LPCVD和ALD两用布气装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112410758A

    公开(公告)日:2021-02-26

    申请号:CN201910774024.5

    申请日:2019-08-21

    IPC分类号: C23C16/455

    摘要: LPCVD和ALD两用布气装置,包括加热炉,加热炉炉口处设置有用于连接布气装置的紧固法兰,紧固法兰沿轴向远离加热炉的一侧设有两个同轴连接的布气法兰,两个布气法兰与紧固法兰通过螺栓配合连接,设沿布气法兰的轴向靠近加热炉的一侧为内、远离加热炉的一侧为外,所述位于外侧的那个布气法兰的外侧设有一个与布气法兰相匹配的炉口盖板。采用本装置可以使一个加热炉兼容两种镀膜工艺,可以减少加热炉的采购量,减少成本而且还可以节省占用空间。

    低压化学气相沉积真空管式炉的补气装置

    公开(公告)号:CN110004433A

    公开(公告)日:2019-07-12

    申请号:CN201910390310.1

    申请日:2019-05-10

    IPC分类号: C23C16/455

    摘要: 本发明给出了一种低压化学气相沉积真空管式炉的补气装置,包括补气管,补气管端部开有补气口;还包括冷却管和堵头,冷却管设有供冷却介质通过的内孔,冷却管在补气管的出气口处节距盘绕呈多线圈状的导流弹簧段,处于导流弹簧段的相邻冷却管线圈之间具有间隙,堵头设置在冷却管的导流段远离补气管一侧端部处。冷却管通入冷却气体,进而导流弹簧段的冷却管对补气管进行冷却,将补气管温度下降,镀膜反应气体的温度控制在反应温度以下,反应物不会沉积在补气管的管壁及补气口处;处于导流弹簧段的相邻冷却管线圈之间设有间隙,镀膜反应气体通过该间隙,达到出气缝的效果,提高镀膜工件的膜层均匀度。

    低压化学气相沉积真空管式炉的补气装置

    公开(公告)号:CN110004433B

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN201910390310.1

    申请日:2019-05-10

    IPC分类号: C23C16/455

    摘要: 本发明给出了一种低压化学气相沉积真空管式炉的补气装置,包括补气管,补气管端部开有补气口;还包括冷却管和堵头,冷却管设有供冷却介质通过的内孔,冷却管在补气管的出气口处节距盘绕呈多线圈状的导流弹簧段,处于导流弹簧段的相邻冷却管线圈之间具有间隙,堵头设置在冷却管的导流段远离补气管一侧端部处。冷却管通入冷却气体,进而导流弹簧段的冷却管对补气管进行冷却,将补气管温度下降,镀膜反应气体的温度控制在反应温度以下,反应物不会沉积在补气管的管壁及补气口处;处于导流弹簧段的相邻冷却管线圈之间设有间隙,镀膜反应气体通过该间隙,达到出气缝的效果,提高镀膜工件的膜层均匀度。

    菱形硅片载片舟的冷却装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110306169A

    公开(公告)日:2019-10-08

    申请号:CN201910685447.X

    申请日:2019-07-27

    摘要: 本发明给出了一种菱形硅片载片舟的冷却装置;包括底座、风冷组件、两个支架和若干销轴;两个支架分别固定连接在底座上端面两侧,若干销轴分为两组,两组销轴分别固定在两个支架上,两组销轴相对布置,两组轴销与载片舟的底部配合且两组轴销用于支撑载片舟;风冷组件包括若干风冷管,风冷管一端与气源连接,风冷管另一端封闭,风冷管表面开有若干风冷孔,所述风冷孔对准载片舟上的菱形硅片。若干销轴支撑载片舟,气源向风冷组件的风冷管输送冷风介质,再从风冷孔吹出对载片舟上的菱形硅片进行冷却,加速了对菱形硅片的冷却作业,提升了工作效率。

    LPCVD和ALD两用布气装置
    5.
    实用新型

    公开(公告)号:CN211005612U

    公开(公告)日:2020-07-14

    申请号:CN201921362811.0

    申请日:2019-08-21

    IPC分类号: C23C16/455

    摘要: LPCVD和ALD两用布气装置,包括加热炉,加热炉炉口处设置有用于连接布气装置的紧固法兰,紧固法兰沿轴向远离加热炉的一侧设有两个同轴连接的布气法兰,两个布气法兰与紧固法兰通过螺栓配合连接,设沿布气法兰的轴向靠近加热炉的一侧为内、远离加热炉的一侧为外,所述位于外侧的那个布气法兰的外侧设有一个与布气法兰相匹配的炉口盖板。采用本装置可以使一个加热炉兼容两种镀膜工艺,可以减少加热炉的采购量,减少成本而且还可以节省占用空间。

    菱形硅片载片舟的冷却装置

    公开(公告)号:CN210560745U

    公开(公告)日:2020-05-19

    申请号:CN201921194958.3

    申请日:2019-07-27

    摘要: 本实用新型给出了一种菱形硅片载片舟的冷却装置;包括底座、风冷组件、两个支架和若干销轴;两个支架分别固定连接在底座上端面两侧,若干销轴分为两组,两组销轴分别固定在两个支架上,两组销轴相对布置,两组轴销与载片舟的底部配合且两组轴销用于支撑载片舟;风冷组件包括若干风冷管,风冷管一端与气源连接,风冷管另一端封闭,风冷管表面开有若干风冷孔,所述风冷孔对准载片舟上的菱形硅片。若干销轴支撑载片舟,气源向风冷组件的风冷管输送冷风介质,再从风冷孔吹出对载片舟上的菱形硅片进行冷却,加速了对菱形硅片的冷却作业,提升了工作效率。

    低压化学气相沉积真空管式炉的补气装置

    公开(公告)号:CN209974885U

    公开(公告)日:2020-01-21

    申请号:CN201920669084.6

    申请日:2019-05-10

    IPC分类号: C23C16/455

    摘要: 本实用新型给出了一种低压化学气相沉积真空管式炉的补气装置,包括补气管,补气管端部开有补气口;还包括冷却管和堵头,冷却管设有供冷却介质通过的内孔,冷却管在补气管的出气口处节距盘绕呈多线圈状的导流弹簧段,处于导流弹簧段的相邻冷却管线圈之间具有间隙,堵头设置在冷却管的导流段远离补气管一侧端部处。冷却管通入冷却气体,进而导流弹簧段的冷却管对补气管进行冷却,将补气管温度下降,镀膜反应气体的温度控制在反应温度以下,反应物不会沉积在补气管的管壁及补气口处;处于导流弹簧段的相邻冷却管线圈之间设有间隙,镀膜反应气体通过该间隙,达到出气缝的效果,提高镀膜工件的膜层均匀度。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利