具有在高孔隙率基底上浸渍的铂的氨泄漏催化剂

    公开(公告)号:CN106457216A

    公开(公告)日:2017-02-22

    申请号:CN201580031264.6

    申请日:2015-05-08

    Abstract: 公开了催化剂制品,其具有高孔隙率基底,在该高孔隙率基底的壁中含有铂、钯或其混合物,和在该高孔隙率基底的壁上的SCR催化剂涂层。该铂、钯或其混合物可以作为金属,或者作为负载的铂、钯或其混合物存在于该高孔隙率载体的壁中。该催化剂制品可用于将废气中的NOx选择性催化还原(SCR)和减少氨泄漏的量。描述了一种生产这种制品的方法。还描述了在SCR方法中使用该催化剂制品的方法,其中减少了氨泄漏的量。

    具有在高孔隙率基底上浸渍的铂的氨泄漏催化剂

    公开(公告)号:CN106457216B

    公开(公告)日:2020-05-12

    申请号:CN201580031264.6

    申请日:2015-05-08

    Abstract: 公开了催化剂制品,其具有高孔隙率基底,在该高孔隙率基底的壁中含有铂、钯或其混合物,和在该高孔隙率基底的壁上的SCR催化剂涂层。该铂、钯或其混合物可以作为金属,或者作为负载的铂、钯或其混合物存在于该高孔隙率载体的壁中。该催化剂制品可用于将废气中的NOx选择性催化还原(SCR)和减少氨泄漏的量。描述了一种生产这种制品的方法。还描述了在SCR方法中使用该催化剂制品的方法,其中减少了氨泄漏的量。

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