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公开(公告)号：CN110537273B
公开(公告)日：2022-07-26
申请号：CN201880024032.1
申请日：2018-08-17
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: H01M4/1395 , H01M4/04 , H01M4/134 , H01M10/052
Abstract: 本公开内容涉及一种图案化锂金属的表面的方法，包括以下步骤：(S1)在图案化基板上形成具有预定尺寸的凹版或浮雕图案；(S2)将锂金属物理地压制到其上形成有图案的图案化基板的表面上，或者将液态锂施加到其上形成有图案的所述图案化基板的表面上并使所述液态锂固化以在锂金属的表面上形成预定图案；和(S3)将其上形成有预定图案的锂金属与图案化基板分离。
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公开(公告)号：CN111033117B
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN201880052164.5
申请日：2018-08-16
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: F21V8/00
Abstract: 本发明涉及制造用于衍射光栅导光板的模具基板的方法，该方法包括以下步骤：准备在其上表面上设置有薄层电阻为0.5Ω/□或更大的网格部分的法拉第笼；将样品基板设置在法拉第笼的底表面上并在其上进行平面等离子体蚀刻以确定法拉第笼中的高蚀刻区域；准备具有倾斜表面的支撑体并将倾斜表面的下部区域布置在法拉第笼的高蚀刻区域中的支撑体布置步骤；将模具用基板设置在支撑体的倾斜表面上；以及通过使用等离子体蚀刻同时在模具用基板的一侧上形成第一倾斜图案部分并在模具用基板的另一侧上形成第二倾斜图案部分的图案化步骤，其中图案化步骤中的蚀刻速率自倾斜表面的上部区域至下部区域逐渐减小然后反转增大，并且包括第一倾斜图案部分的具有深度梯度的倾斜凹槽图案，以及第二倾斜图案部分包括深度偏差为0nm至50nm的倾斜凹槽图案。
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公开(公告)号：CN111448642A
公开(公告)日：2020-07-24
申请号：CN201880079529.3
申请日：2018-12-14
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: H01L21/3065 , H01L21/3213 , H01L21/311
Abstract: 本发明提供了使用法拉第笼的等离子体蚀刻方法。所述使用法拉第笼的等离子体蚀刻方法包括：在其上表面上设置有网部分的法拉第笼中准备蚀刻基板的步骤，所述基板具有设置在其一个表面上的金属掩模，所述金属掩模具有开口图案部分；通过使用等离子体蚀刻在蚀刻基板上形成第一图案区域的第一图案化步骤；以及在通过使用遮板遮挡网部分的至少一部分之后通过使用等离子体蚀刻在蚀刻基板上形成第二图案区域的第二图案化步骤。
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公开(公告)号：CN111448642B
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN201880079529.3
申请日：2018-12-14
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: H01L21/3065 , H01L21/3213 , H01L21/311
Abstract: 本发明提供了使用法拉第笼的等离子体蚀刻方法。所述使用法拉第笼的等离子体蚀刻方法包括：在其上表面上设置有网部分的法拉第笼中准备蚀刻基板的步骤，所述基板具有设置在其一个表面上的金属掩模，所述金属掩模具有开口图案部分；通过使用等离子体蚀刻在蚀刻基板上形成第一图案区域的第一图案化步骤；以及在通过使用遮板遮挡网部分的至少一部分之后通过使用等离子体蚀刻在蚀刻基板上形成第二图案区域的第二图案化步骤。
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公开(公告)号：CN111065942B
公开(公告)日：2022-01-07
申请号：CN201880054388.X
申请日：2018-10-23
Applicant: 株式会社LG化学
Abstract: 本发明的示例性实施方案提供了衍射导光板，包括：第一衍射基底；和设置在第一衍射基底上的第二衍射基底，其中第一衍射基底包括在一个表面上的第一衍射光栅层和在另一表面上的第二衍射光栅层，第二衍射基底包括在一个表面上的第三衍射光栅层和在另一表面上的应力补偿层，第一衍射光栅层分离波长为550nm或更大且700nm或更小的光，第二衍射光栅层分离波长为400nm或更大且550nm或更小的光，第三衍射光栅层分离波长为450nm或更大且650nm或更小的光，以及应力补偿层在与第三衍射光栅层的应力方向相同的方向上具有应力。
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公开(公告)号：CN110573293B
公开(公告)日：2021-12-07
申请号：CN201880027605.6
申请日：2018-09-11
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: B23K26/323 , B23K26/21 , G01N23/20 , G01N23/2251 , B23K103/18
Abstract: 本申请公开了一种通过对从激光焊接部分产生的金属间化合物的结合结构使用定量分析而能够优化不同种类的金属的激光焊接的方法。该方法包括通过测量在不同种类的金属的激光焊接部分产生的金属间化合物的含量以及通过计算所述不同种类的金属各自的熔融面积的比例并且将其控制在预定值来优化焊接条件的步骤。
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公开(公告)号：CN111033117A
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN201880052164.5
申请日：2018-08-16
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: F21V8/00
Abstract: 本发明涉及制造用于衍射光栅导光板的模具基板的方法，该方法包括以下步骤：准备在其上表面上设置有薄层电阻为0.5Ω/□或更大的网格部分的法拉第笼；将样品基板设置在法拉第笼的底表面上并在其上进行平面等离子体蚀刻以确定法拉第笼中的高蚀刻区域；准备具有倾斜表面的支撑体并将倾斜表面的下部区域布置在法拉第笼的高蚀刻区域中的支撑体布置步骤；将模具用基板设置在支撑体的倾斜表面上；以及通过使用等离子体蚀刻同时在模具用基板的一侧上形成第一倾斜图案部分并在模具用基板的另一侧上形成第二倾斜图案部分的图案化步骤，其中图案化步骤中的蚀刻速率自倾斜表面的上部区域至下部区域逐渐减小然后反转增大，并且包括第一倾斜图案部分的具有深度梯度的倾斜凹槽图案，以及第二倾斜图案部分包括深度偏差为0nm至50nm的倾斜凹槽图案。
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公开(公告)号：CN113728257B
公开(公告)日：2023-11-28
申请号：CN202080030260.7
申请日：2020-09-24
Applicant: 株式会社LG化学
Abstract: 本公开内容的一个实施方案提供了全息光学元件和包括全息光栅的全息光学元件的制造方法，所述制造方法包括：通过用光敏树脂涂覆基底的一个表面来形成光敏基底的步骤(a)；以及通过用激光照射光敏基底的一个表面和另一个表面中的每一者来记录全息光栅的步骤(b)，其中在步骤(a)中，施加光敏树脂使得光敏树脂涂层的高度沿预定方向变化。
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