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公开(公告)号:CN112136206A
公开(公告)日:2020-12-25
申请号:CN201980033022.9
申请日:2019-05-10
申请人: 朗姆研究公司
摘要: 提供用于独立输送不同的、相互反应的工艺气体至晶片处理空间的喷头。所述喷头包含具有经由间隙而彼此隔开的多个充气室结构的第一气体分配器、以及定位于所述第一气体分配器上方的第二气体分配器。可使来自第二气体分配器的隔离气体向下流至第一气体分配器上并通过第一气体分配器的所述充气室结构之间的间隙,从而建立隔离气体帘,其避免从各充气室结构释出的工艺气体寄生性地沉积于提供其他气体的充气室结构上。
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公开(公告)号:CN115354302A
公开(公告)日:2022-11-18
申请号:CN202210890156.6
申请日:2019-05-10
申请人: 朗姆研究公司
IPC分类号: C23C16/455 , H01L21/67
摘要: 提供用于独立输送不同的、相互反应的工艺气体至晶片处理空间的喷头。所述喷头包含具有经由间隙而彼此隔开的多个充气室结构的第一气体分配器、以及定位于所述第一气体分配器上方的第二气体分配器。可使来自第二气体分配器的隔离气体向下流至第一气体分配器上并通过第一气体分配器的所述充气室结构之间的间隙,从而建立隔离气体帘,其避免从各充气室结构释出的工艺气体寄生性地沉积于提供其他气体的充气室结构上。
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