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发明公开
曝光装置无效

公开(公告)号：CN101174102A

公开(公告)日：2008-05-07

申请号：CN200710154071.7

申请日：2007-09-13

Applicant: 株式会社阿迪泰克工程

Inventor： 五十岚晃 , 今井洋之 , 川俣晴男 , 杉田健一 , 江部克己 , 田口阳介

IPC: G03F7/20 , H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种曝光装置，该曝光装置精度高且曝光时间也能缩短。提升曝光台(1)，使胶片掩模(2)与基板(90)接触，形成密闭空间(40)，通过减压泵(60)来减压，对胶片掩模(2)与基板(90)进行1次密合。接着，从导入孔(52)导入1kPa以上20kPa以下的范围内的加压空气，在胶片掩模(2)与玻璃(30)之间形成加压空间(25)，进一步使胶片掩模(2)与基板(90)密合，进行2次密合。由于通过1次密合使胶片掩模(2)与基板(90)处于已密合的状态，所以来自导入孔(52)的空气导入量很少即可，加压下的膨胀鼓出量也很少，以短时间完成导入，不存在胶片掩模(2)的膨胀所致的变形等的弊端。

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