一种在地下管廊下方施工基坑的方法

    公开(公告)号:CN110409453A

    公开(公告)日:2019-11-05

    申请号:CN201910566760.1

    申请日:2019-06-27

    IPC分类号: E02D17/02 E02D17/04 E02D29/02

    摘要: 本发明公开了一种在地下管廊下方施工基坑的方法,包括以下步骤:S1、在目标基坑区域内,避开地下管廊与目标基坑区域的重叠位置,开挖基坑且在所述基坑的边缘设置围护结构;S2、位于地下管廊与所述基坑的边缘相交的位置,在该位置的地下管廊部分的两侧且位于基坑外侧的区域斜向下构筑加固管桩;S3、在位于S1中所述重叠位置的地下管廊的下方开挖该部分的基坑,并在所述重叠位置两侧的围护结构之间同步设置挡土结构。使用本发明的一种在地下管廊下方施工基坑的方法,不需要迁改地下管廊,既能完成基坑的施工。