离子注入装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105321790A

    公开(公告)日:2016-02-10

    申请号:CN201510245840.9

    申请日:2015-05-14

    IPC分类号: H01J37/317 H01J37/30

    摘要: 本发明提供一种能够广泛使用的离子注入装置。本发明的离子注入装置具备扫描单元(1000),该扫描单元包括:扫描电极装置(400),向沿着基准轨道(Z)射入的离子束B施加偏转电场,以向与基准轨道(Z)正交的横向扫描离子束(B);及上游电极装置(300),由设置于扫描电极装置(400)的上游的多个电极体构成。扫描电极装置(400)具备隔着基准轨道(Z)横向对置而设的一对扫描电极(410R,410L)及隔着基准轨道(Z)而在与横向正交的纵向对置而设的一对射束输送补正电极(450)。一对射束输送补正电极(450)分别在扫描电极装置(400)的入口(402)附近具有向基准轨道(Z)纵向延伸的射束输送补正入口电极体(454)。

    离子注入装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105304441B

    公开(公告)日:2018-04-20

    申请号:CN201510245654.5

    申请日:2015-05-14

    IPC分类号: H01J37/317

    摘要: 本发明提供一种能够广泛使用的离子注入装置。本发明的离子注入装置具备扫描单元(1000),该扫描单元包括:扫描电极装置(400),向沿着基准轨道(Z)射入的离子束(B)施加偏转电场,以向与基准轨道(Z)正交的横向扫描离子束(B);及下游电极装置(500),配置于扫描电极装置(400)的下游,且设有供横向扫描的离子束(B)通过的开口部。扫描电极装置(400)具有隔着基准轨道(Z)横向对置而设的一对扫描电极(410R,410L)。下游电极装置(500)的开口部具有电极体,该电极体构成为,与基准轨道(Z)及横向双向正交的纵向开口宽度和/或沿着基准轨道(Z)的方向的厚度,在基准轨道(Z)所处的中央部和与扫描电极(410R,410L)的下游端部(422)对置的位置附近不同。

    离子注入装置
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105321790B

    公开(公告)日:2018-01-16

    申请号:CN201510245840.9

    申请日:2015-05-14

    IPC分类号: H01J37/317 H01J37/30

    摘要: 本发明提供一种能够广泛使用的离子注入装置。本发明的离子注入装置具备扫描单元(1000),该扫描单元包括:扫描电极装置(400),向沿着基准轨道(Z)射入的离子束B施加偏转电场,以向与基准轨道(Z)正交的横向扫描离子束(B);及上游电极装置(300),由设置于扫描电极装置(400)的上游的多个电极体构成。扫描电极装置(400)具备隔着基准轨道(Z)横向对置而设的一对扫描电极(410R,410L)及隔着基准轨道(Z)而在与横向正交的纵向对置而设的一对射束输送补正电极(450)。一对射束输送补正电极(450)分别在扫描电极装置(400)的入口(402)附近具有向基准轨道(Z)纵向延伸的射束输送补正入口电极体(454)。

    离子注入装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105304441A

    公开(公告)日:2016-02-03

    申请号:CN201510245654.5

    申请日:2015-05-14

    IPC分类号: H01J37/317

    摘要: 本发明提供一种能够广泛使用的离子注入装置。本发明的离子注入装置具备扫描单元(1000),该扫描单元包括:扫描电极装置(400),向沿着基准轨道(Z)射入的离子束(B)施加偏转电场,以向与基准轨道(Z)正交的横向扫描离子束(B);及下游电极装置(500),配置于扫描电极装置(400)的下游,且设有供横向扫描的离子束(B)通过的开口部。扫描电极装置(400)具有隔着基准轨道(Z)横向对置而设的一对扫描电极(410R,410L)。下游电极装置(500)的开口部具有电极体,该电极体构成为,与基准轨道(Z)及横向双向正交的纵向开口宽度和/或沿着基准轨道(Z)的方向的厚度,在基准轨道(Z)所处的中央部和与扫描电极(410R,410L)的下游端部(422)对置的位置附近不同。