具有用于激光图案化的集成光热阻挡层的薄膜结构和装置

    公开(公告)号:CN103733311B

    公开(公告)日:2019-04-19

    申请号:CN201280038837.4

    申请日:2012-08-08

    摘要: 通过激光直接图案化选择性除去诸如太阳能电池、电致变色装置和薄膜电池之类的薄膜结构和装置的指定层是通过将光热阻挡层包括在紧邻于待由激光烧蚀除去的指定层的装置/结构堆叠中来实现的。光阻挡层是吸收或反射穿透介电层/半导体层的一部分激光能量的金属层,并且热阻挡层是具有足够低的热扩散系数的导电层,以减少流入下层金属层的热量,使得下层金属层的温度达不到熔化温度Tm,或在一些实施方式中,使得下层金属层的温度在激光直接图案化期间达不到(Tm)/3。