电荷保持介质的制造方法

    公开(公告)号:CN103229261B

    公开(公告)日:2016-07-06

    申请号:CN201180056055.9

    申请日:2011-12-02

    摘要: 本发明提供一种即使在基材的表面具有复杂的形状的情况下,也能够在基材的表面简便地形成包含含氟共聚物的涂膜(电荷保持介质的前体)的电荷保持介质的制造方法,其中上述含氟共聚物具有基于四氟乙烯的重复单元和基于乙烯的重复单元。电荷保持介质(驻极体(30))的制造方法包括将包含含氟共聚物(A)和有机溶剂(C)的涂布用组合物涂布于基材(第一基材(10))来形成涂膜的工序,所述含氟共聚物(A)具有基于四氟乙烯的重复单元和基于乙烯的重复单元。

    电荷保持介质
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103222021A

    公开(公告)日:2013-07-24

    申请号:CN201180056042.1

    申请日:2011-12-02

    摘要: 本发明提供一种具有实用级别的表面电位的电荷保持介质,尽管该电荷保持介质由包含具有基于四氟乙烯的重复单元和基于乙烯的重复单元的含氟共聚物的组合物所得。电荷保持介质(驻极体(30))由包含含氟共聚物(A)和带电助剂(B)的组合物得到,其中,所述含氟共聚物(A)具有基于四氟乙烯的重复单元和基于乙烯的重复单元;所述带电助剂(B)是选自具有1个以上的氨基和1个以上的除氨基外的反应性官能团的化合物及具有2个以上的氨基且不具有除氨基外的反应性官能团的化合物的至少1种。

    膜结构
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1285010C

    公开(公告)日:2006-11-15

    申请号:CN03155178.5

    申请日:2003-08-25

    IPC分类号: G03F1/14 H01L21/027 G02F1/13

    摘要: 用波长为100-200nm的光进行光刻制图方法用的膜结构,它具有由以下含氟聚合物(A)制成的薄膜:含氟聚合物(A):一种基本线型的含氟聚合物,在其主链上有脂环结构。主链由碳原子组成,并符合下列要求(1)和(2):(1)主链上的碳原子包含连有至少一个氢原子的碳原子和不连氢原子的碳原子,(2)在用高分辨率核磁共振波谱进行测量时,基于总氢原子数,在大于2.8ppm的高磁场区出现的信号的氢原子个数至多为6mol%。

    聚碳酸酯的制造方法和聚碳酸酯

    公开(公告)号:CN105121505A

    公开(公告)日:2015-12-02

    申请号:CN201480021852.7

    申请日:2014-04-08

    IPC分类号: C08G64/26

    CPC分类号: C08G64/28 C08G64/307

    摘要: 本发明涉及具有下述工序(a)和工序(b)的聚碳酸酯的制造方法:(a)在缩合催化剂的存在下使特定的含氟碳酸酯(化合物(1)等)与芳香族二羟基化合物反应而得到预聚物的工序;和(b)在低于该预聚物的熔融温度的温度下将上述预聚物加热,在将伴生的含氟醇排出到体系外的同时,使该预聚物固相聚合而得到聚碳酸酯的工序。