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公开(公告)号：CN1965268A
公开(公告)日：2007-05-16
申请号：CN200580018731.8
申请日：2005-04-06
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: G03F7/11 , C08L79/04 , C09D163/00 , C09D179/04 , H01L21/027
CPC classification number: C08G73/0616 , C08G61/122 , C08G61/123 , C08G73/0638 , C08L79/04 , G02B1/111 , G03F7/091 , Y10S438/952
Abstract: 本发明的课题在于提供一种防反射效果好、不发生与光致抗蚀剂的混合、可以用于使用ArF准分子激光和F2准分子激光等照射光的光刻工艺中的防反射膜，及用于形成防反射膜的组合物。本发明提供一种形成防反射膜的组合物，其特征在于，含有具有嘧啶三酮结构、咪唑烷二酮结构、咪唑烷三酮结构或三嗪三酮结构的聚合物和溶剂。
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公开(公告)号：CN103838086B
公开(公告)日：2017-10-20
申请号：CN201410113858.9
申请日：2005-09-27
Applicant: 日产化学工业株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种防反射膜，其显示很高的防反射效果、不与光致抗蚀剂发生混合、可以形成在下部没有大的卷边形状的光致抗蚀剂图形、可以在使用了ArF准分子激光和F2准分子激光等的照射光的光刻工序中使用；还提供用于形成该防反射膜的形成防反射膜的组合物。本发明通过提供下述形成防反射膜的组合物而解决了上述课题，即，一种形成防反射膜的组合物，含有下述反应生成物，即，由具有2个或3个2,3－环氧丙基的异氰脲酸化合物与苯甲酸化合物进行反应而获得的反应生成物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103838086A
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201410113858.9
申请日：2005-09-27
Applicant: 日产化学工业株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种防反射膜，其显示很高的防反射效果、不与光致抗蚀剂发生混合、可以形成在下部没有大的卷边形状的光致抗蚀剂图形、可以在使用了ArF准分子激光和F2准分子激光等的照射光的光刻工序中使用；还提供用于形成该防反射膜的形成防反射膜的组合物。本发明通过提供下述形成防反射膜的组合物而解决了上述课题，即，一种形成防反射膜的组合物，含有下述反应生成物，即，由具有2个或3个2,3－环氧丙基的异氰脲酸化合物与苯甲酸化合物进行反应而获得的反应生成物。
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公开(公告)号：CN102084301B
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN200980126339.3
申请日：2009-07-23
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/02282 , C08G77/04 , C08G77/60 , C08L83/04 , G03F7/405 , H01L21/02211 , H01L21/02216 , H01L21/0337 , H01L21/3121 , H01L21/3122
Abstract: 本发明的课题在于得到适合于“反式构图”，用于形成覆盖抗蚀图案的膜的理想涂布组合物。为了解决上述课题，使用含有有机聚硅氧烷、以规定的有机溶剂为主成分的溶剂和季铵盐或季盐的光刻用涂布组合物，或者使用含有聚硅烷、以规定的有机溶剂为主成分的溶剂和选自交联剂、季铵盐、季盐和磺酸化合物中的至少1种添加剂的光刻用涂布组合物，上述聚硅烷的末端具有硅烷醇基、或该硅烷醇基和氢原子。
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公开(公告)号：CN1965268B
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：CN200580018731.8
申请日：2005-04-06
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: G03F7/11 , C08L79/04 , C09D163/00 , C09D179/04 , H01L21/027
CPC classification number: C08G73/0616 , C08G61/122 , C08G61/123 , C08G73/0638 , C08L79/04 , G02B1/111 , G03F7/091 , Y10S438/952
Abstract: 本发明的课题在于提供一种防反射效果好、不发生与光致抗蚀剂的混合、可以用于使用ArF准分子激光和F2准分子激光等照射光的光刻工艺中的防反射膜，及用于形成防反射膜的组合物。本发明提供一种形成防反射膜的组合物，其特征在于，含有具有嘧啶三酮结构、咪唑烷二酮结构、咪唑烷三酮结构或三嗪三酮结构的聚合物和溶剂。
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公开(公告)号：CN102084301A
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：CN200980126339.3
申请日：2009-07-23
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/02282 , C08G77/04 , C08G77/60 , C08L83/04 , G03F7/405 , H01L21/02211 , H01L21/02216 , H01L21/0337 , H01L21/3121 , H01L21/3122
Abstract: 本发明的课题在于得到适合于“反式构图”，用于形成覆盖抗蚀图案的膜的理想涂布组合物。为了解决上述课题，使用含有有机聚硅氧烷、以规定的有机溶剂为主成分的溶剂和季铵盐或季盐的光刻用涂布组合物，或者使用含有聚硅烷、以规定的有机溶剂为主成分的溶剂和选自交联剂、季铵盐、季盐和磺酸化合物中的至少1种添加剂的光刻用涂布组合物，上述聚硅烷的末端具有硅烷醇基、或该硅烷醇基和氢原子。
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公开(公告)号：CN101268419A
公开(公告)日：2008-09-17
申请号：CN200580051639.1
申请日：2005-09-27
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: G03F7/11 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/091
Abstract: 本发明的课题在于提供一种防反射膜，其显示很高的防反射效果、不与光致抗蚀剂发生混合、可以形成在下部没有大的卷边形状的光致抗蚀剂图形、可以在使用了ArF准分子激光和F2准分子激光等的照射光的光刻工序中使用；还提供用于形成该防反射膜的形成防反射膜的组合物。本发明通过提供下述形成防反射膜的组合物而解决了上述课题，即，一种形成防反射膜的组合物，含有下述反应生成物，即，由具有2个或3个2，3－环氧丙基的异氰脲酸化合物与苯甲酸化合物进行反应而获得的反应生成物。
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