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公开(公告)号：CN109725501B
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN201811284435.8
申请日：2018-10-31
申请人： 株式会社阿迪泰克工程
发明人： 名古屋淳
摘要： 本发明的目的是在基板的间歇进给中的停止位置的精度较低的情况下也能够以较高的精度进行校准。通过曝光单元(2)经由配置在夹着被输送系统(1)从卷拉出并间歇性地进给的基板(W)的位置处的一对第一第二掩模(3、4)将光向基板(W)照射而曝光。在曝光之前，照相机(8)对第一掩模(3)的校准标记(31)、第二掩模(4)的校准标记(41)及基板(W)的校准用开口(Wm)进行摄影，根据其摄影数据，校准机构进行校准。在来自照相机(8)的摄影数据中有校准用开口(Wm的像的缺失的情况下使基板(W)及或照相机(8)移动而将缺失消除。在摄影数据中有掩模标记(31、41)的缺失的情况下，使一对掩模(3、4)一体地移动而将缺失消除。
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公开(公告)号：CN108628106A
公开(公告)日：2018-10-09
申请号：CN201810250735.8
申请日：2018-03-26
申请人： 株式会社阿迪泰克工程
发明人： 名古屋淳
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70733
摘要： 提供一种可根据基板的品种进行最优化的清洁的曝光装置。在搬入手部(31)的前端经由具备伸缩机构(42)的臂(41)安装有清洁辊(4)，搬入手部(31)在将基板(W)载置于台板(1)之后返回到待机位置时，一边使清洁辊(4)接触基板(W)一边水平移动，对基板(W)进行清洁。利用来自控制器(6)的输入部(64)的输入，能够将包含载置于台板(1)的基板(W)的边缘在内的、从该边缘起靠内侧的任意的位置设定为清洁开始点(Ps)，控制器(6)能够避开富余地使清洁辊(4)进行清洁。
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公开(公告)号：CN102466983B
公开(公告)日：2015-02-18
申请号：CN201110346598.6
申请日：2011-11-04
申请人： 株式会社阿迪泰克工程
CPC分类号： G03F9/00 , G03F9/7046 , G03F9/7069 , H05K3/0008 , H05K2201/09918
摘要： 本发明涉及用于对准的照明装置和具有该照明装置的曝光装置。在CCD摄像机(3)周围对标记进行照明的环形照明装置(1)具有：照明装置(1)、照明亮度控制装置(10)、照明高度控制装置(11)、照明颜色控制装置(12)以及控制上述这些装置的控制器(5)，所述照明装置1在照明高度和照明颜色的组合为K＝1到M，且将照明亮度以1％为一步，从1％变为100％的情况下，通过CCD摄像机(3)对标记进行检测，并且由对比度检测/确定装置(23)对标记对比度进行检测以及由变换检测/确定装置(24)对变化进行检测，随后基于所述变化确定最佳照明条件。
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公开(公告)号：CN109725500B
公开(公告)日：2024-01-19
申请号：CN201811283713.8
申请日：2018-10-31
申请人： 株式会社阿迪泰克工程
发明人： 名古屋淳
摘要： 本发明的目的是在一对掩模的校准的同时也要求对于基板的校准的两面曝光装置中，有效地解决在基板标记从照相机的视野脱离的状态下基板停止的问题。通过曝光单元(2)经由配置在夹着被输送系统(1)从卷拉出并间歇性地进给的基板(W)的位置处的一对第一第二掩模(3、4)将光向基板(W)照射而曝光。在曝光之前，照相机(4)的校准标记(41)及基板(W)的校准用开口(Wm)进行摄影，根据其摄影数据，校准机构进行校准。当输送系统(1)使基板(W)停止时照相机(8)没有摄影到校准用开口(Wm)的情况下，进行基板(W)的回送或进给，成为照相机(8)摄影到校准用开口(Wm)的状态。(8)对第一掩模(3)的校准标记(31)、第二掩模
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公开(公告)号：CN109725500A
公开(公告)日：2019-05-07
申请号：CN201811283713.8
申请日：2018-10-31
申请人： 株式会社阿迪泰克工程
发明人： 名古屋淳
摘要： 本发明的目的是在一对掩模的校准的同时也要求对于基板的校准的两面曝光装置中，有效地解决在基板标记从照相机的视野脱离的状态下基板停止的问题。通过曝光单元(2)经由配置在夹着被输送系统(1)从卷拉出并间歇性地进给的基板(W)的位置处的一对第一第二掩模(3、4)将光向基板(W)照射而曝光。在曝光之前，照相机(8)对第一掩模(3)的校准标记(31)、第二掩模(4)的校准标记(41)及基板(W)的校准用开口(Wm)进行摄影，根据其摄影数据，校准机构进行校准。当输送系统(1)使基板(W)停止时照相机(8)没有摄影到校准用开口(Wm)的情况下，进行基板(W)的回送或进给，成为照相机(8)摄影到校准用开口(Wm)的状态。
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公开(公告)号：CN108628105A
公开(公告)日：2018-10-09
申请号：CN201810238605.2
申请日：2018-03-22
申请人： 株式会社阿迪泰克工程
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70716 , G03F7/70708
摘要： 目的是在防止粘着性较高的基板向台板的粘附时，使得没有基板的形状缺陷或垃圾的释放，运行成本上的负担较小，安装及更换也较容易，对于基板的位置偏移也能够有效地应对。在与台板(2)的各基板用真空吸附孔(21)对应的位置处具有基板吸附孔(11)的树脂制的基板粘附防止薄膜(1)以将台板(2)的基板载置区域(R)覆盖的状态配置。台板(2)内的传感器(3)检测设在基板粘附防止薄膜(1)上的标记(12)的偏移。在基板粘附防止薄膜(1)位置偏移的情况下，基板(W)的运入动作被中止。基板粘附防止薄膜(1)经由薄膜用真空吸附孔(25)被真空吸附在台板(2)上。
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公开(公告)号：CN108628105B
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN201810238605.2
申请日：2018-03-22
申请人： 株式会社阿迪泰克工程
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 目的是在防止粘着性较高的基板向台板的粘附时，使得没有基板的形状缺陷或垃圾的释放，运行成本上的负担较小，安装及更换也较容易，对于基板的位置偏移也能够有效地应对。在与台板(2)的各基板用真空吸附孔(21)对应的位置处具有基板吸附孔(11)的树脂制的基板粘附防止薄膜(1)以将台板(2)的基板载置区域(R)覆盖的状态配置。台板(2)内的传感器(3)检测设在基板粘附防止薄膜(1)上的标记(12)的偏移。在基板粘附防止薄膜(1)位置偏移的情况下，基板(W)的运入动作被中止。基板粘附防止薄膜(1)经由薄膜用真空吸附孔(25)被真空吸附在台板(2)上。
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公开(公告)号：CN109976086A
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：CN201811451346.8
申请日：2018-11-30
申请人： 株式会社阿迪泰克工程
发明人： 名古屋淳
摘要： 本发明提供掩模对、两面曝光装置及掩模更换方法。即使在曝光作业位置处保留着基板的状态下，也可容易地进行更换后的掩模彼此的校准。搭载于将基板(S)的两面曝光的两面曝光装置的掩模对中的第一掩模(1)具有第一掩模标记11)与第一辅助掩模标记(12)，第二掩模(2)具有第二掩模标记(21)与第二辅助掩模标记(22)。在进行掩模(1、2)彼此的校准时，在离开了基板(S)的位置处将第一辅助掩模标记(12)与第二辅助掩模标记(22)重合并用相机8)确认该状态。在进行掩模(1、2)相对于基板(S)的校准时，将第一掩模标记(11)与第二掩模标记(21)重合，用相机(8)通过基板(S)的校准开口(Sm)进行摄影。
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公开(公告)号：CN102466983A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201110346598.6
申请日：2011-11-04
申请人： 株式会社阿迪泰克工程
CPC分类号： G03F9/00 , G03F9/7046 , G03F9/7069 , H05K3/0008 , H05K2201/09918
摘要： 本发明涉及用于对准的照明装置和具有该照明装置的曝光装置。在CCD摄像机(3)周围对标记进行照明的环形照明装置(1)具有：照明装置(1)、照明亮度控制装置(10)、照明高度控制装置(11)、照明颜色控制装置(12)以及控制上述这些装置的控制器(5)，所述照明装置1在照明高度和照明颜色的组合为K＝1到M，且将照明亮度以1％为一步，从1％变为100％的情况下，通过CCD摄像机(3)对标记进行检测，并且由对比度检测/确定装置(23)对标记对比度进行检测以及由变换检测/确定装置(24)对变化进行检测，随后基于所述变化确定最佳照明条件。
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公开(公告)号：CN110018609B
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN201811477894.8
申请日：2018-12-05
申请人： 株式会社阿迪泰克工程
发明人： 名古屋淳
摘要： 本发明提供掩模单元及曝光装置。使膜掩模能够容易地紧贴于透明板，并消除被转印的图案的形状精度的下降的问题。支承于透明板(2)的膜掩模(1)的周边部被掩模框架(3)的真空吸附孔(34)真空吸附。形成于透明板(2)的与膜掩模(1)对置的面的排气槽(21)到达该面的右侧的边缘，在倒角部(22)的中途终止。曝光装置所具备的清洁辊(91)从膜掩模(1)的左侧的边缘至右侧的边缘一边与膜掩模(1)接触而滚动一边移动，进行异物(c)的去除与气泡(g)的挤出。形成了气泡(g)的气体经由排气槽(21)、吸引口(37)被排出。
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