公开(公告)号：CN104335326B

公开(公告)日：2017-06-30

申请号：CN201380029684.1

申请日：2013-06-05

申请人： 应用材料公司

发明人： 戴维·K·卡尔森 ,  埃罗尔·安东尼奥·C·桑切斯 ,  肯里克·乔伊 ,  玛塞勒·E·约瑟夫森 ,  丹尼斯·德马斯 ,  埃姆雷·库瓦利奇 ,  穆罕默德·图格鲁利·萨姆特

IPC分类号： H01L21/02

CPC分类号： F25B21/02 ,  C23C16/448 ,  C23C16/4482

摘要： 在此提供用于热管理在基板处理中使用的前驱物的设备。在一些实施方式中，一种用于热管理在基板处理中使用的前驱物的设备可包括：主体，所述主体具有开口，所述开口依一定尺寸设计以接纳储存容器，所述储存容器内设置有液体或固体前驱物，所述主体由导热材料制造；一或多个热电装置，所述一或多个热电装置邻近所述开口而耦接至所述主体；以及散热体，所述散热体耦接至所述一或多个热电装置。

公开(公告)号：CN108538752A

公开(公告)日：2018-09-14

申请号：CN201810181692.2

申请日：2018-03-06

申请人： 应用材料公司

发明人： 劳拉·郝勒查克 ,  柴塔尼亚·A·普拉萨德 ,  埃姆雷·库瓦利奇

IPC分类号： H01L21/67

CPC分类号： H01L21/67109 ,  B04B7/04 ,  F01L9/04 ,  H01L21/02312 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/68792 ,  H01L21/67098

摘要： 本文描述的实施方式大体涉及具有用于预加热处理气体的旋转器盖的处理设备。所述设备包括腔室主体，所述腔室主体具有界定内部处理区的侧壁和底壁。所述腔室还包括设置在所述腔室主体的内部处理区中的基板支撑件、环支撑件和旋转器盖。所述旋转器盖设置在环支撑件上。所述旋转器盖是不透明石英材料。所述旋转器盖有利地提供更有效的处理气体加热，由能够承受处理条件同时提供更有效和均匀的处理的材料构成，且具有低CTE从而减少由于处理期间过度膨胀而导致的颗粒污染。

公开(公告)号：CN104335326A

公开(公告)日：2015-02-04

申请号：CN201380029684.1

申请日：2013-06-05

申请人： 应用材料公司

发明人： 戴维·K·卡尔森 ,  埃罗尔·安东尼奥·C·桑切斯 ,  肯里克·乔伊 ,  玛塞勒·E·约瑟夫森 ,  丹尼斯·德马斯 ,  埃姆雷·库瓦利奇 ,  穆罕默德·图格鲁利·萨姆特

IPC分类号： H01L21/02

CPC分类号： F25B21/02 ,  C23C16/448 ,  C23C16/4482 ,  H01L21/02

摘要： 在此提供用于热管理在基板处理中使用的前驱物的设备。在一些实施方式中，一种用于热管理在基板处理中使用的前驱物的设备可包括：主体，所述主体具有开口，所述开口依一定尺寸设计以接纳储存容器，所述储存容器内设置有液体或固体前驱物，所述主体由导热材料制造；一或多个热电装置，所述一或多个热电装置邻近所述开口而耦接至所述主体；以及散热体，所述散热体耦接至所述一或多个热电装置。

公开(公告)号：CN208368473U

公开(公告)日：2019-01-11

申请号：CN201820304691.8

申请日：2018-03-06

申请人： 应用材料公司

发明人： 劳拉·郝勒查克 ,  柴塔尼亚·A·普拉萨德 ,  埃姆雷·库瓦利奇

IPC分类号： H01L21/67

摘要： 本文描述的实施方式大体涉及具有用于热处理腔室的盖和用于处理基板的设备。所述设备包括腔室主体，所述腔室主体具有界定内部处理区的侧壁和底壁。所述腔室还包括设置在所述腔室主体的内部处理区中的基板支撑件、环支撑件和旋转器盖。所述旋转器盖设置在环支撑件上。所述旋转器盖是不透明石英材料。所述旋转器盖有利地提供更有效的处理气体加热，由能够承受处理条件同时提供更有效和均匀的处理的材料构成，且具有低CTE从而减少由于处理期间过度膨胀而导致的颗粒污染。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利