , C07C309/06 , C07C309/17 , C07C309/12 , C07C311/14 , C07C311/48 , C07C381/12
Abstract: 本发明提供一种即使在长期保存的情况下也可得到LWR性能优异的图案的感光化射线性或放射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。上述感光化射线性或放射线性树脂组合物含有酸分解性树脂及特定化合物，特定化合物具有2个以上的阳离子部位及与阳离子部位相同数量的阴离子部位，阳离子部位中的至少1个具有由通式(I)表示的基团。
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公开(公告)号：CN113993843A
公开(公告)日：2022-01-28
申请号：CN202080042918.6
申请日：2020-06-01
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C07C381/12 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种即使在长期保存情况下也能得到LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。该感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含选自由通式(1)表示的化合物、由通式(2)表示的化合物及由通式(3)表示的化合物组成的组中的1种以上的特定化合物及酸分解性树脂。
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公开(公告)号：CN105637417A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201480056864.3
申请日：2014-11-21
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/32 , G03F7/325
Abstract: 感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有：树脂(A)、通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物(B)、以及具有至少一个氧原子的化合物(C)。其中，所述化合物(C)中不包含所述树脂(A)及所述化合物(B)。
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