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公开(公告)号：CN117642848A
公开(公告)日：2024-03-01
申请号：CN202280047411.9
申请日：2022-09-26
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/683 , H01L21/31 , C23C14/50
Abstract: 本发明提供一种带有台架的真空处理装置，在所述台架上被处理基板能够不发生位置偏移地错开其相位。所述真空处理装置具备设置有被处理基板(Sw)的台架(4)；还具备升降旋转机构(Rm)，其将台架上的被处理基板从台架上表面抬起到规定高度位置，可在这个抬起位置处使被处理基板绕其基板中心以规定的旋转角旋转，升降旋转机构具有：组装在台架内上下移动自如及旋转自如的驱动杆(5)；以及基板支撑体(6)，其包括能够与包含基板中心的被处理基板的中央区域抵接的基端板部(61)和从基端板部向其外侧延伸并能与被处理基板的沿径向的部分抵接的至少2个臂板部(62)；基板支撑体平时没入台架内，被处理基板由通过驱动杆的上移而被抬起的基端板部和臂板部支撑。
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