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公开(公告)号：CN104264140B
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201410491414.9
申请日：2014-09-23
Applicant: 广东电网有限责任公司电力科学研究院 , 中国科学院金属研究所
IPC: C23C18/54
Abstract: 本发明公开了一种防腐蚀镀铜碳钢及其制备方法，属于防腐蚀处理技术领域。该方法包括：化学浸铜：将碳钢置于20-40℃的镀铜液中浸渍15-60秒，使碳钢表面镀上铜层，所述镀铜液中Cu2+的浓度为0.1-0.5mol/L，H+的浓度为3-6mol/L；钝化处理：将经化学浸铜处理的碳钢置于50-80℃的钝化液中处理3-10min，吹干，即得防腐蚀镀铜碳钢。该方法在强酸环境中对碳钢表面进行化学镀铜，得到的镀层与碳钢结合强度大于20MPa，并且具有良好的耐腐蚀性能。并且该方法具有工艺简单、操作方便、处理时间短和节约能源，容易实现工业化生产的优点。
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公开(公告)号：CN104264140A
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201410491414.9
申请日：2014-09-23
Applicant: 广东电网有限责任公司电力科学研究院 , 中国科学院金属研究所
IPC: C23C18/54
Abstract: 本发明公开了一种防腐蚀镀铜碳钢及其制备方法，属于防腐蚀处理技术领域。该方法包括：化学浸铜：将碳钢置于20-40℃的镀铜液中浸渍15-60秒，使碳钢表面镀上铜层，所述镀铜液中Cu2+的浓度为0.1-0.5mol/L，H+的浓度为3-6mol/L；钝化处理：将经化学浸铜处理的碳钢置于50-80℃的钝化液中处理3-10min，吹干，即得防腐蚀镀铜碳钢。该方法在强酸环境中对碳钢表面进行化学镀铜，得到的镀层与碳钢结合强度大于20MPa，并且具有良好的耐腐蚀性能。并且该方法具有工艺简单、操作方便、处理时间短和节约能源，容易实现工业化生产的优点。
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公开(公告)号：CN116288158B
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202310113328.3
申请日：2023-02-15
Applicant: 中国科学院金属研究所
Abstract: 本发明公开了一种身管内膛双冶金结合的Cr/Ta双层涂层制备方法，属于涂层制备科学领域。该方法先采用离子镀沉积两次Cr打底层，第一次沉积弧电流80～150A，基体负偏压‑600～‑1000V，沉积10～30min。第二次沉积基体负偏压调为‑80～‑200V，沉积30～120min。然后采用高功率脉冲磁控溅射沉积两次Ta表面层，第一次沉积靶材放电电压400～800V，脉冲宽度30～100μs，峰值电流200～800A，基体负偏压‑800～‑1000V，沉积10～120min；第二次沉积基体负偏压调为‑20～‑200V，沉积60～480min。该方法得到双界面冶金结合涂层，无需后续热处理。
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公开(公告)号：CN116875097B
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202310712547.3
申请日：2023-06-16
Applicant: 中国科学院金属研究所
Abstract: 本发明涉及金属表面的防腐蚀防护技术，具体为一种具有超高阻抗的抗高温耐腐蚀硅酸盐涂料及制备方法和应用。涂料组成按质量份数计为：硅酸钠或硅酸钾水玻璃50～93份，磷酸氢钙粉3～30份，稀土氧化物粉2～10份，纳米钛粉2～35份，惰性耐高温氧化物粉0～42份，耐高温无机颜料粉0～15份。将涂料组分一和组分二按比例放入球磨机中，添加上述原料总质量30～50％的蒸馏水，加入研磨珠，高速球磨20～50min，过滤掉研磨珠，得到具有超高阻抗的抗高温耐腐蚀硅酸盐涂料。应用该涂料得到的涂层具有超高的电化学低频阻抗值，耐蚀性好，稳定性优良，可解决在高温海洋大气环境、高温氧化环境和浪花飞溅区工作中的金属结构件的腐蚀损伤问题，显著延长金属寿命。
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公开(公告)号：CN117187742A
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202311105419.9
申请日：2023-08-30
Applicant: 中国科学院金属研究所
Abstract: 本发明涉及高温防护涂层技术领域，具体为一种与镍基合金界面不形成针状相的涂层及制备方法。其特征在于涂层由碳填隙的镍基、钴基或镍钴基合金和弥散分布的纳米碳化物颗粒组成；制备方法为通过调控真空阴极电弧等离子体原位反应制备，制备步骤包括：①对基材进行常规打磨、抛光和除油预处理，②安装合金靶材，抽真空并对基材进行离子溅射清洗，③引燃以涂层靶材为阴极的真空电弧等离子体，④以荷能300eV～1000eV的阳离子轰击激活工件表面，⑤调控含碳元素的气体分压通过等离子体活化反应沉积于工件表面形成涂层。该涂层能够避免与镍基高温合金界面处析出针状有害相，该方法具有工艺简单可控、适合批量化制备等优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114134545B
公开(公告)日：2023-05-12
申请号：CN202111227875.1
申请日：2021-10-21
Applicant: 中国科学院金属研究所
Abstract: 本发明涉及电镀铂技术领域，特别涉及一种在光亮金属表面电镀铂的镀液及其电镀方法。该镀液包含10～20g/L二亚硝基二氨铂盐、10～20g/L亚硝酸钠、1～2g/L柠檬酸和1～2g/L十二烷基硫酸钠。将各原料加入去离子水中，煮沸各原料至完全溶解形成电镀液；待电镀基材完全置于电镀液中通入电流，以铂网或镀铂钛网为阳极，以待电镀基材为阴极，同时在电镀过程利用磁力搅拌仪对电镀液进行搅拌，使电镀液保持均匀，电镀温度为80～90℃。本发明电镀方式简单，获得的电镀铂层均匀，孔隙率低，最重要的一点是电镀之前样品无需预处理，不会引入其他杂质，可提高涂层质量。
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公开(公告)号：CN112522664B
公开(公告)日：2022-06-07
申请号：CN202011410791.7
申请日：2020-12-04
Applicant: 中国科学院金属研究所
IPC: C23C8/36
Abstract: 本发明公开了一种钛合金低温氧氮化超硬超厚渗层及其制备方法和应用，属于金属材料表面处理技术领域。在钛合金部件表面上，通过低温等离子渗氧及后续的等离子氧氮化处理复合处理方案，获得表面超硬且渗层超厚的耐磨耐腐蚀氧氮化渗层。所述复合处理工艺控制温度在620～650℃范围内，渗层的表面硬度在Hv0.051100～2900范围内，表面化合物层厚度在5～20微米之间，渗层深度可达300微米。该工艺能够解决钛合金部件表面耐磨性较差，硬度较低的复合表面处理工艺技术，更因较低的工艺处理温度防止复杂钛合金部件的大幅度变形，可以避免高温等离子氮化处理过程中基材发生的相转变，保证钛合金原本的基材力学性能。
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公开(公告)号：CN113817407A
公开(公告)日：2021-12-21
申请号：CN202111108673.5
申请日：2021-09-22
Applicant: 中国科学院金属研究所
IPC: C09D183/04 , C09D7/61 , C09D5/10
Abstract: 本发明属于精细化工领域，具体为一种耐常温盐雾和高温循环交替腐蚀自修复涂料及其制备方法与应用。涂料由A和B双组分构成，按质量份数计，A组分包括有机硅树脂10～70份，耐高温填料10～60份，自修复填料10～60份，防沉剂5～50份，溶剂10～90份，B组分为固化剂，固化剂与有机硅树脂的质量比例为3:7。按比例称取耐常温盐雾和高温循环交替腐蚀自修复涂料A组分和B组分并混合均匀后，采用喷涂、刷涂或浸涂的方式，在经过喷砂或打磨处理的金属构件表面制备涂层，在洁净环境下进行室温固化24h以上。本发明涂料耐常温盐雾和高温循环交替腐蚀性能优良，能有效解决在常温盐雾和高温循环交替环境中的氧化和腐蚀问题。
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公开(公告)号：CN110396623B
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN201810379051.8
申请日：2018-04-25
Applicant: 中国科学院金属研究所 , 东北大学
Abstract: 本发明提供了一种适用于单晶镍基高温合金叶片的高温防护涂层材料，所述高温防护涂层材料的化学成分为1.5～10.0wt.％Cr，3.0～12.0wt.％Co，8.0～12.0wt.％Al，0～3.0wt.％Re，0～6.0wt.％W，0～2.0wt.％Mo，0.5～7.0wt.％Ta，0.01～0.2wt.％Hf，0.1～0.3wt.％Y，余量Ni；所述高温防护涂层材料在1050℃下相平衡组织为γ'相。采用所述高温防护涂层材料制备出的涂层的高温氧化性能优于MCrAlY(M＝Ni，Co，或NiCo)和β‑NiAl涂层，与NiPtAl涂层相当，涂层‑基体之间形成冶金结合，但不会像MCrAlY涂层、β‑NiAl涂层和NiPtAl涂层那样与单晶基体形成二次反应区，从而避免了涂层损害单晶基体力学性能问题。采用所述材料制备出的涂层可用作独立的抗高温耐腐蚀涂层使用，也可用作热障涂层粘结层，制备的热障涂层抗热冲击寿命优于NiPtAl/YSZ热障涂层。
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公开(公告)号：CN109735811B
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN201811036233.1
申请日：2018-09-06
Applicant: 中国科学院金属研究所 , 东北大学
Abstract: 本发明公开了一种大长径比内腔磁控溅射α‑Ta涂层的制备方法及其应用，属于磁控溅射镀膜技术领域。该方法是以大长径比内腔作为真空腔体，以圆柱磁控靶为沉积源，伸入内腔里进行沉积，其中靶材外壁与大长径比的直径差应控制在50～65mm之间，在调整磁控溅射参数后，使得管内壁表面处于辉光放电的负辉区内。大长径比管件加热至150～250℃之间。使用的电源为直流电源或脉冲电源，靶材为纯钽，工作气体为Ar，溅射功率密度为2.5W/cm2～10W/cm2之间。本发明能够沉积100％的α‑Ta涂层，其结合力和抗烧蚀性能显著优于常规的电镀铬涂层，以替代现阶段大批量使用的严重污染环境的镀铬工艺。
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