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公开(公告)号：CN103198841A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201310002596.4
申请日：2013-01-05
申请人： 拜耳知识产权有限责任公司
IPC分类号： G11B7/245 , G11B7/24044
CPC分类号： B32B27/40 , B42D25/29 , B42D25/328 , G03H1/0252 , G03H2001/186 , G03H2250/39 , G03H2260/12 , G11B7/24044 , G11B7/245 , Y10T428/24802 , Y10T428/31554
摘要： 本发明涉及一种层压结构，其包括保护层和经曝光的光聚合物层，该层压结构可通过至少一种辐射固化树脂I)，异氰酸酯官能化树脂II)和光引发剂体系III)反应得到，其中辐射固化树脂I)含有≤5重量%的重均分子量 1000的化合物，异氰酸酯官能化树脂II)含有≤5重量%的重均分子量
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公开(公告)号：CN103153948B
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201180049201.5
申请日：2011-08-10
申请人： 拜耳知识产权有限责任公司
IPC分类号： C07C323/12 , C08G18/67 , C08L75/16 , G03F7/039
CPC分类号： G03C1/733 , C07C323/12 , C09D175/04 , G03F7/001 , G03F7/0046 , G03F7/027 , G03H1/30 , G03H2001/0264 , G03H2260/12 , G11B7/24044 , G11B7/245
摘要： 本发明涉及式(I)化合物，其中X为CH3或氢，Z为直链或支链C2至C4烷基，R为直链或支链的，任选杂原子取代的脂族、芳族或芳脂族基团，Y各自独立地为氢、甲基、乙基、丙基、正丁基、叔丁基、氯、溴、碘、甲硫基、苯基或苯硫基，n为0至4，并且m为0至5。本发明还涉及该化合物作为光敏聚合物制剂中书写单体的用途。此外，包含至少一种多异氰酸酯组分、多元醇组分、光引发剂和作为书写单体的式(I)化合物的光敏聚合物制剂，以及所述光敏聚合物制剂用于制备全息介质的用途同样是本发明的主题。
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公开(公告)号：CN103153948A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201180049201.5
申请日：2011-08-10
申请人： 拜耳知识产权有限责任公司
IPC分类号： C07C323/12 , C08G18/67 , C08L75/16 , G03F7/039
CPC分类号： G03C1/733 , C07C323/12 , C09D175/04 , G03F7/001 , G03F7/0046 , G03F7/027 , G03H1/30 , G03H2001/0264 , G03H2260/12 , G11B7/24044 , G11B7/245
摘要： 本发明涉及式(I)化合物，其中X为CH3或氢，Z为直链或支链C2至C4烷基，R为直链或支链的，任选杂原子取代的脂族、芳族或芳脂族基团，Y各自独立地为氢、甲基、乙基、丙基、正丁基、叔丁基、氯、溴、碘、甲硫基、苯基或苯硫基，n为0至4，并且m为0至5。本发明还涉及该化合物作为光敏聚合物制剂中书写单体的用途。此外，包含至少一种多异氰酸酯组分、多元醇组分、光引发剂和作为书写单体的式(I)化合物的光敏聚合物制剂，以及所述光敏聚合物制剂用于制备全息介质的用途同样是本发明的主题。
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