公开(公告)号：CN107923035A

公开(公告)日：2018-04-17

申请号：CN201680050126.7

申请日：2016-12-19

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 德田祥典 ,  野尻康弘 ,  加藤视红磨 ,  寺田贵洋 ,  竹内将胜 ,  青山德博

IPC: C23C14/34 ,  H01L21/203 ,  H01L21/285

Abstract: 根据实施方式的一种处理装置包括容器、工件放置单元、准直器、和磁场产生单元。工件放置单元设置在容器内部，所述工件放置单元上能够放置供粒子堆叠的工件。所述准直器被设置在所述容器内部，并包括第一表面、与所述第一表面相反侧的第二表面、以及穿透所述第一表面和所述第二表面的通孔。所述磁场产生单元被设置在所述容器内部，并且在所述通孔内部，在所述第一表面和所述第二表面之间产生磁场。

公开(公告)号：CN107923035B

公开(公告)日：2020-06-16

申请号：CN201680050126.7

申请日：2016-12-19

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 德田祥典 ,  野尻康弘 ,  加藤视红磨 ,  寺田贵洋 ,  竹内将胜 ,  青山德博

IPC: C23C14/34 ,  H01L21/203 ,  H01L21/285

Abstract: 根据实施方式的一种处理装置包括容器、工件放置单元、准直器、和磁场产生单元。工件放置单元设置在容器内部，所述工件放置单元上能够放置供粒子堆叠的工件。所述准直器被设置在所述容器内部，并包括第一表面、与所述第一表面相反侧的第二表面、以及穿透所述第一表面和所述第二表面的通孔。所述磁场产生单元被设置在所述容器内部，并且在所述通孔内部，在所述第一表面和所述第二表面之间产生磁场。