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发明公开
膜掩模校正装置无效

公开(公告)号：CN104281001A

公开(公告)日：2015-01-14

申请号：CN201410317606.8

申请日：2014-07-04

Applicant: 株式会社阿迪泰克工程

Inventor： 今井洋之 , 横矢博士 , 星野哲矢

IPC: G03F1/42 , G03F9/00

CPC classification number: G03F9/00

Abstract: 本发明提供膜掩模校正装置，其能够部分地对膜掩模进行校正。膜掩模校正装置(A)具有箱主体(1)，该箱主体(1)构成箱形状，一面为开放的开口(10)，将该开口(10)侧覆盖到膜掩模(5)上而与膜掩模(5)之间形成密封空间(15)，利用吸引装置(2)吸引密封空间(15)而使其成为负压。使轴(31)上下移动、旋转、倾斜，使摩擦球(30)对膜掩模(5)进行摩擦动作，进行膜掩模(5)的校正。

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