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公开(公告)号：CN101284608A
公开(公告)日：2008-10-15
申请号：CN200810109211.3
申请日：2008-02-01
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本发明提供一种入口锁系统、织网处理装置及使用其的一种方法。入口锁系统用于从织网供应向织网处理装置送入织网，该入口锁系统包括第一室，具有入口和出口，第二室，具有入口，第一密封，位于第一室的入口，第二密封，位于第一室与第二室之间，第一织网存储单元，位于第一室中；及第二织网存储单元，位于第二室中。
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公开(公告)号：CN111315917A
公开(公告)日：2020-06-19
申请号：CN201780096592.3
申请日：2017-11-15
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 根据第一方面，本公开内容提供了一种用于热处理基板的设备，所述设备包含至少一个加热元件和至少一个挡板，其中至少一个挡板可在基板与至少一个加热元件之间的第一位置与第二位置之间移动，并且至少一个挡板包含至少一个反射表面。根据另一方面，本公开内容提供了一种用于运输柔性基板的设备，所述设备包含根据第一方面的用于热处理基板的设备、基板运输控制器、和传感器，其中将基板运输经过用于热处理基板的设备。根据另一方面，本公开内容提供了一种用于热处理基板的方法，所述方法包含朝向基板发射辐射、和暂时反射辐射来限制对基板的加热。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109415804A
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201780009649.1
申请日：2017-06-14
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 托马斯·德皮施 , 于尔根·乌尔里奇 , 苏珊娜·施拉弗 , 斯特凡·海因 , 斯特凡·劳伦兹 , 沃尔特·文德尔穆特 , 比约恩·斯蒂克瑟-韦斯 , 沃尔克·哈克 , 托尔斯滕·布鲁诺·迪特尔 , 尼尔·莫里森 , 乌韦·赫尔曼斯 , 德克·瓦格纳 , 赖纳·克拉 , 克里斯多夫·卡森 , 瓦莱里亚·梅特
Abstract: 描述一种用于使用层堆叠涂覆柔性基板(10)的沉积设备(100)。所述沉积设备包含：第一卷筒腔室(110)，容纳用于提供柔性基板的存储卷筒；沉积腔室(120)，布置在第一卷筒腔室的下游，并且包含用于引导柔性基板经过多个沉积单元(121)的涂布滚筒(122)；第二卷筒腔室，布置在沉积腔室(120)的下游，并且容纳卷绕卷筒，用于在沉积后在卷绕卷筒上卷绕柔性基板；和辊组件，经构造以沿着部分凸起和部分凹陷的基板输送路径将柔性基板(10)从第一卷筒腔室输送到第二卷筒腔室。此外，描述一种用于涂覆柔性基板的方法，特别是使用所描述的沉积设备涂覆柔性基板的方法。
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公开(公告)号：CN102449726B
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201080023248.X
申请日：2010-05-25
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32 , C23C14/505 , H01J37/3277
Abstract: 本发明描述了用于在真空腔室内将沉积气转变成等离子体相并且用于通过该等离子体相在沿基底输送方向移动的基底上沉积薄膜的等离子体沉积源，该等离子体沉积源包括多区域电极设备和RF功率生成器，该多区域电极设备适于配置在该真空腔室中并且包括被配置为与移动基底相对的至少一个RF电极；该RF功率生成器适于向该RF电极供应RF功率。该RF电极具有被配置在该RF电极的一个边缘处的至少一个气体入口和被配置在该RF电极的相对边缘处的至少一个气体出口。归一化等离子体容积由被界定在电极表面与相对基底位置之间的等离子体容积除以电极长度来提供。该归一化等离子体容积被调整到沉积气的耗尽长度。
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公开(公告)号：CN102449726A
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN201080023248.X
申请日：2010-05-25
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32 , C23C14/505 , H01J37/3277
Abstract: 本发明描述了用于在真空腔室内将沉积气转变成等离子体相并且用于通过该等离子体相在沿基底输送方向移动的基底上沉积薄膜的等离子体沉积源，该等离子体沉积源包括多区域电极设备和RF功率生成器，该多区域电极设备适于配置在该真空腔室中并且包括被配置为与移动基底相对的至少一个RF电极；该RF功率生成器适于向该RF电极供应RF功率。该RF电极具有被配置在该RF电极的一个边缘处的至少一个气体入口和被配置在该RF电极的相对边缘处的至少一个气体出口。归一化等离子体容积由被界定在电极表面与相对基底位置之间的等离子体容积除以电极长度来提供。该归一化等离子体容积被调整到沉积气的耗尽长度。
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公开(公告)号：CN208501092U
公开(公告)日：2019-02-15
申请号：CN201721276952.1
申请日：2017-09-30
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 托马斯·德皮施 , 于尔根·乌尔里奇 , 苏珊娜·施拉弗 , 斯特凡·海因 , 斯特凡·劳伦兹 , 沃尔特·文德尔穆特 , 比约恩·斯蒂克瑟-韦斯 , 沃尔克·哈克 , 托尔斯滕·布鲁诺·迪特尔 , 尼尔·莫里森 , 乌韦·赫尔曼斯 , 德克·瓦格纳 , 赖纳·克拉 , 克里斯多夫·卡森 , 瓦莱里亚·梅特
Abstract: 描述一种用于使用层堆叠涂覆柔性基板(10)的沉积设备(100)。所述沉积设备包含：第一卷筒腔室(110)，容纳用于提供柔性基板的存储卷筒；沉积腔室(120)，布置在第一卷筒腔室的下游，并且包含用于引导柔性基板经过多个沉积单元(121)的涂布滚筒(122)；第二卷筒腔室，布置在沉积腔室(120)的下游，并且容纳卷绕卷筒,用于在沉积后在卷绕卷筒上卷绕柔性基板；和辊组件，经构造以沿着部分凸起和部分凹陷的基板输送路径将柔性基板(10)从第一卷筒腔室输送到第二卷筒腔室。
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公开(公告)号：CN219525699U
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN202223152087.3
申请日：2022-11-24
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 描述一种用于支撑真空卷材处理设备的轴承板的磁性稳定器和一种卷材处理设备。所述磁性稳定器包括：磁体，所述磁体被配置用于与所述轴承板接合；支撑件，所述支撑件能机械地耦接到所述卷材处理设备的壁；和磁体保持器，所述磁体保持器耦接到所述磁体。所述磁体保持器被可移动地提供在所述支撑件内以定位所述磁体来与所述轴承板接合。
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