公开(公告)号：CN109164682B

公开(公告)日：2021-01-15

申请号：CN201811146185.1

申请日：2012-12-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 大和壮一 ,  渡边阳司

IPC: G03F7/20

Abstract: 在空间光调制器的驱动方法中，在Y方向上邻接配置并沿X方向延伸的第一边界区域以及第二边界区域中，将在第一边界区域内在X方向上以不被投影光学系统析像的第一间距排列的镜元件设定为相位0，将其他的镜元件设定为相位π，将在第二边界区域内在X方向上以不被投影光学系统析像的第二间距排列的镜元件设定为相位π，将其他的镜元件设定为相位0。使用空间光调制器向物体投影图案时，能够以比空间光调制器的各光学元件的像的宽度更精细的位置精度或者形状精度形成图案。

公开(公告)号：CN104170054A

公开(公告)日：2014-11-26

申请号：CN201280071531.9

申请日：2012-12-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 大和壮一 ,  渡边阳司

IPC: H01L21/027 ,  G02B26/08 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70058 ,  G02B26/0833 ,  G02F1/29 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70508

Abstract: 在空间光调制器的驱动方法中，在Y方向上邻接配置并沿X方向延伸的第一边界区域以及第二边界区域中，将在第一边界区域内在X方向上以不被投影光学系统析像的第一间距排列的镜元件设定为相位0，将其他的镜元件设定为相位π，将在第二边界区域内在X方向上以不被投影光学系统析像的第二间距排列的镜元件设定为相位π，将其他的镜元件设定为相位0。使用空间光调制器向物体投影图案时，能够以比空间光调制器的各光学元件的像的宽度更精细的位置精度或者形状精度形成图案。

公开(公告)号：CN104170054B

公开(公告)日：2018-11-02

申请号：CN201280071531.9

申请日：2012-12-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 大和壮一 ,  渡边阳司

IPC: H01L21/027 ,  G02B26/08 ,  G03F7/20

Abstract: 在空间光调制器的驱动方法中，在Y方向上邻接配置并沿X方向延伸的第一边界区域以及第二边界区域中，将在第一边界区域内在X方向上以不被投影光学系统析像的第一间距排列的镜元件设定为相位0，将其他的镜元件设定为相位π，将在第二边界区域内在X方向上以不被投影光学系统析像的第二间距排列的镜元件设定为相位π，将其他的镜元件设定为相位0。使用空间光调制器向物体投影图案时，能够以比空间光调制器的各光学元件的像的宽度更精细的位置精度或者形状精度形成图案。

公开(公告)号：CN118871862A

公开(公告)日：2024-10-29

申请号：CN202380019504.5

申请日：2023-02-15

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 渡边阳司

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/30

Abstract: 曝光方法包括：利用使用掩膜的曝光装置，以经由了第1掩膜的曝光光在基板上的多个图案形成区域各自的第1区域形成第1曝光图案，在所述图案形成区域的每一个中，以经由了第2掩膜的曝光光在与所述第1区域分离的第2区域形成第2曝光图案；以及使用利用基于来自曝光图案决定部的输出对曝光光进行调制的空间光调制器的曝光装置，在所述图案形成区域的每一个中，以经由了所述空间光调制器的曝光光在所述第1区域与所述第2区域之间形成基于所述第1曝光图案以及所述第2曝光图案的位置决定的曝光图案。

公开(公告)号：CN117083571A

公开(公告)日：2023-11-17

申请号：CN202280020951.8

申请日：2022-03-17

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 渡边阳司

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供了一种曝光装置、曝光方法、器件制造方法、以及器件，曝光装置不仅能够应对芯片的位置偏移，而且能够以高产量来制造器件。本发明的曝光装置将形成于引出电极的上层的感光层进行曝光，上述引出电极设置于排列在基板上的多个半导体芯片上，上述曝光装置包括：基板平台，载置沿着单轴方向而排列有上述多个半导体芯片的上述基板；曝光部，朝向在上述半导体芯片上设置于沿着上述单轴方向而延伸的电极形成区域中的上述引出电极照射曝光用光；图案决定部，决定上述曝光部于上述感光层上曝光的曝光图案；以及控制部，至少控制上述基板平台及上述曝光部。上述图案决定部使用来自测量部的输出而将使上述引出电极与相对于上述基板的既定位置连结的转接配线的图案决定为上述曝光图案，上述测量部对设置于上述基板上的多个半导体芯片的位置进行测量而求出上述多个半导体芯片的位置偏移。上述控制部一边借由上述基板平台而使上述基板自上述单轴方向的一侧向另一侧移动，一边借由上述曝光部而将上述转接配线的图案于上述感光层上曝光于在上述单轴方向上延伸的曝光区域中。

公开(公告)号：CN109164682A

公开(公告)日：2019-01-08

申请号：CN201811146185.1

申请日：2012-12-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 大和壮一 ,  渡边阳司

IPC: G03F7/20

Abstract: 在空间光调制器的驱动方法中，在Y方向上邻接配置并沿X方向延伸的第一边界区域以及第二边界区域中，将在第一边界区域内在X方向上以不被投影光学系统析像的第一间距排列的镜元件设定为相位0，将其他的镜元件设定为相位π，将在第二边界区域内在X方向上以不被投影光学系统析像的第二间距排列的镜元件设定为相位π，将其他的镜元件设定为相位0。使用空间光调制器向物体投影图案时，能够以比空间光调制器的各光学元件的像的宽度更精细的位置精度或者形状精度形成图案。