一种设备内部的温度保护方法、装置、设备及系统

    公开(公告)号:CN116820156A

    公开(公告)日:2023-09-29

    申请号:CN202310741662.3

    申请日:2023-06-20

    IPC分类号: G05D23/20

    摘要: 本发明提供了一种设备内部的温度保护方法、装置、设备及系统,该方法包括:接收至少两个温度传感器发送的温度数据;根据所述温度数据,确定目标调整策略,所述目标调整策略用于对密闭设备内部的温度进行降温;将所述目标调整策略发送给密闭设备内部的温度调整部件和/或工艺执行部件;其中,所述目标调整策略用于指示所述温度调整部件和/或所述工艺执行部件调整运行状态。本发明实施例的设备内部的温度保护方法,能够在密闭设备的内部空间的温度较高的情况下对密闭设备内部降温,解决了密闭设备因作业人员无法进入空间内,确定不了空间内温度的变化,无法及时排除温度升高带来的安全隐患的问题。

    一种多晶硅还原炉壁面喷涂控制方法和系统

    公开(公告)号:CN115487973A

    公开(公告)日:2022-12-20

    申请号:CN202211338710.6

    申请日:2022-10-28

    摘要: 本发明提供一种多晶硅还原炉壁面喷涂控制方法和系统,该方法包括:应用于喷涂控制系统,喷涂控制系统包括:机械臂装置、升降装置、控制装置和喷枪结构;控制装置用于:向机械臂装置发送第一控制信号,控制喷枪结构与还原炉内壁的第一区域之间保持第一状态;向升降装置发送第二控制信号,控制升降装置在第一方向上滑动,联动机械臂装置在第一方向运动,并控制喷枪结构与还原炉内壁的第二区域之间保持第一状态;在第一状态时,向喷枪结构发送第三控制信号,控制喷枪结构进行涂层喷涂;其中,第一方向为与喷涂系统的底面垂直的方向。本发明的方案解决了现有技术中存在的还原炉内壁喷涂旋转机构结构复杂、控制难度大问题。

    一种多晶硅还原炉壁面喷涂控制方法和系统

    公开(公告)号:CN115487973B

    公开(公告)日:2023-10-03

    申请号:CN202211338710.6

    申请日:2022-10-28

    摘要: 本发明提供一种多晶硅还原炉壁面喷涂控制方法和系统,该方法包括:应用于喷涂控制系统,喷涂控制系统包括:机械臂装置、升降装置、控制装置和喷枪结构;控制装置用于:向机械臂装置发送第一控制信号,控制喷枪结构与还原炉内壁的第一区域之间保持第一状态;向升降装置发送第二控制信号,控制升降装置在第一方向上滑动,联动机械臂装置在第一方向运动,并控制喷枪结构与还原炉内壁的第二区域之间保持第一状态;在第一状态时,向喷枪结构发送第三控制信号,控制喷枪结构进行涂层喷涂;其中,第一方向为与喷涂系统的底面垂直的方向。本发明的方案解决了现有技术中存在的还原炉内壁喷涂旋转机构结构复杂、控制难度大问题。

    一种还原炉的喷涂系统
    5.
    实用新型

    公开(公告)号:CN218262693U

    公开(公告)日:2023-01-10

    申请号:CN202222862769.7

    申请日:2022-10-28

    IPC分类号: C23C4/12 C23C4/06

    摘要: 本实用新型提供了一种还原炉的喷涂系统,其中,所述喷涂系统包括:支撑底座,还原炉设置于支撑底座;设置于支撑底座上的旋转机构,旋转机构位于支撑底座与还原炉围成的容置空间中;喷涂设备,包括喷枪,旋转机构设置于旋转机构上;其中,喷枪能够在旋转机构的带动下在容置空间中移动,对还原炉进行热喷涂。还原炉放置在支撑底座上,支撑底座上的旋转机构与喷涂设备连接,喷涂设备中的喷枪能够在旋转机构的带动下移动,对还原炉表面进行喷涂。解决了现有技术中还原炉径向旋转时喷涂,还原炉并非完全对称,旋转时可能出现偏心导致安全事故,而且无通风除尘结构,热喷涂时容易造成内部电子元件因高温而失效的问题。

    一种还原炉喷涂装置及还原炉喷涂系统

    公开(公告)号:CN218423629U

    公开(公告)日:2023-02-03

    申请号:CN202222862695.7

    申请日:2022-10-28

    IPC分类号: B05B13/06

    摘要: 本实用新型提供了一种还原炉喷涂装置及还原炉喷涂系统,涉及多晶硅生产设备技术领域。该还原炉喷涂装置包括:支撑底座,用于固定安装还原炉,所述支撑底座内部与所述还原炉内部形成有一容置空间;第一驱动机构,设置于所述容置空间内;喷涂组件,与所述第一驱动机构固定连接,所述喷涂组件用于向所述还原炉的内壁喷涂涂料;其中,所述第一驱动机构驱动所述喷涂组件进行轴向运动和/或圆周运动。本实用新型的方案,解决了现有技术在对还原炉内壁进行喷涂时,需要将还原炉高速旋转所带来的安全性低且能耗成本大的问题。

    一种电刷镀装置
    7.
    实用新型

    公开(公告)号:CN218262809U

    公开(公告)日:2023-01-10

    申请号:CN202222863235.6

    申请日:2022-10-28

    IPC分类号: C25D17/10 C25D5/06

    摘要: 本实用新型提供了一种电刷镀装置,涉及多晶硅制备技术领域。该电刷镀装置包括:安装支架,用于固定安装待镀工件,所述安装支架与所述待镀工件之间形成有一容置空间;驱动机构,设置于所述容置空间内;刷镀组件,与所述驱动机构固定连接,所述刷镀组件用于对所述待镀工件的内壁进行刷镀;其中,所述驱动机构驱动所述刷镀组件进行轴向运动和/或圆周运动。本实用新型的方案,解决了现有的电刷镀装置难以适用于多晶硅还原炉的内壁修复及涂层制备的问题。

    一种混气系统及制备白炭黑的方法

    公开(公告)号:CN115138225B

    公开(公告)日:2023-06-16

    申请号:CN202210769740.6

    申请日:2022-06-30

    IPC分类号: B01F23/10 C01B33/18

    摘要: 本发明提供一种混气系统及制备白炭黑的方法,所述混气系统包括:输气管道、混合腔体和稳流管道;其中,所述输气管道包括主管道和多条运输管道,多条所述运输管道与所述主管道的一端相连通;所述混合腔体包括一个空腔和设置在所述空腔内部的拉瓦尔管;所述主管道的另一端与所述混合腔体的侧壁连接,且与所述空腔连通;所述稳流管道的上端与所述拉瓦尔管相连通。相较于静态混合器,混合腔体结构简单,利用高速旋流和拉瓦尔管的方式,提高了气体混合均匀性,且管道压降更低,提高了能量利用效率。此外,所述混气系统的结构避免或减弱了管壁黏附高沸物、硅粉等杂质现象,提高生产安全性,延长了安全生产周期。

    一种混气系统及制备白炭黑的方法

    公开(公告)号:CN115138225A

    公开(公告)日:2022-10-04

    申请号:CN202210769740.6

    申请日:2022-06-30

    IPC分类号: B01F23/10 C01B33/18

    摘要: 本发明提供一种混气系统及制备白炭黑的方法,所述混气系统包括:输气管道、混合腔体和稳流管道;其中,所述输气管道包括主管道和多条运输管道,多条所述运输管道与所述主管道的一端相连通;所述混合腔体包括一个空腔和设置在所述空腔内部的拉瓦尔管;所述主管道的另一端与所述混合腔体的侧壁连接,且与所述空腔连通;所述稳流管道的上端与所述拉瓦尔管相连通。相较于静态混合器,混合腔体结构简单,利用高速旋流和拉瓦尔管的方式,提高了气体混合均匀性,且管道压降更低,提高了能量利用效率。此外,所述混气系统的结构避免或减弱了管壁黏附高沸物、硅粉等杂质现象,提高生产安全性,延长了安全生产周期。

    一种集散式控制系统
    10.
    实用新型

    公开(公告)号:CN218003980U

    公开(公告)日:2022-12-09

    申请号:CN202222566575.2

    申请日:2022-09-27

    IPC分类号: G05B19/418

    摘要: 本实用新型提供了一种集散式控制系统,包括:至少一个I/O从站,每一个所述I/O从站分别对应一个氮化炉;与所述至少一个I/O从站分别连接的主站;其中,所述主站传递工艺控制指令给所述I/O从站。本实用新型提供的集散式控制系统采用一主站多I/O从站的集散式控制,通过主站传递工艺控制指令给各I/O从站(独立的氮化炉),独立的I/O从站根据主站工艺控制指令完成自身设备的自动化控制,解决了单台设备无法实现精细化工艺控制的问题,提高了生产效率和产品质量。