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公开(公告)号：CN102166556B
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN201110006453.1
申请日：2011-01-13
Applicant: 株式会社日立工业设备技术
CPC classification number: B41J29/38 , B41J11/0015 , B41J11/008 , B41J11/0085
Abstract: 本发明提供一种喷墨涂敷装置以及方法。对膜表面的应涂敷的目标位置直接进行测量并校正，从喷墨涂敷头的喷嘴孔向正确的位置射出液滴，从而膜的涂敷质量提高。从卷出侧膜辊(2)卷出的膜(1)，被以使其涂敷对象区域在涂敷部(17)中位于吸附平台(10)上的方式搬送。与喷墨涂敷头邻接地设置摄像照相机，该涂敷头和该摄像照相机的设置位置成为一体而形成涂敷头组件部，涂敷头组件在吸附平台的上方通过能三维地移动的XYZ轴方向驱动单元而移动，在由涂敷头进行的涂敷动作中利用摄像照相机对接下来应涂敷的位置预先进行摄像，通过图像处理单元对由摄像照相机进行摄像而得到的摄像结果进行处理，从而校正与最初设定的涂敷位置的偏移量，使涂敷头移动到接下来要涂敷的位置。
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公开(公告)号：CN103008167A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210298580.8
申请日：2012-08-21
Applicant: 株式会社日立工业设备技术
Abstract: 本发明以提供一种能够将玻璃糊剂的涂敷高度恰当地维持在规定的误差范围的糊剂涂敷装置以及糊剂涂敷方法为课题。本发明的糊剂涂敷装置以及糊剂涂敷方法的特征在于，在形成从喷嘴（55a）的始点（Ps）开始的始端部（101S）的部分，使喷嘴高度（Nh）比基准涂敷高度（StdH）低，喷嘴（55a）移动，在形成到喷嘴（55a）的终点（Pe）为止的终端部（101E）的部分，使喷嘴高度（Nh）比基准涂敷高度（StdH）高，喷嘴（55a）移动，在形成始端部（101S）的部分以及形成终端部（101E）的部分以外的部分，将喷嘴高度（Nh）作为基准涂敷高度（StdH），喷嘴（55a）移动，再有，在始端部（101S）和终端部（101E）的至少一部分，喷嘴（55a）以玻璃糊剂（Gp）被重叠地涂敷的方式移动。
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公开(公告)号：CN103008166A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210298578.0
申请日：2012-08-21
Applicant: 株式会社日立工业设备技术
Abstract: 本发明提供一种能够吸收由管嘴的移动方向的不同产生的涂敷高度的不同，确保玻璃糊剂的涂敷高度的精度的糊剂涂敷方法及糊剂涂敷装置。本发明的糊剂涂敷方法，为使管嘴（55a）沿蒸镀了有机EL元件的基片（8）的蒸镀部（A1）的周围移动，在基片（8）的蒸镀部（A1）的周围涂敷玻璃糊剂的糊剂涂敷方法；其特征在于：具有准备工序和涂敷工序；在该准备工序中，对管嘴（55a）沿蒸镀部（A1）的周围移动时的各移动方向设定对管嘴（55a）移动时的管嘴高度进行修正的管嘴修正量；在该涂敷工序中，对各移动方向以管嘴修正量修正管嘴高度，使管嘴（55a）沿蒸镀部（A1）的周围移动，涂敷玻璃糊剂。另外，本发明的糊剂涂敷装置，为按该糊剂涂敷方法在基片（8）上涂敷玻璃糊剂的糊剂涂敷装置（100）。
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公开(公告)号：CN102166556A
公开(公告)日：2011-08-31
申请号：CN201110006453.1
申请日：2011-01-13
Applicant: 株式会社日立工业设备技术
CPC classification number: B41J29/38 , B41J11/0015 , B41J11/008 , B41J11/0085
Abstract: 本发明提供一种喷墨涂敷装置以及方法。对膜表面的应涂敷的目标位置直接进行测量并校正，从喷墨涂敷头的喷嘴孔向正确的位置射出液滴，从而膜的涂敷质量提高。从卷出侧膜辊(2)卷出的膜(1)，被以使其涂敷对象区域在涂敷部(17)中位于吸附平台(10)上的方式搬送。与喷墨涂敷头邻接地设置摄像照相机，该涂敷头和该摄像照相机的设置位置成为一体而形成涂敷头组件部，涂敷头组件在吸附平台的上方通过能三维地移动的XYZ轴方向驱动单元而移动，在由涂敷头进行的涂敷动作中利用摄像照相机对接下来应涂敷的位置预先进行摄像，通过图像处理单元对由摄像照相机进行摄像而得到的摄像结果进行处理，从而校正与最初设定的涂敷位置的偏移量，使涂敷头移动到接下来要涂敷的位置。
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