磁头滑块的制造方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1920960A

    公开(公告)日:2007-02-28

    申请号:CN200610129001.1

    申请日:2006-08-26

    Abstract: 本发明是一种磁头滑块的制造方法,该方法是一种从长形条制造出磁头滑块的方法,所述长形条包括交替排列的用作磁头滑块的多个元件和作为切断成磁头滑块时的切削量的切断部。该制造方法包括:照射步骤(102),用于照射电磁波,以在作为将要成为磁头滑块的介质相对面的第一面的内表面的第二面的、夹在元件之间的各切断部的至少一部分上,使长形条的整体形状成为将第一面作为凸面的弯曲形状;研磨步骤(103),紧接着照射步骤,使元件的各个第一面成为凹状地将长形条按压在研磨面的同时对第一面进行研磨;和切断步骤(104),紧接着研磨步骤,沿着切断面切断长形条,并使其分离成各磁头滑块。本发明的磁头滑块的制造方法,能够在磁头滑块上高精度且经济性良好地形成形状稳定性高的凸度(camber)。

    层积体的研磨量检测元件、晶体、以及层积体的研磨方法

    公开(公告)号:CN101113996B

    公开(公告)日:2011-09-14

    申请号:CN200710126451.X

    申请日:2007-06-08

    Inventor: 袋井修

    Abstract: 本发明提供一种可以减少触片设置面积的用于磁场检测传感器的研磨量检测元件,该元件设置在磁头滑块之间的切断间隙部上。本发明提供的研磨量检测元件31是一种含有基板5及磁场检测传感器10的层积体的研磨量检测元件。该研磨量检测元件31,与磁场检测传感器10一同暴露地设置在所述层积体的研磨面G上,并具备其阻抗值根据研磨量发生变化的阻抗膜32;以及与该阻抗膜32的一端电气连接的,设置在所述层积体的与研磨面G不同的面上,且用于测量阻抗值的触片33。另外,该阻抗膜32的另一端则电气连接在所述基板5上。

    层积体的研磨量检测元件、晶体、以及层积体的研磨方法

    公开(公告)号:CN101113996A

    公开(公告)日:2008-01-30

    申请号:CN200710126451.X

    申请日:2007-06-08

    Inventor: 袋井修

    Abstract: 本发明提供一种可以减少触片设置面积的用于磁场检测传感器的研磨量检测元件。本发明提供的研磨量检测元件31是一种含有基板5及磁场检测传感器10的层积体的研磨量检测元件。该研磨量检测元件31,与磁场检测传感器10一同暴露地设置在所述层积体的研磨面G上,并具备其阻抗值根据研磨量发生变化的阻抗膜32;以及与该阻抗膜32的一端电气连接的,设置在所述层积体的与研磨面G不同的面上,且用于测量阻抗值的触片33。另外,该阻抗膜32的另一端则电气连接在所述基板5上。

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