公开(公告)号：CN101110334A

公开(公告)日：2008-01-23

申请号：CN200710136092.6

申请日：2007-07-17

申请人： 应用材料有限公司

发明人： E·科拉特 ,  R·D·戈德堡 ,  C·伯吉斯

IPC分类号： H01J37/244 ,  H01J37/02 ,  H01J37/317 ,  H01L21/265

CPC分类号： H01J37/244 ,  H01J37/304 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/24465 ,  H01J2237/24507 ,  H01J2237/24542 ,  H01J2237/30477

摘要： 本发明涉及一种用于离子注入机的挡束器，其提供对入射于其上的离子束流的测量且可用于离子束优化。所提供的离子注入机的挡束器包括电荷收集器，其配备有分段表面以接收其上的离子束，其中所述表面被分成至少两端，一段绕另一段延伸，且其中两段中的每一段可用于当离子束入射于其上时，提供指示该段所收集的电荷的一个或多个信号。这样的挡束器是有利的，原因是其提供了离子束分布信息而无需扫描离子束。

公开(公告)号：CN101110334B

公开(公告)日：2011-06-22

申请号：CN200710136092.6

申请日：2007-07-17

申请人： 应用材料有限公司

发明人： E·科拉特 ,  R·D·戈德堡 ,  C·伯吉斯

IPC分类号： H01J37/244 ,  H01J37/02 ,  H01J37/317 ,  H01L21/265

CPC分类号： H01J37/244 ,  H01J37/304 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/24465 ,  H01J2237/24507 ,  H01J2237/24542 ,  H01J2237/30477

摘要： 本发明涉及一种用于离子注入机的挡束器，其提供对入射于其上的离子束流的测量且可用于离子束优化。所提供的离子注入机的挡束器包括电荷收集器，其配备有分段表面以接收其上的离子束，其中所述表面被分成至少两端，一段绕另一段延伸，且其中两段中的每一段可用于当离子束入射于其上时，提供指示该段所收集的电荷的一个或多个信号。这样的挡束器是有利的，原因是其提供了离子束分布信息而无需扫描离子束。

公开(公告)号：CN101086945A

公开(公告)日：2007-12-12

申请号：CN200710108987.9

申请日：2007-06-11

申请人： 应用材料有限公司

发明人： C·伯吉斯 ,  M·基恩

IPC分类号： H01J37/317 ,  H01L21/265 ,  C30B31/22

CPC分类号： H01J37/3171 ,  H01J37/302 ,  H01J2237/30472 ,  H01L21/265

摘要： 本发明涉及一种调节诸如可用在半导体器件制造中的离子注入机中的离子束的方法。存在许多与离子注入机的操作相关的操作参数，这些操作参数影响到达晶片的离子束。控制这些参数允许对离子束进行调节，以提供用于任何特定注入的最佳离子束电流、能量、大小和形状。本发明提供了一种调节离子束的方法，包括：检索一组参数，这组参数中至少一些参数被存储在动态数据库中；根据检索的这组参数来配置该离子注入机从而提供离子束；通过改变一个或多个所述参数来优化所述离子束；以及对所述动态数据库中存储的、在优化期间变化的所述参数进行更新。