公开(公告)号：CN101512036A

公开(公告)日：2009-08-19

申请号：CN200780033699.X

申请日：2007-09-10

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 永田浩 ,  中村久三 ,  加藤丈夫 ,  中塚笃 ,  向江一郎 ,  伊藤正美 ,  吉良良 ,  新垣良宪

IPC: C23C14/24 ,  H01F1/053 ,  H01F1/08 ,  H01F41/02

CPC classification number: C23C14/24 ,  H01F41/0293

Abstract: 本发明提供一种真空蒸气处理装置，其适于实施在处理室内形成金属蒸气气氛、该金属蒸气气氛中的金属附着到被处理物的表面，并且使附着到被处理物表面的金属原子扩散到其晶界内的处理。其具有处理炉11，设置在该处理炉内的至少一个处理箱，以及设置在处理炉内围绕该处理箱周围的加热手段2。当在处理箱内配置了被处理物S与金属蒸发材料V的状态下将其收容到处理炉中后，设置将处理炉和处理箱减压到规定压力并保持的真空排气手段，在减压状态下使加热手段动作，将被处理物加热到规定温度的过程中，一边升温一边使金属蒸发材料蒸发，并将该蒸发的金属原子提供到被处理物表面。