元素分析方法
    1.
    发明公开
    元素分析方法 审中-实审

    公开(公告)号:CN113155876A

    公开(公告)日:2021-07-23

    申请号:CN202110373638.X

    申请日:2016-12-08

    IPC分类号: G01N23/207

    摘要: 本发明涉及一种元素分析方法。所述方法包括:利用激发束来照射预定照射区域以生成特征X射线;使特征X射线部分地经过狭缝;使通过所述狭缝的X射线进入平板状分光晶体以基于布拉格反射定律而选择性地被反射;检测X射线的强度来获得波长谱;以及基于波长谱中的峰的能量来识别试样中的元素和/或基于峰的强度来确定所述元素的量。

    X射线分光分析设备和元素分析方法

    公开(公告)号:CN106855523A

    公开(公告)日:2017-06-16

    申请号:CN201611123986.7

    申请日:2016-12-08

    IPC分类号: G01N23/223

    摘要: 本发明的目的是提供一种X射线分光分析设备和元素分析方法,该X射线分光分析设备可通过分光法以高灵敏度测量液体和粉末等的组成与位置无关地呈均匀的试样的组成。X射线分光分析设备包括:激发源,其利用激发束照射试样表面的预定照射区域以生成特征X射线;分光晶体,其面向照射区域;狭缝,其设置在照射区域和分光晶体之间,狭缝与照射区域和分光晶体的预定晶面平行;X射线线性传感器,其包括沿与狭缝垂直的方向排列的线状检测元件,检测元件各自具有与狭缝平行的方向上的长度。通过针对各波长检测来自照射区域的不同线状区域的特征X射线,可进行灵敏度比利用激发束照射点状照射区域的传统X射线分光分析设备的灵敏度高的分析。

    射线照相装置和射线检测信号处理方法

    公开(公告)号:CN100385922C

    公开(公告)日:2008-04-30

    申请号:CN200510062956.5

    申请日:2005-03-31

    IPC分类号: H04N5/32 A61B6/00

    摘要: 在根据本发明的射线照相装置中,当射线照相模式指定器16指定一种非标准射线照相模式时,信号纠正器15利用存储在非标准图像缺陷信息存储器18B-18E中的缺陷信息纠正从FPD 2输出的X-射线检测信号。由于非标准X-射线的像素缺陷信息是通过像素缺陷信息转换器19从存储在标准图像缺陷信息存储器18A中的标准X-射线图像的缺陷信息转换获得的,所以,不需要再次从FPD 2收集用于像素缺陷信息获得的输出信号。结果,可以不管射线检测元件是如何分配给X-射线图像中的像素的,迅速地纠正由于射线检测元件的缺陷造成的异常X-射线检测信号。

    射线照相装置和射线检测信号处理方法

    公开(公告)号:CN1678036A

    公开(公告)日:2005-10-05

    申请号:CN200510062956.5

    申请日:2005-03-31

    IPC分类号: H04N5/32 A61B6/00

    摘要: 在根据本发明的射线照相装置中,当射线照相模式指定器16指定一种非标准射线照相模式时,信号纠正器15利用存储在非标准图像缺陷信息存储器18B-18E中的缺陷信息纠正从FPD 2输出的X-射线检测信号。由于非标准X-射线的像素缺陷信息是通过像素缺陷信息转换器19从存储在标准图像缺陷信息存储器18A中的标准X-射线图像的缺陷信息转换获得的,所以,不需要再次从FPD 2收集用于像素缺陷信息获得的输出信号。结果,可以不管射线检测元件是如何分配给X-射线图像中的像素的,迅速地纠正由于射线检测元件的缺陷造成的异常X-射线检测信号。

    X射线摄影装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107427271A

    公开(公告)日:2017-12-01

    申请号:CN201680021003.0

    申请日:2016-03-01

    IPC分类号: A61B6/00

    摘要: 在实施例1所涉及的X射线摄影装置(1)中,X射线检测器(5)具有利用格子状的遮光壁划分闪烁体元件的结构。向X射线检测器(5)入射的X射线中的向遮光壁入射的X射线不被转换为闪烁光而透过X射线检测器(5)。因而,通过向利用格子状的遮光壁划分闪烁体元件所得到的X射线检测器(5)入射X射线,能够与使该X射线通过检测掩膜的情况同样地将透过了被检体(M)的X射线(3a)向X射线检测器(5)入射的区域进一步限制在任意的范围内。因而,能够在EI-XPCi中使用的X射线摄影装置(1)中省略检测掩膜,因此能够降低X射线摄影装置(1)的制造成本。

    元素分析方法
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113155876B

    公开(公告)日:2024-02-09

    申请号:CN202110373638.X

    申请日:2016-12-08

    IPC分类号: G01N23/207

    摘要: 本发明涉及一种元素分析方法。所述方法包括:利用激发束来照射预定照射区域以生成特征X射线;使特征X射线部分地经过狭缝;使通过所述狭缝的X射线进入平板状分光晶体以基于布拉格反射定律而选择性地被反射;检测X射线的强度来获得波长谱;以及基于波长谱中的峰的能量来识别试样中的元素和/或基于峰的强度来确定所述元素的量。

    X射线摄影装置
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107427271B

    公开(公告)日:2020-10-02

    申请号:CN201680021003.0

    申请日:2016-03-01

    IPC分类号: A61B6/00

    摘要: 在实施例1所涉及的X射线摄影装置(1)中,X射线检测器(5)具有利用格子状的遮光壁划分闪烁体元件的结构。向X射线检测器(5)入射的X射线中的向遮光壁入射的X射线不被转换为闪烁光而透过X射线检测器(5)。因而,通过向利用格子状的遮光壁划分闪烁体元件所得到的X射线检测器(5)入射X射线,能够与使该X射线通过检测掩膜的情况同样地将透过了被检体(M)的X射线(3a)向X射线检测器(5)入射的区域进一步限制在任意的范围内。因而,能够在EI‑XPCi中使用的X射线摄影装置(1)中省略检测掩膜,因此能够降低X射线摄影装置(1)的制造成本。