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公开(公告)号:CN101496105B
公开(公告)日:2011-07-06
申请号:CN200780028420.9
申请日:2007-07-27
申请人: 株式会社理光
CPC分类号: G11B7/2433 , G11B7/0062 , G11B7/24079 , G11B7/2437 , G11B7/2585 , G11B7/259 , G11B2007/24306 , G11B2007/2431 , G11B2007/24314 , G11B2007/2432
摘要: 提供一种可记录光学记录介质,其包含:基板、记录层以及反射层,其中该记录层和该反射层形成于该基板上,该记录层由无机材料形成,以及利用通过照射蓝色激光导致的在该记录层的不可逆变化,信息记录在该可记录光学记录介质上。
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公开(公告)号:CN101037766B
公开(公告)日:2011-03-02
申请号:CN200710085608.9
申请日:2007-03-01
申请人: 株式会社理光
CPC分类号: C23C14/08 , C23C14/0036 , C23C14/3414 , G11B7/243 , G11B7/2585 , G11B7/266 , G11B2007/2431 , G11B2007/24314 , G11B2007/2432 , H01J37/34 , H01J37/3414 , H01J37/3429 , Y10T428/21
摘要: 本发明提供一种以含有Bi和B为特征的用于制作追记型光记录介质的溅射靶及其制造方法、使用该溅射靶的追记型高密度光记录介质,以及可以提高制膜速度来提高生产性、制膜时的强度高、并且提高了填充密度的用于制作追记型光记录介质的溅射靶。
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公开(公告)号:CN1700322A
公开(公告)日:2005-11-23
申请号:CN200510072716.3
申请日:2005-05-17
申请人: 株式会社理光
摘要: 本发明涉及通过照射激光可使信息再生或记录的能用于高速记录的光记录媒体及其制造方法。在基板上至少设有下部保护层,光记录层,上部保护层,中间层,含有Ag95原子%以上的光反射层。中间层包含选自Ti,Nb,Ta的至少一种元素的碳化物,或者选自Ti,Nb,Ta的至少一种元素(M),碳(C)及氧(O)。最小记录标记的记录时间为34ns以下也能记录,或者信道位长的记录时间为11ns以下也能记录,或者记录线速度为11m/s以上也能记录。提供高温高湿下保存可靠性好,高温动作稳定,机械特性良好,生产效率高,可高速高密度地进行光记录的光记录媒体。
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公开(公告)号:CN101496105A
公开(公告)日:2009-07-29
申请号:CN200780028420.9
申请日:2007-07-27
申请人: 株式会社理光
CPC分类号: G11B7/2433 , G11B7/0062 , G11B7/24079 , G11B7/2437 , G11B7/2585 , G11B7/259 , G11B2007/24306 , G11B2007/2431 , G11B2007/24314 , G11B2007/2432
摘要: 提供一种可记录光学记录介质,其包含:基板、记录层以及反射层,其中该记录层和该反射层形成于该基板上,该记录层由无机材料形成,以及利用通过照射蓝色激光导致的在该记录层的不可逆变化,信息记录在该可记录光学记录介质上。
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公开(公告)号:CN100383871C
公开(公告)日:2008-04-23
申请号:CN200510072716.3
申请日:2005-05-17
申请人: 株式会社理光
摘要: 本发明涉及通过照射激光可使信息再生或记录的能用于高速记录的光记录媒体及其制造方法。在基板上至少设有下部保护层,光记录层,上部保护层,中间层,含有Ag 95原子%以上的光反射层。中间层包含选自Ti,Nb,Ta的至少一种元素的碳化物,或者选自Ti,Nb,Ta的至少一种元素(M),碳(C)及氧(O)。最小记录标记的记录时间为34ns以下也能记录,或者信道位长的记录时间为11ns以下也能记录,或者记录线速度为11m/s以上也能记录。提供高温高湿下保存可靠性好,高温动作稳定,机械特性良好,生产效率高,可高速高密度地进行光记录的光记录媒体。
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公开(公告)号:CN101037766A
公开(公告)日:2007-09-19
申请号:CN200710085608.9
申请日:2007-03-01
申请人: 株式会社理光
CPC分类号: C23C14/08 , C23C14/0036 , C23C14/3414 , G11B7/243 , G11B7/2585 , G11B7/266 , G11B2007/2431 , G11B2007/24314 , G11B2007/2432 , H01J37/34 , H01J37/3414 , H01J37/3429 , Y10T428/21
摘要: 本发明提供一种以含有Bi和B为特征的用于制作追记型光记录介质的溅射靶及其制造方法、使用该溅射靶的追记型高密度光记录介质,以及可以提高制膜速度来提高生产性、制膜时的强度高、并且提高了填充密度的用于制作追记型光记录介质的溅射靶。
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公开(公告)号:CN1523593A
公开(公告)日:2004-08-25
申请号:CN03165019.8
申请日:2003-09-13
申请人: 株式会社理光
CPC分类号: G11B7/0062 , G11B7/24 , G11B7/243 , G11B7/252 , G11B7/2534 , G11B7/257 , G11B7/259 , G11B2007/24314 , G11B2007/24316 , Y10T428/21
摘要: 本发明公开了一种光记录介质,当使用数值孔径(NA)为0.65的拾取头,照射功率为11±1mW和波长为660±10nm的连续光时,它的过渡线速度为8m/s至11m/s,且满足下述条件:ΔR=|Rb-Ra|≤3%,其中Rb是未记录区域的反射率,Ra是10个记录循环之后眼孔图样顶部的反射率。在其一种记录模式中,光盘以恒定的角速度旋转,以致于在最内部轨道上具有3至4m/s的线速度,在最外部轨道上具有8至9m/s的线速度。在另一模式中,光盘以恒定的角速度旋转,以致于在最内部轨道上具有5至6m/s的线速度,在最外部轨道上具有13至14m/s的线速度。
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