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公开(公告)号：CN117840903A
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202311264906.X
申请日：2023-09-28
申请人： 株式会社荏原制作所
IPC分类号： B24B37/005 , B24B37/04 , B24B37/34 , B24B57/02
摘要： 本发明提供一种研磨装置，能够抑制因残存于流路的研磨液导致流路发生堵塞的现象，并且假设在流路发生了堵塞的情况下，能够检测所述堵塞的发生。研磨装置(1)包括控制装置(90)，控制装置(90)执行：清洗处理，在研磨机(10)所研磨的基板(Wf)的片数达到规定片数时，使清洗液流通至流路(70a)，继而使研磨液流通至流路(70a)；以及堵塞检测处理，基于当清洗液正在流路中流通时传感器(60)、传感器(61)所检测出的清洗液的压力或流量来检测流路发生了堵塞的情况。
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公开(公告)号：CN113352229A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202110253439.5
申请日：2021-03-05
申请人： 株式会社荏原制作所
IPC分类号： B24B37/10 , B24B37/34 , B24B57/02 , B24B41/02 , H01L21/306
摘要： 本发明提供一种研磨装置、处理系统和研磨方法，该研磨装置包含：研磨台，该研磨台用于支承研磨垫；研磨头，该研磨头用于保持基板；以及研磨液供给装置，该研磨液供给装置用于向研磨垫与基板之间供给研磨液，研磨装置通过在研磨液的存在下使研磨垫与基板接触并相互旋转运动，从而进行基板的研磨，研磨液供给装置具有多个研磨液供给口，该多个研磨液供给口在相对于基板配置在研磨垫的旋转上游侧的状态下，在与研磨垫的旋转方向交叉的方向上排列，研磨液供给装置以从多个研磨液供给口供给的研磨液成为规定的流量分布的方式供给研磨液。
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公开(公告)号：CN115734841A
公开(公告)日：2023-03-03
申请号：CN202280003970.X
申请日：2022-05-19
申请人： 株式会社荏原制作所
IPC分类号： B24B37/00 , B24B55/06 , B24B57/00 , B24B57/04 , H01L21/304
摘要： 本发明在一边使具有多个研磨液供给口的研磨液供给头在研磨垫上移动一边供给研磨液时，使研磨液的供给范围的均匀性提高。本发明的研磨装置(1)包含：用于支撑研磨垫(100)的研磨台；用于保持对象物的研磨头(30)；及用于向研磨垫100与对象物之间供给研磨液的研磨液供给装置(40)。研磨液供给装置(40)包含：具有多个研磨液供给口(414)的研磨液供给头(41)；构成位使研磨液供给头(41)沿着研磨垫(100)的研磨面移动的连杆机构(60)；及构成为驱动连杆机构(60)的驱动机构(90)。驱动机构90构成为，以在研磨液供给头(41)与研磨垫(100)的中央侧相对配置的第一状态(450)下，多个研磨液供给口(414)沿着研磨垫(100)的径向排列，并在与第一状态(450)相比研磨液供给头(41)与研磨垫(100)的外缘相对配置的第二状态(460)下，多个研磨液供给口(414)沿着研磨垫100的径向排列的方式，驱动连杆机构(60)。
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公开(公告)号：CN113635215A
公开(公告)日：2021-11-12
申请号：CN202110514520.4
申请日：2021-05-10
申请人： 株式会社荏原制作所
摘要： 本发明提供研磨装置和研磨方法，实现研磨液使用量的降低和/或研磨品质劣化的抑制。研磨装置具备：用于支承研磨垫并使该研磨垫旋转的研磨台；用于保持对象物并将对象物按接到研磨垫的保持体；研磨液供给装置，该研磨液供给装置具有接触部件，在接触部件与研磨垫接触或相邻的状态下向接触部件的底面的开口部供给研磨液而使研磨液在研磨垫上扩散，利用接触部件拦截由于研磨垫的旋转而返回的使用后的研磨液的至少一部分，接触部件根据相对于研磨垫的径向的角度，而取得将被拦截的研磨液留在研磨垫上的方向或排出的方向的研磨液供给装置；与研磨液供给装置连结的臂；使研磨液供给装置相对于臂旋转的旋转机构；以及控制旋转机构而变更研磨液供给装置相对于研磨垫的径向的角度，从而控制研磨液供给装置的接触部件对研磨液的排出量的控制装置。
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