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发明公开
用于光刻应用的膜堆叠审中-实审

公开(公告)号：CN113490997A

公开(公告)日：2021-10-08

申请号：CN202080009819.8

申请日：2020-02-25

申请人： 应用材料公司

发明人： 辛格·特金德 , 苏克图·阿伦·帕里克 , 丹尼尔·李·迪尔 , M·A·斯托尔菲 , 乔斯林甘·罗摩林甘 , 曹勇 , 阎俐凡 , 志一·郎 , 和勇·大卫·黄

IPC分类号： H01L21/033 , H01L21/311

摘要： 本文提供了用于形成包含硬掩模层的膜堆叠并蚀刻此硬掩模层以在膜堆叠中形成特征的方法。于此所述的方法通过在膜堆叠中形成的适当的轮廓管理方案来促进特征的轮廓和尺寸控制。在一个或多个实施方式中，一种用于蚀刻硬掩模层的方法包括以下步骤：在基板上形成硬掩模层，其中硬掩模层包含含金属材料，所述含金属材料包括具有原子数大于28的金属元素；向基板供应蚀刻气体混合物；和蚀刻由光刻胶层暴露的硬掩模层。