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公开(公告)号：CN109557768A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201810383138.2
申请日：2018-04-26
Applicant: 株式会社阿迪泰克工程
Inventor： 今井洋之
IPC: G03F7/20
Abstract: 在使用了空间光调制器的曝光中减小安装的软件的体积且缩短程序的改写所需的时间。隔着来自具备空间光调制器(3)的曝光头(1)的光的照射区域而在两侧的待机位置，向各工作台(61、62)载置基板(W)，并利用输送系统(6)通过照射区域而交替地往返输送。根据相机(8)拍摄到的基板(W)的对准标记的拍摄数据，序列改写程序(77)改写初始序列程序(73)，在基板(W)通过照射区域时，空间光调制器(3)的各像素反射镜(31)被通过已改写序列程序(74)序列控制在基板(W)形成曝光图案。第一工作台(61)上的基板(W)在去程移动时不被曝光而在返程移动时被曝光，第二工作台(62)上的基板在去程移动时被曝光而在返程移动时不被曝光。
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公开(公告)号：CN111913363A
公开(公告)日：2020-11-10
申请号：CN202010380624.6
申请日：2020-05-08
Applicant: 株式会社阿迪泰克工程
IPC: G03F7/20
Abstract: 提供能够将各种尺寸的基板充分地真空吸附于工作台并且进行曝光的实用的直描式曝光装置。在形成有大量真空吸附孔(21)的工作台(2)载放基板(S)并真空吸附，在使曝光图案的光工作台(2)通过搬运系统(3)而移动并在曝光区域中通过时，通过曝光单元(1)照射曝光图案的光而曝光。与最大尺寸的基板(S)对应地形成有大量的真空吸附孔(21)，薄板(71)堵塞基板(S)未堵塞的真空吸附孔(21)。薄板(71)具有吸附孔(73)或者开口(75、76)，通过将薄板机构(72)定位而成为不对基板(S)的真空吸附进行阻碍的状态。薄板(71)以及薄板机构(72)安装于工作台(2)，并与工作台(2)一体地移动。
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公开(公告)号：CN104281001A
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201410317606.8
申请日：2014-07-04
Applicant: 株式会社阿迪泰克工程
CPC classification number: G03F9/00
Abstract: 本发明提供膜掩模校正装置，其能够部分地对膜掩模进行校正。膜掩模校正装置(A)具有箱主体(1)，该箱主体(1)构成箱形状，一面为开放的开口(10)，将该开口(10)侧覆盖到膜掩模(5)上而与膜掩模(5)之间形成密封空间(15)，利用吸引装置(2)吸引密封空间(15)而使其成为负压。使轴(31)上下移动、旋转、倾斜，使摩擦球(30)对膜掩模(5)进行摩擦动作，进行膜掩模(5)的校正。
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公开(公告)号：CN101174102A
公开(公告)日：2008-05-07
申请号：CN200710154071.7
申请日：2007-09-13
Applicant: 株式会社阿迪泰克工程
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种曝光装置，该曝光装置精度高且曝光时间也能缩短。提升曝光台(1)，使胶片掩模(2)与基板(90)接触，形成密闭空间(40)，通过减压泵(60)来减压，对胶片掩模(2)与基板(90)进行1次密合。接着，从导入孔(52)导入1kPa以上20kPa以下的范围内的加压空气，在胶片掩模(2)与玻璃(30)之间形成加压空间(25)，进一步使胶片掩模(2)与基板(90)密合，进行2次密合。由于通过1次密合使胶片掩模(2)与基板(90)处于已密合的状态，所以来自导入孔(52)的空气导入量很少即可，加压下的膨胀鼓出量也很少，以短时间完成导入，不存在胶片掩模(2)的膨胀所致的变形等的弊端。
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公开(公告)号：CN111913363B
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202010380624.6
申请日：2020-05-08
Applicant: 株式会社阿迪泰克工程
IPC: G03F7/20
Abstract: 提供能够将各种尺寸的基板充分地真空吸附于工作台并且进行曝光的实用的直描式曝光装置。在形成有大量真空吸附孔(21)的工作台(2)载放基板(S)并真空吸附，在使曝光图案的光工作台(2)通过搬运系统(3)而移动并在曝光区域中通过时，通过曝光单元(1)照射曝光图案的光而曝光。与最大尺寸的基板(S)对应地形成有大量的真空吸附孔(21)，薄板(71)堵塞基板(S)未堵塞的真空吸附孔(21)。薄板(71)具有吸附孔(73)或者开口(75、76)，通过将薄板机构(72)定位而成为不对基板(S)的真空吸附进行阻碍的状态。薄板(71)以及薄板机构(72)安装于工作台(2)，并与工作台(2)一体地移动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105319862A
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201510319338.8
申请日：2015-06-11
Applicant: 株式会社阿迪泰克工程
IPC: G03F7/20
Abstract: 提供光源装置，其使用不同波长的多个光源且不需要按照规定的排列严格配置光源。多个LD模块(1、2)分别具有1个LD和聚光透镜,射出不同波长的激光。各LD模块的LD由控制装置(99)控制其点亮、非点亮及输出(照度)。3个LD模块(1)和1个LD模块(2)的射出光输入第1光纤束部(b1),经由4条第1光纤(5)并通过第1连接器(6)聚集于1条第2光纤(7)。3条第2光纤被引导至第2光纤束部(b2),其出射端侧按照与对曝光头(18)内的DMD(56)的光照射区域形状对应的排列图案集束并与第3光纤(9)连接,经由第2连接器(10)与入射光学系统(40)连接,将激光引导至曝光装置(B)的曝光头(18)。
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公开(公告)号：CN101089732B
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN200710103817.1
申请日：2007-05-16
Applicant: 株式会社阿迪泰克工程
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种曝光用照明装置，其具有能把握各灯状态的多个灯。各灯(1)内设置有电源模块(2)，利用控制装置(3)控制该多个电源模块(2)，可进行各灯(1)的点亮。电源模块(2)具有点亮电路(20)，点亮检测器(21)附属于点亮电路(20)，把各灯(1)的点亮/不点亮的信号发送到控制装置(3)，显示在显示装置(4)上。点亮电路(20)连接有电压检测装置(22)，检测各灯(1)的灯点亮时的电压，电压判定装置(23)判别灯是否以额定标准电压点亮。电压判定装置(23)中的上限和下限基准电压可由上下限基准电压设定装置(5)任意设定，可根据灯(1)的特性和曝光条件等变更灯电压的适当与否的基准。电压判定装置(23)的判定结果被发送到控制装置(3)，显示在显示装置(4)上，并被告知。
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公开(公告)号：CN109557768B
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN201810383138.2
申请日：2018-04-26
Applicant: 株式会社阿迪泰克工程
Inventor： 今井洋之
IPC: G03F7/20
Abstract: 在使用了空间光调制器的曝光中减小安装的软件的体积且缩短程序的改写所需的时间。隔着来自具备空间光调制器(3)的曝光头(1)的光的照射区域而在两侧的待机位置，向各工作台(61、62)载置基板(W)，并利用输送系统(6)通过照射区域而交替地往返输送。根据相机(8)拍摄到的基板(W)的对准标记的拍摄数据，序列改写程序(77)改写初始序列程序(73)，在基板(W)通过照射区域时，空间光调制器(3)的各像素反射镜(31)被通过已改写序列程序(74)序列控制在基板(W)形成曝光图案。第一工作台(61)上的基板(W)在去程移动时不被曝光而在返程移动时被曝光，第二工作台(62)上的基板在去程移动时被曝光而在返程移动时不被曝光。
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公开(公告)号：CN101089732A
公开(公告)日：2007-12-19
申请号：CN200710103817.1
申请日：2007-05-16
Applicant: 株式会社阿迪泰克工程
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种曝光用照明装置，其具有能把握各灯状态的多个灯。各灯(1)内设置有电源模块(2)，利用控制装置(3)控制该多个电源模块(2)，可进行各灯(1)的点亮。电源模块(2)具有点亮电路(20)，点亮检测器(21)附属于点亮电路(20)，把各灯(1)的点亮/不点亮的信号发送到控制装置(3)，显示在显示装置(4)上。点亮电路(20)连接有电压检测装置(22)，检测各灯(1)的灯点亮时的电压，电压判定装置(23)判别灯是否以额定标准电压点亮。电压判定装置(23)中的上限和下限基准电压可由上下限基准电压设定装置(5)任意设定，可根据灯(1)的特性和曝光条件等变更灯电压的适当与否的基准。电压判定装置(23)的判定结果被发送到控制装置(3)，显示在显示装置(4)上，并被告知。
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公开(公告)号：CN1506762A
公开(公告)日：2004-06-23
申请号：CN200310117002.0
申请日：2003-11-27
Applicant: 株式会社阿迪泰克工程
Inventor： 今井洋之
CPC classification number: G03F7/201 , G03F7/7035 , G03F7/707
Abstract: 面向板(50)安装刻画有电路图案的膜掩模3，且压力膜1安装在膜掩模(3)之上。通过上移压印盘4，使膜掩模3与压力膜1接触并将其推靠在板(50)上。膜掩模(3)和压印盘(4)安装在减压室(2)中，减压室(2)的上表面是压力膜(1)。压力膜(1)是由树脂等制成的膜，具有传播曝光波长的特性。压力膜(1)环周连接减压室(2)的壁以构成减压室的一个壁，其中通过在减压室Y侧形成负压，使压力膜(1)呈由其中心至周边的隆起形状膨胀，将膜掩模(3)推靠在板(50)上。
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