公开(公告)号：CN102166556A

公开(公告)日：2011-08-31

申请号：CN201110006453.1

申请日：2011-01-13

Applicant: 株式会社日立工业设备技术

Inventor： 水鸟量介 ,  松井淳一 ,  宫本芳次 ,  渡边勝义 ,  中村秀男

IPC: B05C5/00 ,  B05C11/00 ,  B05D1/26 ,  B05B15/10

CPC classification number: B41J29/38 ,  B41J11/0015 ,  B41J11/008 ,  B41J11/0085

Abstract: 本发明提供一种喷墨涂敷装置以及方法。对膜表面的应涂敷的目标位置直接进行测量并校正，从喷墨涂敷头的喷嘴孔向正确的位置射出液滴，从而膜的涂敷质量提高。从卷出侧膜辊(2)卷出的膜(1)，被以使其涂敷对象区域在涂敷部(17)中位于吸附平台(10)上的方式搬送。与喷墨涂敷头邻接地设置摄像照相机，该涂敷头和该摄像照相机的设置位置成为一体而形成涂敷头组件部，涂敷头组件在吸附平台的上方通过能三维地移动的XYZ轴方向驱动单元而移动，在由涂敷头进行的涂敷动作中利用摄像照相机对接下来应涂敷的位置预先进行摄像，通过图像处理单元对由摄像照相机进行摄像而得到的摄像结果进行处理，从而校正与最初设定的涂敷位置的偏移量，使涂敷头移动到接下来要涂敷的位置。

公开(公告)号：CN102166556B

公开(公告)日：2013-08-21

申请号：CN201110006453.1

申请日：2011-01-13

Applicant: 株式会社日立工业设备技术

Inventor： 水鸟量介 ,  松井淳一 ,  宫本芳次 ,  渡边勝义 ,  中村秀男

IPC: B05C5/00 ,  B05C11/00 ,  B05D1/26 ,  B05B15/10

CPC classification number: B41J29/38 ,  B41J11/0015 ,  B41J11/008 ,  B41J11/0085

Abstract: 本发明提供一种喷墨涂敷装置以及方法。对膜表面的应涂敷的目标位置直接进行测量并校正，从喷墨涂敷头的喷嘴孔向正确的位置射出液滴，从而膜的涂敷质量提高。从卷出侧膜辊(2)卷出的膜(1)，被以使其涂敷对象区域在涂敷部(17)中位于吸附平台(10)上的方式搬送。与喷墨涂敷头邻接地设置摄像照相机，该涂敷头和该摄像照相机的设置位置成为一体而形成涂敷头组件部，涂敷头组件在吸附平台的上方通过能三维地移动的XYZ轴方向驱动单元而移动，在由涂敷头进行的涂敷动作中利用摄像照相机对接下来应涂敷的位置预先进行摄像，通过图像处理单元对由摄像照相机进行摄像而得到的摄像结果进行处理，从而校正与最初设定的涂敷位置的偏移量，使涂敷头移动到接下来要涂敷的位置。