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公开(公告)号：CN114072379B
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202080045638.0
申请日：2020-04-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C07C309/17 , C07C309/42 , C07C311/07 , C07C311/48 , C07C311/51 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/26
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够形成缺陷被抑制的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法。并且，本发明的其他课题在于提供一种包括上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法的图案形成方法、及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法为至少包含通过酸的作用分解而极性增大的树脂、通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物及溶剂的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法，是通过上述光化射线或放射线的照射产生酸的化合物包含选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上的化合物，将包含上述通过酸的作用分解而极性增大的树脂及第1溶剂的第1溶液与选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上
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公开(公告)号：CN108292097B
公开(公告)日：2021-10-08
申请号：CN201680070315.0
申请日：2016-12-01
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/11
Abstract: 根据本发明的一实施方式提供一种图案形成方法，所述图案形成方法包括：使用活性光线敏感性或放射线敏感性树脂组合物在基板上形成活性光线敏感性或放射线敏感性膜的工序；使用上层膜形成用组合物在上述活性光线敏感性或放射线敏感性膜上形成上层膜的工序；对包含上述活性光线敏感性或放射线敏感性膜和上述上层膜的层叠膜进行曝光的工序；及对经曝光的上述层叠膜使用包含有机溶剂的显影液进行显影的工序。上述上层膜形成用组合物包含树脂(XA)、含有氟原子的树脂(XB)、碱性化合物(XC)以及溶剂(XD)，且树脂(XA)为不含有氟原子的树脂，或在含有氟原子的情况下，该树脂(XA)为基于质量基准的氟原子的含有率低于树脂(XB)中的氟原子的含有率的树脂。
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公开(公告)号：CN109643064B
公开(公告)日：2022-07-26
申请号：CN201780052378.8
申请日：2017-07-14
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供即使将曝光的扫描速度设为超高速，也能够具有液浸液的高追随性并能够减少残渣和显影缺陷的感光化射线性或感放射线性树脂组合物等。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有具有以通式(1)所表示的重复单元的树脂(C)。图案形成方法包含通过感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜的工序，电子器件的制造方法包含图案形成方法。通式(1)中，Z表示卤素原子、以R11OCH2－所表示的基团或以R12OC(＝O)CH2－所表示的基团。R11及R12表示一价取代基。X表示氧原子或硫原子。L表示(n+1)价的连结基团。R表示如下基团，该基团具有通过碱显影液的作用而分解并在碱显影液中的溶解度增大的基团。n表示正整数。
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公开(公告)号：CN114072379A
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202080045638.0
申请日：2020-04-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C07C309/17 , C07C309/42 , C07C311/07 , C07C311/48 , C07C311/51 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/26
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够形成缺陷被抑制的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法。并且，本发明的其他课题在于提供一种包括上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法的图案形成方法、及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法为至少包含通过酸的作用分解而极性增大的树脂、通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物及溶剂的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法，是通过上述光化射线或放射线的照射产生酸的化合物包含选自由化合物(I)～下述化合物(III)组成的组中的1种以上的化合物，将包含上述通过酸的作用分解而极性增大的树脂及第1溶剂的第1溶液与选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上的化合物混合而制造感光化射线性或感放射线性树脂组合物的方法。
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公开(公告)号：CN113168099A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN202080006354.0
申请日：2020-01-17
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感辐射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及包括上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感辐射线性树脂组合物包含：树脂A，通过酸的作用而极性增大；树脂B，包含选自由含有氟原子且在酸的作用下极性增大的树脂B1、含有氟原子且在碱的作用下极性增大的树脂B2、及含有氟原子且在酸的作用和碱的作用中的任一作用下极性都增大的树脂B3组成的组中的1种以上；以及化合物，通过光化射线或辐射线的照射而产生酸，通过上述光化射线或辐射线的照射而产生酸的化合物包含选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上，其中，上述树脂B1～上述树脂B3不包含含有离子键合性基团的重复单元。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107407887B
公开(公告)日：2021-06-08
申请号：CN201680017158.7
申请日：2016-02-02
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/11 , C08F20/36 , C08F26/02 , C08K5/32 , C08L33/10 , C08L33/16 , C08L101/00 , G03F7/32 , H01L21/027
Abstract: 一种上层膜形成用组合物，其涂布于利用感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的抗蚀剂膜上而形成上层膜，且含有树脂X及具有自由基捕获基的化合物A。一种图案形成方法，其具备：工序a，将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上，从而形成抗蚀剂膜；工序b，通过在抗蚀剂膜上涂布上述上层膜形成用组合物，在抗蚀剂膜上形成上层膜；工序c，将形成有上层膜的抗蚀剂膜进行曝光；及工序d，使用含有有机溶剂的显影液对经曝光的抗蚀剂膜进行显影来形成图案。
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公开(公告)号：CN107407887A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201680017158.7
申请日：2016-02-02
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/11 , C08F20/36 , C08F26/02 , C08K5/32 , C08L33/10 , C08L33/16 , C08L101/00 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/11 , C08F20/36 , C08F26/02 , C08K5/32 , C08L33/10 , C08L33/16 , C08L101/00 , C09D133/04 , G03F7/32 , G03F7/325 , H01L21/027
Abstract: 一种上层膜形成用组合物，其涂布于利用感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的抗蚀剂膜上而形成上层膜，且含有树脂X及具有自由基捕获基的化合物A。一种图案形成方法，其具备：工序a，将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上，从而形成抗蚀剂膜；工序b，通过在抗蚀剂膜上涂布上述上层膜形成用组合物，在抗蚀剂膜上形成上层膜；工序c，将形成有上层膜的抗蚀剂膜进行曝光；及工序d，使用含有有机溶剂的显影液对经曝光的抗蚀剂膜进行显影来形成图案。
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公开(公告)号：CN107407886A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201680016941.1
申请日：2016-03-04
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/095 , H01L21/027 , G03F7/038 , G03F7/039
CPC classification number: G03F7/11 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F2220/185 , C08F2220/1858 , C08F2220/1891 , C08F2220/283 , C09D133/066 , C09D133/10 , C09D133/14 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/2041 , G03F7/325 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法、通过上述图案形成方法而形成的抗蚀剂图案、包含上述图案形成方法的电子器件的制造方法，并且通过上述上层膜形成用组合物以高级别兼顾DOF、EL及液残留缺陷性能，所述图案形成方法具备：工序a，将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上，从而形成抗蚀剂膜；工序b，利用上层膜形成用组合物而在抗蚀剂膜上形成上层膜；工序c，将形成有上层膜的抗蚀剂膜进行曝光；及工序d，使用含有有机溶剂的显影液对经曝光的抗蚀剂膜进行显影来形成图案，所述图案形成方法中，上层膜形成用组合物含有ClogP值为2.85以上的具有重复单元(a)的树脂及ClogP为1.30以下的化合物(b)，上层膜相对于水的后退接触角为70度以上。
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公开(公告)号：CN102549494A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201080038300.9
申请日：2010-08-17
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F20/10 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: C08F20/10 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明提供一种光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含：(PA)化合物，所述化合物具有质子受体官能团并且当用光化射线或辐射照射时进行分解以产生减小或失去质子受体性的化合物或由质子受体官能性变为酸性，其中化合物(PA)在193nm的波长在乙腈溶剂中测得的摩尔消光系数ε为55,000以下，并且提供使用所述组合物的图案形成方法。
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公开(公告)号：CN118020024A
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202280064908.1
申请日：2022-09-16
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其在将所形成的抗蚀剂图案用作掩膜而进行蚀刻处理的情况下，所形成的图案不易产生缺陷，并且保存稳定性优异。另外，本发明的课题也在于提供一种抗蚀剂图案的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有通过酸的作用而极性增大的树脂、光酸产生剂、选自由式(1)表示的化合物及由式(2)表示的化合物所组成的组中的至少一种的化合物Y、以及金属原子，上述化合物Y的含量相对于上述金属原子的含量的质量比为1.0×10～1.0×109。#imgabs0#
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