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公开(公告)号：CN103608891A
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：CN201280028058.6
申请日：2012-05-16
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/30 , H01J37/304
CPC分类号： H01J37/3056 , H01J37/244 , H01J37/30 , H01J37/304 , H01J2237/31713 , H01J2237/31745
摘要： 一种带电粒子束装置，在具有样品依赖性的FIB加工中，不受操作者的个人差异的影响，能够高效地加工成期望的形状。在带电粒子束装置中安装：将由离子源产生的离子束照射给样品的离子束光学系统装置及其控制装置；检测样品的组成元素的元素检测器及其控制装置；和基于由元素检测器确定的元素来自动设定样品的加工条件的中央处理装置。
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公开(公告)号：CN104126217B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201380010185.8
申请日：2013-02-20
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： H01J37/244 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/244 , H01J37/28 , H01J37/3056 , H01J37/3178 , H01J2237/244 , H01J2237/24495 , H01J2237/24571
摘要： 提供一种能够高分辨率检测从试样(101)释放的荷电粒子(201)，高灵敏度的荷电粒子束装置。在配置为与试样(101)接触，由此由于照射的荷电粒子束(104)在试样(101)产生的吸收电流在自身中流过来进行检测，通过荷电粒子束(104)在试样(101)上扫描取得吸收电流图像的荷电粒子束装置中，在离开试样(101)配置了吸收电流检测器(202)的情况下，吸收电流检测器(202)在通过荷电粒子束(101)的照射从试样(101)出射的荷电粒子束(201)入射时，将入射的荷电粒子束(201)作为信号电流(Ia)检测，该信号电流(Ia)依存于从荷电粒子束(104)在试样(101)上的照射位置向吸收电流检测器(202)的方向相对于试样(101)的表面的法线方向和荷电粒子束(104)的入射方向中的至少一个方向所形成的角度θ。
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公开(公告)号：CN103608891B
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201280028058.6
申请日：2012-05-16
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/30 , H01J37/304
CPC分类号： H01J37/3056 , H01J37/244 , H01J37/30 , H01J37/304 , H01J2237/31713 , H01J2237/31745
摘要： 一种带电粒子束装置，在具有样品依赖性的FIB加工中，不受操作者的个人差异的影响，能够高效地加工成期望的形状。在带电粒子束装置中安装：将由离子源产生的离子束照射给样品的离子束光学系统装置及其控制装置；检测样品的组成元素的元素检测器及其控制装置；和基于由元素检测器确定的元素来自动设定样品的加工条件的中央处理装置。
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公开(公告)号：CN104126217A
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：CN201380010185.8
申请日：2013-02-20
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： H01J37/244 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/244 , H01J37/28 , H01J37/3056 , H01J37/3178 , H01J2237/244 , H01J2237/24495 , H01J2237/24571
摘要： 提供一种能够高分辨率检测从试样(101)释放的荷电粒子(201)，高灵敏度的荷电粒子束装置。在配置为与试样(101)接触，由此由于照射的荷电粒子束(104)在试样(101)产生的吸收电流在自身中流过来进行检测，通过荷电粒子束(104)在试样(101)上扫描取得吸收电流图像的荷电粒子束装置中，在离开试样(101)配置了吸收电流检测器(202)的情况下，吸收电流检测器(202)在通过荷电粒子束(101)的照射从试样(101)出射的荷电粒子束(201)入射时，将入射的荷电粒子束(201)作为信号电流(Ia)检测，该信号电流(Ia)依存于从荷电粒子束(104)在试样(101)上的照射位置向吸收电流检测器(202)的方向相对于试样(101)的表面的法线方向和荷电粒子束(104)的入射方向中的至少一个方向所形成的角度θ。
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