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公开(公告)号：CN117241614A
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202310702681.5
申请日：2023-06-14
Applicant: 株式会社日本显示器
IPC: H10K59/122 , H10K59/80 , H10K71/00
Abstract: 本发明涉及显示装置及其制造方法。一个实施方式涉及的显示装置具备：下电极；肋部，其具有与所述下电极重叠的像素开口；隔壁，其具有配置在所述肋部之上的下部和从所述下部的侧面突出的上部；上电极，其与所述下电极相对；有机层，其位于所述下电极与所述上电极之间，通过所述像素开口而与所述下电极接触，并且对应于所述下电极与所述上电极的电位差而发光；和密封层，其连续覆盖显示元件和所述隔壁，其中，所述显示元件包含所述下电极、所述上电极及所述有机层。所述肋部包含第1肋部层、和覆盖所述第1肋部层的第2肋部层。所述密封层及所述第1肋部层由第1无机材料形成。所述第2肋部层由与所述第1无机材料不同的第2无机材料形成。
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公开(公告)号：CN118215329A
公开(公告)日：2024-06-18
申请号：CN202311687489.X
申请日：2023-12-11
Applicant: 株式会社日本显示器
IPC: H10K59/12 , H10K59/80 , H10K59/122 , H10K59/131 , H10K50/805 , H10K50/84 , H10K50/844 , H10K71/00
Abstract: 本发明涉及显示装置及其制造方法。一实施方式涉及的显示装置具备：下电极；具有与所述下电极重叠的像素开口的肋部；包括配置在所述肋部之上的导电性的底部、配置在所述底部之上的轴部、和配置在所述轴部之上且从所述轴部的侧面突出的顶部的隔壁；通过所述像素开口而覆盖所述下电极并相应于电压的施加而发光的有机层；覆盖所述有机层且与所述底部接触的上电极；和连续地覆盖所述隔壁和包括所述有机层及所述上电极的薄膜的密封层。所述底部由钼‑钨合金形成。从所述底部的下表面到所述轴部的上表面为止的高度为500nm以下，所述密封层的厚度为1.5μm以下，所述底部的厚度为50nm以上。
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公开(公告)号：CN118215360A
公开(公告)日：2024-06-18
申请号：CN202311659273.2
申请日：2023-12-06
Applicant: 株式会社日本显示器
IPC: H10K59/80 , H10K59/121 , H10K59/12
Abstract: 本发明涉及显示装置及其制造方法。一实施方式涉及的显示装置具备：下电极；具有与所述下电极重叠的像素开口的肋部；包括配置在所述肋部之上的导电性的底部、配置在所述底部之上的轴部和配置在所述轴部之上的顶部的隔壁；通过所述像素开口而覆盖所述下电极且相应于电压的施加而发光的有机层；和覆盖所述有机层且与所述底部接触的上电极。所述底部及所述顶部从所述轴部的侧面突出。所述底部从所述侧面突出的第一突出长度为0.2μm以上且0.7μm以下。
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公开(公告)号：CN118119225A
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN202311602391.X
申请日：2023-11-28
Applicant: 株式会社日本显示器
IPC: H10K59/123 , H10K59/124 , H10K59/80 , H10K71/00
Abstract: 本发明涉及显示装置及其制造方法。根据一实施方式，在显示装置的制造方法中：形成下电极；形成覆盖所述下电极的绝缘层；形成隔壁，所述隔壁具有位于所述绝缘层之上并由导电材料形成的下部、和位于所述下部之上并从所述下部的侧面突出的上部；通过对所述绝缘层进行图案化，从而形成与所述下电极重叠的开口；在所述下电极之上形成包含发光层的有机层；形成覆盖所述有机层并与所述隔壁的所述下部接触的上电极，其中，所述绝缘层由四乙氧基硅烷(TEOS)形成。
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公开(公告)号：CN117222260A
公开(公告)日：2023-12-12
申请号：CN202310673560.2
申请日：2023-06-08
Applicant: 株式会社日本显示器
IPC: H10K59/122 , H10K59/12 , H10K59/80 , H10K50/805 , H10K50/844 , H10K50/10 , G09F9/33 , H10K71/00
Abstract: 本发明涉及显示装置。根据一个实施方式，显示装置具备：基板；下电极，其配置于前述基板的上方；肋部，其由无机绝缘材料形成、具有与前述下电极重叠的开口；隔壁，其具有配置于前述肋部之上且由导电材料形成的下部、和配置于前述下部之上且从前述下部的侧面突出的上部；有机层，其在前述开口处配置于前述下电极之上；上电极，其配置于前述有机层之上；盖层，其配置于前述上电极之上；和密封层，其覆盖前述盖层、与前述隔壁的前述下部相接，前述开口的边缘包含第1直线部、第2直线部、以及与前述第1直线部及前述第2直线部连接的曲线部，前述第1直线部与前述第2直线部所成的角度为90°以上。
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公开(公告)号：CN117320490A
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202310775267.7
申请日：2023-06-28
Applicant: 株式会社日本显示器
IPC: H10K59/122 , H10K59/121 , H10K71/00
Abstract: 本发明涉及显示装置。显示装置具备：第1下电极；肋部，其具有与所述第1下电极重叠的第1像素开口；隔壁，其具有配置在所述肋部之上的下部及从所述下部的侧面突出的上部；第1上电极，其与所述第1下电极相对；和第1有机层，其位于所述第1下电极与所述第1上电极之间、通过所述第1像素开口而与所述第1下电极接触、并对应于所述第1下电极与所述第1上电极的电位差而发光。所述下部具有与所述第1上电极接触的底层、和配置在所述底层之上的轴层。所述底层由在包含磷酸、硝酸及乙酸的混酸中的蚀刻速率小于所述轴层且具有导电性的材料形成。
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公开(公告)号：CN116669462A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310175000.4
申请日：2023-02-27
Applicant: 株式会社日本显示器
IPC: H10K50/844 , H10K71/00 , H10K59/12 , H10K59/35
Abstract: 本发明涉及显示装置的制造方法。根据实施方式，显示装置的制造方法包括：在基板的上方形成第1下电极；形成覆盖前述第1下电极的绝缘层；形成隔壁，所述隔壁具有位于前述绝缘层之上的下部、和从前述下部的侧面突出的上部；在形成前述隔壁后，使与前述第1下电极重叠的第1像素开口形成于前述绝缘层；形成通过前述第1像素开口而与前述第1下电极接触的第1有机层；形成覆盖前述第1有机层的第1上电极；将前述第1有机层及前述第1上电极图案化，从而形成包含前述第1下电极、前述第1有机层及前述第1上电极的第1显示元件。
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公开(公告)号：CN116568088A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310086898.8
申请日：2023-01-19
Applicant: 株式会社日本显示器
IPC: H10K59/131 , H10K59/35 , H01L21/3213 , H10K71/00
Abstract: 本发明涉及显示装置及其制造方法。根据实施方式，显示装置具备：下电极；肋部，其覆盖所述下电极的一部分并且具有与所述下电极重叠的开口；隔壁，其配置在所述肋部之上；上电极，其与所述下电极相对，并与所述隔壁接触；有机层，其位于所述下电极与所述上电极之间，并相应于所述下电极与所述上电极的电位差而发光；和密封层，其位于所述上电极之上。所述隔壁具有配置在所述肋部之上的下部、和配置在所述下部之上且具有从所述下部的侧面突出的端部的上部。所述上部包含导电性氧化物及钛中的至少一者。
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公开(公告)号：CN116583159A
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN202310072440.7
申请日：2023-02-07
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明涉及显示装置的制造方法。根据一个实施方式，显示装置的制造方法将形成有下电极的处理基板配置在腔室内的载置台之上，以在所述载置台与对置电极之间形成了第1距离的状态形成与所述下电极重叠的第1绝缘层，之后，以在所述载置台与所述对置电极之间形成了比所述第1距离大的第2距离的状态，在所述第1绝缘层之上形成第2绝缘层，使所述第1绝缘层及所述第2绝缘层图案化，形成具有与所述下电极重叠的开口的肋部，形成具有位于所述肋部之上的下部、和位于所述下部之上并从所述下部的侧面突出的上部的隔壁，形成有机层，形成上电极，形成盖层，形成封固层。
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公开(公告)号：CN116583139A
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN202310071970.X
申请日：2023-02-07
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明涉及显示装置及显示装置的制造方法。根据一实施方式，显示装置包括：基板；配置在基板的上方的下电极；由硅氧化物或硅氧氮化物形成且具有与下电极重叠的开口的肋部；具有配置在肋部之上的下部和配置在下部之上并从下部的侧面突出的上部的隔壁；有机层，具有配置在下电极之上并与隔壁的下部分离的第1部分和配置在上部之上的第2部分，第1部分和第2部分包含由同一材料形成的发光层；上电极，其具有配置在有机层的第1部分之上并与隔壁的下部相接的第1部分和配置在有机层的第2部分之上的第2部分；盖层，其具有配置在上电极的第1部分之上的第1部分和配置在上电极的第2部分之上的第2部分；和封固层，其覆盖盖层的第1部分及第2部分。
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