-
公开(公告)号：CN100360706C
公开(公告)日：2008-01-09
申请号：CN200410098389.4
申请日：2000-05-12
Applicant: 株式会社新王磁材
Abstract: 一种表面处理设备，包括：一个与抽空系统连接的处理室；一用来熔化和蒸发线形汽相淀积材料的熔化和蒸发源，所述线形汽相淀积材料包含与氧气可反应的还原气体；一用来容放产品的部件，所述汽相淀积材料淀积在所述产品上，所述熔化和蒸发源和所述用来容放产品的部件布置在所述处理室内；一汽相淀积材料供送装置，用来向所述熔化和蒸发源供送所述包含与氧气可反应还原气体的线形汽相淀积材料。
-
公开(公告)号：CN1624192A
公开(公告)日：2005-06-08
申请号：CN200410098387.5
申请日：2000-05-12
Applicant: 株式会社新王磁材
CPC classification number: C23C14/223 , C23C14/16 , C23C14/246 , C23C14/505 , H01F41/026 , Y10S428/928 , Y10S428/938 , Y10T428/12063 , Y10T428/12465 , Y10T428/12778
Abstract: 一种利用容易氧化的汽相淀积材料在产品的表面上形成汽相淀积膜的表面处理方法，包括下述步骤：在将一汽相淀积控制气体已经供给到至少材料熔化/蒸发源附近的区域和处理室内的产品附近的区域的状态下，蒸发所述汽相淀积材料；其中，所述汽相淀积控制气体通过将其从处理室外部引入而供给。
-
公开(公告)号：CN1205626C
公开(公告)日：2005-06-08
申请号：CN98811456.9
申请日：1998-10-23
Applicant: 株式会社新王磁材
IPC: H01F7/02
Abstract: 一种具有高耐蚀性并易于电镀的各种形状如环形、盘形的R-Fe-B基粘结磁体的高效制造方法，其中磁体的耐蚀性通过在其表面形成一层紧密结合的、均匀的、高效的金属导电膜而得以提高。该方法包含下列步骤：用抛光粉末、无机粉末及抛光屑填充磁体的孔隙，用植物来源的材料的油性组分将上述材料粘在孔隙中以密封孔隙，通过滚筒装置对磁体进行干法滚筒抛光，用所需尺寸、不定形状，即球形、块形或针形(丝形)的Cu、Sn、Zn、Pb、Cd、In、Au、Ag、Fe、Ni、Co、Cr和Al块或以上元素的合金片作金属介质，上述金属的微细碎片例如Cu会压入粘结磁体的树脂表面和孔隙中，形成涂覆层，而且也在磁性粉末颗粒表面形成涂覆层，从而可以在粘结磁体表面形成非常均匀的导电层，进而可以对粘结磁体进行良好的电镀，得到具有高耐蚀性和磁性能极少劣化的带电镀层R-Fe-B基粘结磁体制品。
-
公开(公告)号：CN1187479C
公开(公告)日：2005-02-02
申请号：CN00119918.8
申请日：2000-06-30
Applicant: 株式会社新王磁材
IPC: C25D7/04
CPC classification number: H01F41/026 , C25D7/04 , C25D17/12 , Y10T29/49075
Abstract: 本发明提供一种电镀装置、对工件进行电镀的工艺以及环形粘合磁铁。该电镀装置，包括：插入并放置在工件上的与外部连通的孔中的阳极、与所述工件外表面接触以支撑并驱动工件绕其中心轴旋转的驱动辊、与工件外表面接触以支撑工件的从动辊、以及设置在所述工件外表面之外的正极板，且上述驱动辊或上述从动辊由金属制造并用来向工件提供电镀电流。
-
公开(公告)号：CN1303622C
公开(公告)日：2007-03-07
申请号：CN02803393.0
申请日：2002-11-18
Applicant: 株式会社新王磁材
Abstract: 一种含有稀土类合金粉末和粘结剂的稀土类粘结磁体用混合物，该稀土类合金粉末具有以(Fe1-mTm)100-x-y-zQxRyMz表示的组成，其中，T是选自Co和Ni的至少一种元素；Q是选自B和C的一种以上的元素，且必须含有B元素，R是实质上不含有La和Ce的至少一种稀土类元素，M是选自Ti、Zr和Hf的金属元素，且至少必须含有Ti元素，组成比x、y、z和m分别是：10＜x≤20原子%，6≤y＜10原子%，0.1≤z≤12原子%和0≤m≤0.5，且含有两种以上的强磁性结晶相的组织，其中，硬磁性相的平均结晶粒径在10nm以上、200nm以下，软磁性相的平均结晶粒径在1nm以上、100nm以下的范围内，而且所述软磁性相的平均结晶粒径比所述硬磁性相的平均结晶粒径更小，并且含有2wt%以上的含钛纳米复合磁粉。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1215501C
公开(公告)日：2005-08-17
申请号：CN00126407.9
申请日：2000-08-30
Applicant: 株式会社新王磁材
CPC classification number: H01F1/059 , H01F1/057 , H01F1/344 , H01F41/026 , Y10S428/90 , Y10S428/926 , Y10S428/928 , Y10T428/31663 , Y10T428/31678
Abstract: 本发明提供一种生产在其表面上有含特定平均粒度的并分散在由硅化合物形成的膜相中的无机细颗粒的耐腐蚀膜的稀土金属为基础的永磁体的方法。在形成膜的热处理中，通过硅化合物的水解反应和热分解反应，随后的聚合反应，通过膜的收缩在膜内产生应力。但是，用本发明的生产方法形成的耐腐蚀膜中，由于无机细颗粒的存在，这样的应力被消散，因此抑制了物理缺陷例如裂纹的产生。
-
公开(公告)号：CN1211188C
公开(公告)日：2005-07-20
申请号：CN01112097.5
申请日：2001-03-30
Applicant: 株式会社新王磁材
IPC: B24C3/28
CPC classification number: B24C3/28 , C23C14/028
Abstract: 一种喷丸设备，其中喷口设置成可以从由丝网形成用于容装工件并可以绕一个中心轴转动的管筒外侧将喷丸材料喷射到工件上，这样可以均匀而有效地搅动工件，使工件不会彼此堆积，而不会使工件彼此过度地碰撞以及不会使工件彼此以较大的冲击力彼此碰撞。因此处理效率提高并可以抑制工件的破碎和断裂。此外在喷丸设备中，管筒支撑在一个支撑件的中心轴的圆周外侧，支撑件可绕所述中心轴转动，这样可以更加有效地抑制工件的破碎和断裂。
-
公开(公告)号：CN1273639C
公开(公告)日：2006-09-06
申请号：CN01812597.2
申请日：2001-07-06
Applicant: 株式会社新王磁材
CPC classification number: C23C14/223 , C23C14/505 , C23C14/541 , H01F41/026
Abstract: 本发明的阻止在金属沉积薄膜上形成凸起的方法，其特征在于它使用一种气相沉积设备，所述设备包括真空处理腔内的一用于沉积材料的蒸发部分以及一容置元件或夹持元件，用于容置或夹持工件，通过使容置元件或夹持元件围绕水平轴线转动，可以将金属沉积材料沉积在工件的每个表面上。所进行的气相沉积导致形成在每个工件表面上的薄膜的维氏硬度保持在25或更高。根据本发明，当在诸如稀土金属基磁铁的工件表面上形成铝、锌或类似金属的金属沉积薄膜时，可以有效地阻止在金属沉积薄膜上产生凸起。
-
公开(公告)号：CN1187472C
公开(公告)日：2005-02-02
申请号：CN01111757.5
申请日：2001-03-23
Applicant: 株式会社新王磁材
CPC classification number: C23C14/505 , H01F1/0556 , H01F41/026
Abstract: 本发明第一实施例提供了一种沉积膜形成设备，其中筒体和蒸发段之间的距离可以改变，因此可以同时取得在每个装在筒体中的工件表面上有效形成沉积膜以及抑制其软化。则可以抑制在每个工件表面上形成的沉积膜的损坏以及在沉积膜上产生突起，并以高质量的抗腐蚀性和较低的成本形成沉积膜。根据本发明第二实施例的沉积膜形成设备，限定在筒体中的容装段和蒸发段之间的距离改变，此沉积膜形成设备具有与本发明第一实施例的沉积膜沉积设备相似的效果。
-
公开(公告)号：CN1180935C
公开(公告)日：2004-12-22
申请号：CN00108115.2
申请日：2000-04-28
Applicant: 株式会社新王磁材
CPC classification number: C23C10/34 , C23C10/02 , Y10T428/12569 , Y10T428/24413 , Y10T428/24909 , Y10T428/31678 , Y10T428/31681
Abstract: 将树脂模压制品和细金属粉末生成材料放入处理容器中。使该细金属粉末生成材料与该树脂模压制品的表面进行流动性接触，结果生成了细金属粉末并在树脂模压制品的表面上形成了由该细金属粉末生成的金属层。通过这种工艺可以在树脂模压制品的表面上形成由细金属粉末生成的坚固、高密度的金属层。该金属层具有导电能力。因此，通过采用电镀处理，可以用简单的方法在此金属层上形成具有精确厚度、极佳的表面光洁度和高剥离强度的金属薄膜。另外，此金属层本身可能就具有装饰性之类的功能和特性。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
17
records
(took 0.021 seconds)
