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公开(公告)号:CN108476607B
公开(公告)日:2020-09-25
申请号:CN201680076117.5
申请日:2016-12-26
Applicant: 拓自达电线株式会社 , 东丽KP薄膜股份有限公司
Abstract: 电磁波屏蔽膜(1)包括:由以镍为主要成分的第1金属层(5)和以铜为主要成分的第2金属层(6)构成的屏蔽层(2),设置于屏蔽层(2)的第2金属层(6)一侧的面上的接合剂层(3),设置于屏蔽层(2)的第1金属层一侧的面上的保护层(4)。第2金属层(6)的平均晶粒尺寸为50nm以上200nm以下。
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公开(公告)号:CN108476607A
公开(公告)日:2018-08-31
申请号:CN201680076117.5
申请日:2016-12-26
Applicant: 拓自达电线株式会社 , 东丽KP薄膜股份有限公司
Abstract: 电磁波屏蔽膜(1)包括:由以镍为主要成分的第1金属层(5)和以铜为主要成分的第2金属层(6)构成的屏蔽层(2),设置于屏蔽层2的第2金属层(6)一侧的面上的接合剂层3,设置于屏蔽层2的第1金属层一侧的面上的保护层(4)。第2金属层(6)的平均晶粒尺寸为50nm以上200nm以下。
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公开(公告)号:CN107079611A
公开(公告)日:2017-08-18
申请号:CN201580063071.9
申请日:2015-12-03
Applicant: 拓自达电线株式会社
IPC: H05K9/00 , C09J7/02 , C09J201/00 , H05K1/02
CPC classification number: H05K9/00 , C09J7/20 , C09J201/00 , H05K1/02
Abstract: 电磁波屏蔽膜含有:有凹凸的导电性屏蔽层110、覆盖凹凸的接合剂层120。凹凸的最大峰高的值大于接合剂层120的厚度。
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公开(公告)号:CN115397945A
公开(公告)日:2022-11-25
申请号:CN202280003650.4
申请日:2022-03-11
Applicant: 拓自达电线株式会社
IPC: C09K5/14 , H01L23/36 , C08L101/00 , C08K3/22 , C08K3/28
Abstract: 本发明的目的在于提供一种导热性优越、具有绝缘性、介电常数低、且设计性优越的导热片。导热片1包括粘结剂成分11、氧化钛、氮化钛、以及上述成分以外的导热性填料12,氧化钛相对于氧化钛及氮化钛的合计值的比例为20~90质量%。优选导热片1表面的L*a*b*表色系统中的L*值为41以下。优选相对于导热性填料12的总量100质量份来说,氧化钛及氮化钛的合计含有量为0.3~10.0质量份。
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