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公开(公告)号：CN114223025B
公开(公告)日：2024-08-20
申请号：CN202080046783.0
申请日：2020-06-16
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本文所描述和讨论的实施方式大体涉及柔性或可折叠的显示装置，且更具体地涉及柔性覆盖透镜组件。在一个或多个实施方式中，柔性覆盖透镜组件包含：基板、抗指纹涂层、以及设置在基板与抗指纹涂层之间的粘性促进层。
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公开(公告)号：CN110168135A
公开(公告)日：2019-08-23
申请号：CN201780082884.1
申请日：2017-01-12
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 尼尔·莫里森 , 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 , 海克·兰特格雷夫 , 斯蒂芬·海因 , 托比亚斯·斯托利
Abstract: 描述一种适用于在触控屏幕面板中使用的硬涂层系统(100)。硬涂层系统(100)包括柔性基板(101)及设置于柔性基板(101)上的层堆叠物(110)。层堆叠物(110)包括粘附促进层(111)及无机硬涂顶层(113)，粘附促进层设置于柔性基板(101)上。粘附促进层(111)构造成以共价键结合于柔性基板的表面，其中粘附促进层(111)在与柔性基板(101)的界面(102)处的机械性质适用于柔性基板(101)的机械性质。
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公开(公告)号：CN102511073A
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：CN201080042207.5
申请日：2010-09-15
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01L21/67132 , B65H23/24 , B65H23/32 , B65H2601/254 , B65H2801/87
Abstract: 提供一种模组化基板处理系统，用以处理柔性基板。该系统包含于水平方向中相互邻近设置的至少两个处理模组。该处理模组包含气垫滚轮，气垫滚轮适于无接触导引柔性基板，并适于使柔性基板在垂直方向中转向。
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公开(公告)号：CN118522220A
公开(公告)日：2024-08-20
申请号：CN202410732584.5
申请日：2020-06-16
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本文所描述和讨论的实施方式大体涉及柔性或可折叠的显示装置，且更具体地涉及柔性覆盖透镜组件。在一个或多个实施方式中，柔性覆盖透镜组件包含：玻璃层、设置在玻璃层上的冲击吸收层、设置在冲击吸收层上的防潮层、设置在防潮层上的基板、具有约0.4GPa至约1.5GPa范围内的纳米压痕硬度且设置在基板上的湿硬涂层、设置在湿硬涂层上的粘性促进层、设置在粘性促进层上的抗反射层、具有约1GPa至约5Gpa范围内的纳米压痕硬度且设置在抗反射层上的干硬涂层、以及设置在干硬涂层上的抗指纹涂层。
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公开(公告)号：CN108603291B
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN201680081594.0
申请日：2016-02-12
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 提供一种用于柔性基板的真空处理系统(100)。真空处理系统(100)包括：第一腔室(110)，适于容纳供应卷(111)以用于提供柔性基板；第二腔室(120)，适于容纳收紧卷(121)以用于在处理之后存储柔性基板(160)；基板运输布置，包括用于将柔性基板从第一腔室(110)引导到第二腔室(120)的一个或多个引导辊(104)；维护区(130)，在第一腔室(110)与第二腔室(120)之间，其中维护区(130)允许通向或属于第一腔室(110)和第二腔室(120)中的至少一个腔室的维护通道；和第一处理腔室(140)，用于处理柔性基板(10)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114041181A
公开(公告)日：2022-02-11
申请号：CN202080046782.6
申请日：2020-06-16
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本文所描述和讨论的实施方式大体涉及柔性或可折叠的显示装置，且更具体地涉及柔性覆盖透镜组件。在一个或多个实施方式中，柔性覆盖透镜组件包含：玻璃层、设置在玻璃层上的冲击吸收层、设置在冲击吸收层上的防潮层、设置在防潮层上的基板、具有约0.4GPa至约1.5GPa范围内的纳米压痕硬度且设置在基板上的湿硬涂层、设置在湿硬涂层上的粘性促进层、设置在粘性促进层上的抗反射层、具有约1GPa至约5Gpa范围内的纳米压痕硬度且设置在抗反射层上的干硬涂层、以及设置在干硬涂层上的抗指纹涂层。
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公开(公告)号：CN114026627A
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN202080046786.4
申请日：2020-06-16
Applicant: 应用材料公司
IPC: G09F9/30 , H01L51/00 , H01L51/52 , G02B1/11 , G02B1/116 , G02B1/14 , G02B1/18 , G02F1/1333 , H05K5/03
Abstract: 本文所描述和讨论的实施方式大体涉及柔性或可折叠的显示装置，且更具体地涉及柔性覆盖透镜组件。在一个或多个实施方式中，柔性覆盖透镜组件包含：玻璃层、位于玻璃层上的粘性促进层、设置在粘性促进层上的抗反射层、具有约1GPa至约5Gpa范围内的纳米压痕硬度且设置在抗反射层上的干硬涂层、以及设置在干硬涂层上的抗指纹涂层。
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公开(公告)号：CN109415804A
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201780009649.1
申请日：2017-06-14
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 托马斯·德皮施 , 于尔根·乌尔里奇 , 苏珊娜·施拉弗 , 斯特凡·海因 , 斯特凡·劳伦兹 , 沃尔特·文德尔穆特 , 比约恩·斯蒂克瑟-韦斯 , 沃尔克·哈克 , 托尔斯滕·布鲁诺·迪特尔 , 尼尔·莫里森 , 乌韦·赫尔曼斯 , 德克·瓦格纳 , 赖纳·克拉 , 克里斯多夫·卡森 , 瓦莱里亚·梅特
Abstract: 描述一种用于使用层堆叠涂覆柔性基板(10)的沉积设备(100)。所述沉积设备包含：第一卷筒腔室(110)，容纳用于提供柔性基板的存储卷筒；沉积腔室(120)，布置在第一卷筒腔室的下游，并且包含用于引导柔性基板经过多个沉积单元(121)的涂布滚筒(122)；第二卷筒腔室，布置在沉积腔室(120)的下游，并且容纳卷绕卷筒，用于在沉积后在卷绕卷筒上卷绕柔性基板；和辊组件，经构造以沿着部分凸起和部分凹陷的基板输送路径将柔性基板(10)从第一卷筒腔室输送到第二卷筒腔室。此外，描述一种用于涂覆柔性基板的方法，特别是使用所描述的沉积设备涂覆柔性基板的方法。
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公开(公告)号：CN102449726B
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201080023248.X
申请日：2010-05-25
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32 , C23C14/505 , H01J37/3277
Abstract: 本发明描述了用于在真空腔室内将沉积气转变成等离子体相并且用于通过该等离子体相在沿基底输送方向移动的基底上沉积薄膜的等离子体沉积源，该等离子体沉积源包括多区域电极设备和RF功率生成器，该多区域电极设备适于配置在该真空腔室中并且包括被配置为与移动基底相对的至少一个RF电极；该RF功率生成器适于向该RF电极供应RF功率。该RF电极具有被配置在该RF电极的一个边缘处的至少一个气体入口和被配置在该RF电极的相对边缘处的至少一个气体出口。归一化等离子体容积由被界定在电极表面与相对基底位置之间的等离子体容积除以电极长度来提供。该归一化等离子体容积被调整到沉积气的耗尽长度。
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公开(公告)号：CN102449726A
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN201080023248.X
申请日：2010-05-25
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32 , C23C14/505 , H01J37/3277
Abstract: 本发明描述了用于在真空腔室内将沉积气转变成等离子体相并且用于通过该等离子体相在沿基底输送方向移动的基底上沉积薄膜的等离子体沉积源，该等离子体沉积源包括多区域电极设备和RF功率生成器，该多区域电极设备适于配置在该真空腔室中并且包括被配置为与移动基底相对的至少一个RF电极；该RF功率生成器适于向该RF电极供应RF功率。该RF电极具有被配置在该RF电极的一个边缘处的至少一个气体入口和被配置在该RF电极的相对边缘处的至少一个气体出口。归一化等离子体容积由被界定在电极表面与相对基底位置之间的等离子体容积除以电极长度来提供。该归一化等离子体容积被调整到沉积气的耗尽长度。
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