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公开(公告)号:CN1225028C
公开(公告)日:2005-10-26
申请号:CN03104114.0
申请日:2003-02-13
申请人: 株式会社东芝
IPC分类号: H01L29/786 , H01L27/04 , H01L27/12
CPC分类号: H01L27/10861 , H01L21/76243 , H01L21/823481 , H01L21/84 , H01L27/10873 , H01L27/10894 , H01L27/1203 , H01L29/78639
摘要: 一种半导体器件,包括:第1、第2半导体层和第1、第2MOS晶体管。第1半导体层,设置在半导体衬底上边,且已与上述半导体衬底电连起来。第2半导体层,设置在上述第1半导体层的附近,且与半导体衬底电隔离。第1、第2MOS晶体管,分别设置在上述第1、第2半导体层上边,分别具有与上述第1、第2半导体层的边界平行地配置的栅极电极。
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公开(公告)号:CN1438712A
公开(公告)日:2003-08-27
申请号:CN03104114.0
申请日:2003-02-13
申请人: 株式会社东芝
IPC分类号: H01L29/786 , H01L27/04 , H01L27/12
CPC分类号: H01L27/10861 , H01L21/76243 , H01L21/823481 , H01L21/84 , H01L27/10873 , H01L27/10894 , H01L27/1203 , H01L29/78639
摘要: 一种半导体器件,包括:第1、第2半导体层和第1、第2MOS晶体管。第1半导体层,设置在半导体衬底上边,且已与上述半导体衬底电连起来。第2半导体层,设置在上述第1半导体层的附近,且与半导体衬底电隔离。第1、第2MOS晶体管,分别设置在上述第1、第2半导体层上边,分别具有与上述第1、第2半导体层的边界平行地配置的栅极电极。
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