公开(公告)号：CN105247663B

公开(公告)日：2018-03-23

申请号：CN201480030747.X

申请日：2014-05-22

申请人： 日立化成株式会社

发明人： 儿玉俊辅 ,  塚原智明 ,  神代恭

IPC分类号： H01L21/308 ,  C09K13/04 ,  C09K13/08 ,  C09K13/10 ,  H01L31/18

CPC分类号： C09K13/00

摘要： 本发明提供一种蚀刻组合物，其含有包含阴离子及阳离子的盐以及溶剂，所述阴离子具有氟原子与磷原子以单键键合而成的结构。

公开(公告)号：CN105247663A

公开(公告)日：2016-01-13

申请号：CN201480030747.X

申请日：2014-05-22

申请人： 日立化成株式会社

发明人： 儿玉俊辅 ,  塚原智明 ,  神代恭

IPC分类号： H01L21/308 ,  C09K13/04 ,  C09K13/08 ,  C09K13/10 ,  H01L31/18

CPC分类号： C09K13/00

摘要： 本发明提供一种蚀刻组合物，其含有包含阴离子及阳离子的盐以及溶剂，所述阴离子具有氟原子与磷原子以单键键合而成的结构。