公开(公告)号：CN104813449A

公开(公告)日：2015-07-29

申请号：CN201380060373.1

申请日：2013-11-12

申请人： 应用材料公司

发明人： J·D·戴维 ,  B·A·斯韦德克 ,  D·E·贝内特 ,  T·H·奥斯特赫尔德 ,  B·切里安 ,  D·J·本韦格努 ,  H·Q·李 ,  A·L·丹布拉 ,  J·兰加拉简

IPC分类号： H01L21/304

CPC分类号： B24B37/005 ,  B24B37/013 ,  B24B37/04 ,  B24B37/345

摘要： 本发明提供一种研磨设备，该研磨设备包括：在平台上得以支撑的数个站，该等数个站包括至少两个研磨站及一传送站，每一研磨站包括一平台以支撑研磨垫；数个承载头，该等承载头自轨道悬置及可沿轨道移动，使得每一研磨站可选择性地定位在该等站处；及控制器，该控制器经配置以控制承载头沿轨道的运动，使得在每一研磨站处的研磨期间仅有单个承载头定位在研磨站中。

公开(公告)号：CN104813449B

公开(公告)日：2019-08-16

申请号：CN201380060373.1

申请日：2013-11-12

申请人： 应用材料公司

发明人： J·D·戴维 ,  B·A·斯韦德克 ,  D·E·贝内特 ,  T·H·奥斯特赫尔德 ,  B·切里安 ,  D·J·本韦格努 ,  H·Q·李 ,  A·L·丹布拉 ,  J·兰加拉简

IPC分类号： H01L21/304

CPC分类号： B24B37/005 ,  B24B37/013 ,  B24B37/04 ,  B24B37/345

摘要： 本发明提供一种研磨设备，该研磨设备包括：在平台上得以支撑的数个站，该等数个站包括至少两个研磨站及一传送站，每一研磨站包括一平台以支撑研磨垫；数个承载头，该等承载头自轨道悬置及可沿轨道移动，使得每一研磨站可选择性地定位在该等站处；及控制器，该控制器经配置以控制承载头沿轨道的运动，使得在每一研磨站处的研磨期间仅有单个承载头定位在研磨站中。