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公开(公告)号：CN102482105B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201080039072.7
申请日：2010-09-17
申请人： 株式会社爱发科
IPC分类号： C01B33/037
CPC分类号： C01B33/037 , H05H1/44
摘要： 本发明的硅精制方法中，使用至少具备填充金属硅的坩埚和等离子体喷枪的硅精制装置，填充在所述坩埚中的金属硅的熔融金属面与由所述等离子体喷枪喷射的等离子体气体形成的角被设定为20度以上80度以下的状态下，向着所述熔融金属面喷射所述等离子体气体，由此精制所述金属硅。
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公开(公告)号：CN101808765A
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN200880108571.X
申请日：2008-09-19
申请人： 株式会社爱发科
IPC分类号： B22D11/06 , B22D11/00 , B22D11/124 , H01F41/02
CPC分类号： B22D11/0611 , B22D11/124 , B22D30/00 , H01F41/0253
摘要： 提供一种能够慢冷铸造薄片的二次冷却装置和使用该二次冷却装置的铸造装置。在二次冷却装置(22)的容器(40)内配置梳齿装置(50)，在梳齿装置(50)上层叠铸造薄片(71)，在铸造薄片(71)上载置破碎细片(72)，慢冷铸造薄片(71)和破碎细片(72)之后借助按压装置(60)破碎铸造薄片(71)，使破碎细片(72)与底壁(42)的表面及冷却齿(511)、(512)、……、(51n)的侧面接触而进行快冷。能够借助慢冷进行富Nd相及富稀土相的退火处理，在借助快冷降温到破碎细片(72)的氧化温度以下后，能够取出到大气中。
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公开(公告)号：CN101660126A
公开(公告)日：2010-03-03
申请号：CN200910170391.0
申请日：2006-03-14
申请人： 株式会社爱发科
CPC分类号： C23C14/16 , C23C14/243 , C23C14/541 , H01F1/0571 , H01F10/126 , H01F41/0293 , H01F41/20
摘要： 本发明涉及成膜方法和成膜装置以及永磁铁和永磁铁的制造方法，提供一种真空处理装置，其具有：可真空排气的处理室，加热所述处理室内的加热手段，以及在所述处理室内将散块体蒸发材料和被处理物间隔配置并保持的保持手段；保持所述被处理物的保持手段由下述部件构成，其允许因加热所述处理室内而蒸发的蒸发材料通过，并可并列设置多个所述被处理物。所述保持手段的构成使所述金属蒸发材料和被处理物在上下方向上间隔配置。所述保持手段由不与因加热所述处理室内而蒸发的材料发生反应的材料构成。
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公开(公告)号：CN101563739A
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200780047391.0
申请日：2007-12-19
申请人： 株式会社爱发科
CPC分类号： H01F41/026 , H01F1/0577 , H01F7/02 , H01F41/0293
摘要： 本发明提供一种永磁铁的制造方法，在Dy或Tb附着到烧结磁铁S表面之前，不必进行清洁该烧结磁铁表面的工序，即可使Dy或Tb扩散到其晶界相中，以提高永磁铁的生产效率。其方法为：将铁－硼－稀土类系的烧结磁铁S配置到处理室20内并加热到规定温度的同时，使配置在相同或其他处理室内的至少含Dy及Tb中的一种的氢化物构成的蒸发材料V蒸发，使该蒸发的蒸发材料附着到烧结磁铁表面，使该附着蒸发材料的Dy、Tb金属原子扩散到烧结磁铁的晶界相中。
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公开(公告)号：CN101563739B
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN200780047391.0
申请日：2007-12-19
申请人： 株式会社爱发科
CPC分类号： H01F41/026 , H01F1/0577 , H01F7/02 , H01F41/0293
摘要： 本发明提供一种永磁铁的制造方法，在Dy或Tb附着到烧结磁铁（S）表面之前，不必进行清洁该烧结磁铁表面的工序，即可使Dy或Tb扩散到其晶界相中，以提高永磁铁的生产效率。其方法为：将铁-硼-稀土类系的烧结磁铁（S）配置到处理室（20）内并加热到规定温度的同时，使配置在相同或其他处理室内的至少含Dy及Tb中的一种的氢化物构成的蒸发材料（V）蒸发，使该蒸发的蒸发材料附着到烧结磁铁表面，使该附着蒸发材料的Dy、Tb金属原子扩散到烧结磁铁的晶界相中。
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公开(公告)号：CN101517669B
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：CN200780034225.7
申请日：2007-09-10
申请人： 株式会社爱发科
CPC分类号： H01F7/0221 , C23C14/18 , C23C14/24 , C23C14/243 , C23C14/5806 , H01F1/0577 , H01F41/0293
摘要： 本发明提供一种具有更高磁特性的永磁铁，以规定形状在铁-硼-稀土系烧结磁铁表面形成Dy、Tb膜，并使其向晶界相扩散。一种永磁铁的制造方法，包括：成膜工序，使至少含有Dy及Tb中的一种金属蒸发材料蒸发，使该蒸发的金属原子附着到该烧结磁铁表面；扩散工序，通过实施热处理，使附着在表面上的前述金属原子扩散到烧结磁铁的晶界相中；前述金属蒸发材料至少含Nd、Pr中的一种。
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公开(公告)号：CN101660127B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN200910170392.5
申请日：2006-03-14
申请人： 株式会社爱发科
CPC分类号： C23C14/16 , C23C14/243 , C23C14/541 , H01F1/0571 , H01F10/126 , H01F41/0293 , H01F41/20
摘要： 本发明涉及成膜方法和成膜装置以及永磁铁和永磁铁的制造方法，提供一种真空处理装置，具有：处理室，其可真空排气；加热手段，其加热所述处理室内；保持手段，其在所述处理室内分别保持散块体金属蒸发材料和被处理物；在所述处理室的减压状态下使所述加热手段动作，将处理室加热到至少使金属蒸发材料蒸发的温度在处理室内形成金属蒸汽气氛，所述蒸汽气氛中的金属原子附着到被加热的被处理物表面。所述金属蒸发材料至少包含Dy、Tb中的一种，所述被处理物为具有规定形状的铁-硼-稀土系烧结磁铁，可控制该烧结磁铁的加热温度使所述烧结磁铁表面附着的金属原子扩散到其晶界中。保持所述烧结磁铁及金属蒸发材料的保持部件由不与Dy或Tb反应的材料构成。
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公开(公告)号：CN101512036B
公开(公告)日：2011-11-02
申请号：CN200780033699.X
申请日：2007-09-10
申请人： 株式会社爱发科
CPC分类号： C23C14/24 , H01F41/0293
摘要： 本发明提供一种真空蒸气处理装置，其适于实施在处理室内形成金属蒸气气氛、该金属蒸气气氛中的金属附着到被处理物的表面，并且使附着到被处理物表面的金属原子扩散到其晶界内的处理。其具有处理炉11，设置在该处理炉内的至少一个处理箱，以及设置在处理炉内围绕该处理箱周围的加热手段2。当在处理箱内配置了被处理物S与金属蒸发材料V的状态下将其收容到处理炉中后，设置将处理炉和处理箱减压到规定压力并保持的真空排气手段，在减压状态下使加热手段动作，将被处理物加热到规定温度的过程中，一边升温一边使金属蒸发材料蒸发，并将该蒸发的金属原子提供到被处理物表面。
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公开(公告)号：CN101600527A
公开(公告)日：2009-12-09
申请号：CN200780049550.0
申请日：2007-12-05
申请人： 株式会社爱发科
CPC分类号： H01F41/0273 , B22F3/004 , B22F3/03 , B22F3/087 , B22F2999/00 , B30B11/008 , H01F41/0266 , B22F2202/05 , B22F2202/06 , B22F2202/17
摘要： 本发明提供一种成形装置，其可通过使磁场中具有更相等结晶方位关系的合金原料粉末的结晶断面彼此吻合，成形具有极高定向性的成形体。该成形装置(1)具有：模腔(22)，其填充磁场或电场中极化的粉末；磁场或电场发生手段(4)，其可对填充在该模腔内的粉末外加磁场或电场；搅拌手段(54)，其在用磁场或电场发生手段外加了磁场或电场的状态下通过搅拌粉末使之定向；加压手段(31)、(32)，其通过对搅拌及定向后的工件在磁场或电场中外加压力使之成形。
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公开(公告)号：CN101563738A
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200780047381.7
申请日：2007-12-19
申请人： 株式会社爱发科
CPC分类号： C22C38/005 , C22C38/06 , C22C38/10 , C22C38/12 , C22C38/16 , H01F1/0577 , H01F41/0293
摘要： 提供一种永磁铁的制造方法，使附着在包含润滑剂的烧结磁铁表面的Dy、Tb高效扩散到晶界相中，可以高生产效率制作出高磁特性的永磁铁；其包括：第一工序，使Dy、Tb中的至少一种，附着到包含润滑剂的铁－硼－稀土类系的合金原料粉末烧结而成的烧结磁铁表面的至少一部分中；第二工序，通过在规定温度下实施热处理，使附着在烧结磁铁表面上的Dy、Tb中中的至少一种扩散到烧结磁铁的晶界相中；此时，作为烧结磁铁使用的是平均结晶粒径在4μm～8μm范围内制作的磁铁。
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