一种Ge掺Bi2Te3热电薄膜制备方法

    公开(公告)号:CN110055494A

    公开(公告)日:2019-07-26

    申请号:CN201910377764.5

    申请日:2019-05-05

    摘要: 本发明公开了一种Ge掺Bi2Te3热电薄膜制备方法,包括以下步骤:步骤1,将硅玻璃基片进行清洗,在丙酮中进行超声并进行干燥;步骤2,硅玻璃基片放入舱室进行烘干;步骤3,将硅玻璃基片放入磁控溅射基片台,进行溅射;步骤4,二次溅射,采用在线加热,真空保温去应力。本发明的优点在于:采用的是在线加热的方式,采用磁控溅射技术,改变Ge含量比,提高Bi2Te3薄膜的性能。对于真空条件下降温保护去应力,便于薄膜和基板之间进行结合。操作简单。

    核用锆合金包壳表面耐高温腐蚀的高熵合金涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN109666911A

    公开(公告)日:2019-04-23

    申请号:CN201910084692.5

    申请日:2019-01-29

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/16 C22C30/02

    摘要: 本发明公开了一种核用锆合金包壳表面耐高温腐蚀的高熵合金涂层及其制备方法,沉积于Zr合金表面的高熵合金涂层为CrCuFeMoNi高熵合金,其中Cr、Cu、Fe、Mo、Ni在高熵合金中所占原子百分比为:Cr 25~35%,Cu 20~30%,Fe 10~14%,Mo 15~20%,Ni 15~20%。该高熵合金涂层通过多靶磁控溅射技术沉积于Zr合金表面。该CrCuFeMoNi高熵合金涂层,不仅提高了锆合金表面的硬度,改善了耐腐蚀性和耐辐照性,而且表现出良好的耐高温、耐腐蚀性能,能够满足实际工程应用,是事故容错燃料包壳涂层的潜在候选材料。本发明采用的多靶磁控溅射技术成熟,操作简单,可实现核用锆合金包壳表面耐高温腐蚀的高熵合金涂层在工程领域的工业化生产,具有很好的发展前景。

    一种含钨多层硬质复合涂层及制备方法

    公开(公告)号:CN117305782A

    公开(公告)日:2023-12-29

    申请号:CN202311176727.0

    申请日:2023-09-13

    IPC分类号: C23C14/34 C23C14/16

    摘要: 本发明涉及一种含钨多层硬质复合涂层的制备方法,属于刀具涂层材料领域。本发明的含钨多层硬质复合涂层中包含钛、铝、铬、钨、氮五种元素形成的中间相或化合物,所述涂层的含钨量为5wt%~30wt%,所述掺杂微量元素的硬质涂层的包括AlN、CrN、TiN、WN2以及上述结构的不饱和相、中间相及间隙化合物。本发明的含钨多层硬质复合涂层为一种新的刀具涂层材料,含有本发明的含钨多层硬质复合涂层具有良好的高温氧化性,同时具有优异的耐腐蚀性,能够满足特殊工况下的加工需求,可延长刀具使用寿命,扩展了刀具的应用范围,节约成本,提高生产效率。

    核用锆合金包壳表面耐高温腐蚀的高熵合金涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN109666911B

    公开(公告)日:2020-04-21

    申请号:CN201910084692.5

    申请日:2019-01-29

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/16 C22C30/02

    摘要: 本发明公开了一种核用锆合金包壳表面耐高温腐蚀的高熵合金涂层及其制备方法,沉积于Zr合金表面的高熵合金涂层为CrCuFeMoNi高熵合金,其中Cr、Cu、Fe、Mo、Ni在高熵合金中所占原子百分比为:Cr 25~35%,Cu 20~30%,Fe 10~14%,Mo 15~20%,Ni 15~20%。该高熵合金涂层通过多靶磁控溅射技术沉积于Zr合金表面。该CrCuFeMoNi高熵合金涂层,不仅提高了锆合金表面的硬度,改善了耐腐蚀性和耐辐照性,而且表现出良好的耐高温、耐腐蚀性能,能够满足实际工程应用,是事故容错燃料包壳涂层的潜在候选材料。本发明采用的多靶磁控溅射技术成熟,操作简单,可实现核用锆合金包壳表面耐高温腐蚀的高熵合金涂层在工程领域的工业化生产,具有很好的发展前景。

    核用锆合金表面CrN涂层的制备方法及产品

    公开(公告)号:CN109852943B

    公开(公告)日:2020-06-09

    申请号:CN201910195924.4

    申请日:2019-03-15

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/06 G21F1/12

    摘要: 本发明公开了一种核用锆合金表面CrN涂层的制备方法及产品,通过多靶磁控溅射技术,调整溅射功率、基体温度和偏压,在Zr合金基体表面制备CrN涂层。本发明通过调整基体偏压增加了沉积粒子的能量,从而增强了沉积粒子对Zr合金基体表面的轰击作用,促进CrN涂层与Zr合金基体界面处的结合,进而增加CrN涂层与Zr合金基体之间的结合力,得到沉积于Zr合金基体表面的致密均匀、结合性能优异、厚度较大的CrN涂层,这对于在锆合金表面制备满足工程应用厚度(10μm以上)的保护性涂层具有重要的科学意义和工程应用价值。

    核用锆合金表面CrN涂层的制备方法及产品

    公开(公告)号:CN109852943A

    公开(公告)日:2019-06-07

    申请号:CN201910195924.4

    申请日:2019-03-15

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/06 G21F1/12

    摘要: 本发明公开了一种核用锆合金表面CrN涂层的制备方法及产品,通过多靶磁控溅射技术,调整溅射功率、基体温度和偏压,在Zr合金基体表面制备CrN涂层。本发明通过调整基体偏压增加了沉积粒子的能量,从而增强了沉积粒子对Zr合金基体表面的轰击作用,促进CrN涂层与Zr合金基体界面处的结合,进而增加CrN涂层与Zr合金基体之间的结合力,得到沉积于Zr合金基体表面的致密均匀、结合性能优异、厚度较大的CrN涂层,这对于在锆合金表面制备满足工程应用厚度(10μm以上)的保护性涂层具有重要的科学意义和工程应用价值。