用于进行等离子体化学气相沉积工艺的方法和设备

    公开(公告)号:CN107893217B

    公开(公告)日:2021-04-27

    申请号:CN201710931629.1

    申请日:2017-10-09

    IPC分类号: C23C16/513

    摘要: 本发明涉及一种用于进行等离子体化学气相沉积工艺的方法和设备。该设备包括大致圆柱形的谐振器,该谐振器设置有圆柱形外壁和同轴的圆柱形内壁,在该圆柱形外壁和该圆柱形内壁之间限定能够以工作频率进行工作的谐振腔。该谐振腔绕该圆柱形外壁和该圆柱形内壁的圆柱轴在圆周方向上延伸。此外,圆柱形外壁包括能够连接至输入波导的输入端口。另外,圆柱形内壁包括绕圆柱轴在圆周方向上延伸的狭缝部。限定狭缝部的孔径的最大尺寸小于工作频率的波长的一半。