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公开(公告)号:CN107109636B
公开(公告)日:2019-08-16
申请号:CN201680004806.5
申请日:2016-11-02
申请人: 迪睿合株式会社
IPC分类号: C23C14/34 , C04B35/453
CPC分类号: H01J37/3426 , C04B35/453 , C04B35/62635 , C04B35/64 , C04B35/645 , C04B35/6455 , C04B2235/3256 , C04B2235/3258 , C04B2235/3263 , C04B2235/3268 , C04B2235/3284 , C04B2235/404 , C04B2235/5436 , C04B2235/656 , C04B2235/72 , C04B2235/77 , C23C14/08 , C23C14/083 , C23C14/086 , C23C14/3414 , G11B7/241 , G11B7/243 , G11B7/266 , G11B2007/24304 , G11B2007/24306 , G11B2007/2432
摘要: 提供可供DC溅射的Mn‑Zn‑O类溅射靶材及其制造方法。本发明的Mn‑Zn‑O类溅射靶材的特征在于,在成分组成中含有Mn、Zn、O和元素X(其中,元素X是选自W和Mo的单独1种或2种的元素),相对密度为90%以上,并且,比电阻为1×10‑3Ω・cm以下。
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公开(公告)号:CN107109636A
公开(公告)日:2017-08-29
申请号:CN201680004806.5
申请日:2016-11-02
申请人: 迪睿合株式会社
IPC分类号: C23C14/34 , C04B35/453
CPC分类号: H01J37/3426 , C04B35/453 , C04B35/62635 , C04B35/64 , C04B35/645 , C04B35/6455 , C04B2235/3256 , C04B2235/3258 , C04B2235/3263 , C04B2235/3268 , C04B2235/3284 , C04B2235/404 , C04B2235/5436 , C04B2235/656 , C04B2235/72 , C04B2235/77 , C23C14/08 , C23C14/083 , C23C14/086 , C23C14/3414 , G11B7/241 , G11B7/243 , G11B7/266 , G11B2007/24304 , G11B2007/24306 , G11B2007/2432
摘要: 提供可供DC溅射的Mn‑Zn‑O类溅射靶材及其制造方法。本发明的Mn‑Zn‑O类溅射靶材的特征在于,在成分组成中含有Mn、Zn、O和元素X(其中,元素X是选自W和Mo的单独1种或2种的元素),相对密度为90%以上,并且,比电阻为1×10‑3Ω・cm以下。
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公开(公告)号:CN105845154A
公开(公告)日:2016-08-10
申请号:CN201610163599.X
申请日:2016-03-22
申请人: 武汉理工大学
IPC分类号: G11B7/2531 , G11B7/26 , C08F120/14 , C08K3/36 , C03C17/00
CPC分类号: G11B7/2531 , C03C17/002 , C03C17/008 , C03C2217/213 , C03C2217/255 , C03C2217/475 , C03C2218/116 , C08F120/14 , C08K3/36 , G11B7/266
摘要: 本发明属于光信息存储技术领域。一种大容量长寿命的新型光盘,其特征在于:玻璃基片表面覆盖一层杂化材料薄膜,杂化材料中分散着高密度的金纳米棒。该方法制备的数据存储光盘化学性质和热力学性能稳定,可实现记录数据的长久保存。
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公开(公告)号:CN102918593B
公开(公告)日:2016-07-13
申请号:CN201280001449.9
申请日:2012-02-24
申请人: 松下知识产权经营株式会社
IPC分类号: G11B7/2433 , G11B7/2578 , G11B7/26
CPC分类号: G11B7/2433 , G11B7/24027 , G11B7/24035 , G11B7/24038 , G11B7/252 , G11B7/266 , G11B2007/2431 , G11B2007/24312 , G11B2007/24314 , G11B2007/24316
摘要: 本发明提供一种信息记录介质及其制造方法。该信息记录介质包括3个以上的信息层,且至少一个信息层包括记录层和核生成层,记录层含有由化学式(1)即[(Ge0.5Te0.5)x(In0.4Te0.6)1-x]ySb100-y(mol%)表示且x满足0.8≤x<1.0、y满足95≤y<100的材料,并且核生成层含有由化学式(2)即(Ge0.5Te0.5)z(Bi0.4Te0.6)100-z(mol%)表示且z满足10≤z≤71的材料,并且核生成层与记录层相接的信息记录介质,即使形成较小的记录标记,也能够得到足够的信号振幅,并稳定地保存较小的记录标记。
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公开(公告)号:CN105074045A
公开(公告)日:2015-11-18
申请号:CN201480009608.9
申请日:2014-04-03
申请人: 三菱综合材料株式会社
CPC分类号: G11B7/257 , C04B35/453 , C04B35/645 , C04B35/6455 , C04B2235/3241 , C04B2235/3284 , C04B2235/3286 , C04B2235/3287 , C04B2235/3293 , C23C14/086 , C23C14/3414 , G11B7/266 , G11B2007/25706 , G11B2007/2571 , G11B2007/25715
摘要: 本发明的氧化物溅射靶为如下氧化物烧结体,即,相对于金属成分总量,含有Sn:7at%以上及In:0.1~35.0at%,余量由Zn及不可避免的杂质构成,Sn与Zn的含有原子比Sn/(Sn+Zn)为0.5以下,并具有以固溶有In的Zn2SnO4作为主相的组织。
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公开(公告)号:CN104221087A
公开(公告)日:2014-12-17
申请号:CN201380018693.0
申请日:2013-03-14
申请人: 富士胶片株式会社
IPC分类号: G11B7/26 , G11B7/24 , G11B7/24038
CPC分类号: G11B7/24038 , G11B7/24024 , G11B7/2405 , G11B7/266 , Y10T428/31507
摘要: 本发明提供一种光信息记录介质(10),其由单位构造片(30)层叠而成,其中,该单位构造片(30)具有作为中间层的粘接层(13B)、和至少一层的记录层(12)。在单位构造片(30)中,记录层(12)以及粘接层(13B)通过向一定的涂敷方向涂敷材料而形成,1个光信息记录介质(10)中的单位构造片(30)能够分类为涂敷方向的朝向彼此相差180°的组。
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公开(公告)号:CN101903557B
公开(公告)日:2014-04-30
申请号:CN200880121671.6
申请日:2008-12-09
申请人: JX日矿日石金属株式会社
IPC分类号: C23C14/08 , C04B35/46 , C23C14/34 , G11B7/24 , G11B7/2548 , G11B7/2578 , G11B7/26
CPC分类号: G11B7/2548 , B22F2998/00 , C04B35/46 , C04B35/645 , C04B2235/408 , C04B2235/5436 , C04B2235/77 , C04B2235/79 , C04B2235/9646 , C23C14/083 , C23C14/34 , C23C14/3414 , G11B7/2578 , G11B7/266 , G11B2007/25408 , H01J37/3429 , C22C29/12
摘要: 本发明涉及一种以氧化钛为主成分的薄膜,其特征在于,包含Ti、Ag和O成分,Ti为29.6原子%以上且34.0原子%以下,Ag为0.003原子%以上且7.4原子%以下,余量由氧构成,氧与金属的比O/(2Ti+0.5Ag)为0.97以上。本发明的目的在于得到高折射率、并且具有低消光系数的以氧化钛为主成分的薄膜、适于制造该薄膜的以氧化钛为主成分的烧结体溅射靶以及以氧化钛为主成分的薄膜的制造方法。本发明的目的还在于得到同时具有优良的透射性、反射率的下降少、可以作为光信息记录介质的干涉膜或保护膜使用的薄膜。另外,也可以应用于玻璃衬底,即可以作为热反射膜、防反射膜、干涉滤光片使用。
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公开(公告)号:CN103155039A
公开(公告)日:2013-06-12
申请号:CN201180048161.2
申请日:2011-06-01
申请人: 松下电器产业株式会社
IPC分类号: G11B7/26
摘要: 本发明提供一种光记录介质的制造装置及制造方法。光记录介质的制造装置具备:基板定位销,其相对于基板的中心孔进行定位且在上下方向上可动;基板保持部,其使用基板定位销进行基板的定位,并保持基板;清洁器,其具有朝向由基板保持部保持的基板的表面喷出气体的气体喷出部和吸引气体的气体吸引部;基板定位销固定部,其能够将基板定位销向下方压下,且与基板的中心孔的内周侧面不接触,其中,基板定位销固定部以在基板的中心孔的内周侧面的附近形成间隙的方式在由基板保持部保持的基板的中心孔内下降,并将基板定位销向下按压而固定,在这样的状态下,所述清洁器进行气体的喷出和吸引。
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公开(公告)号:CN102859596A
公开(公告)日:2013-01-02
申请号:CN201180018935.7
申请日:2011-04-06
IPC分类号: G11B7/2433 , B41M5/26 , G11B7/24 , G11B7/254 , G11B7/257
CPC分类号: G11B7/243 , G11B7/24038 , G11B7/2578 , G11B7/266 , G11B2007/24304 , G11B2007/24306 , G11B2007/2431 , G11B2007/24312 , G11B2007/2432 , G11B2007/25706 , G11B2007/25708 , G11B2007/2571 , G11B2007/25715
摘要: 本发明的目的是提供可以应用于具有约每一层25GB的高容量的一次写入光学记录介质、且在提供多层化的记录层构造时具有良好记录特性的光学记录介质。该光线记录介质包括基板21和两个到四个记录层221和222。这些记录层221和222中的至少一者或多者是特定记录层,特定记录层具有包含完全氧化的In、Zn、Al和Sn(也就是说,In2O3、ZnO、Al2O3和SnO2)中的至少一者、PdO、以及PdO2的组分。与特定记录层相邻,设置至少包含In或Al作为主要成分的In/Al氧化物层的电介质层232a和232b。
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公开(公告)号:CN101684544B
公开(公告)日:2012-11-28
申请号:CN200910205799.7
申请日:2009-09-22
申请人: TDK株式会社
CPC分类号: C23C14/205 , B22F2998/00 , C22C1/0416 , C22C21/00 , C23C14/3414 , G11B7/2433 , G11B7/2585 , G11B7/266 , Y10T428/21 , B22F3/14
摘要: 本发明提供光介质用溅射靶及其制造方法、和光介质及其制造方法。光介质用溅射靶以Al为主成分,并含有1~10at%的选自Ta和Nb中的1种或2种元素、以及0.1~10at%的Ag。光介质(100)包括基板(10)和反射层(20A、20B),该反射层(20A、20B)设置在基板(10)上,并具有以Al为主成分、且含有1~10at%的选自Ta和Nb中的1种或2种元素、以及0.1~10at%的Ag的组成。
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