公开(公告)号：CN112540510B

公开(公告)日：2024-06-04

申请号：CN202010294095.8

申请日：2020-04-15

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 长谷川祐哉

IPC: G03F7/20

Abstract: 提供曝光装置及其性能评价方法。课题在于在曝光装置中，同时评价多个评价项目。在曝光装置中，使条状图案光(PL1～PL3)排列而成的图案列(PT)透过狭缝(ST)。此时，将图案列(PT)的图案间隔(PP)、图案宽度(PW)、狭缝(ST)的狭缝宽度(SP)形成为使得谷部分(V)得到平坦的光量分布波形(AT)。

公开(公告)号：CN119987146A

公开(公告)日：2025-05-13

申请号：CN202410254133.5

申请日：2024-03-06

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 长谷川祐哉 ,  小林义则

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供曝光装置和曝光方法。提供能够迅速应对由偏转等引起的工作台的位置偏移而形成适当的图案的曝光装置。曝光装置(10)具有多个曝光头(20A～20C)，并且具有由一对线性标尺(32A、32B)和一对扫描头(34A、34B)构成的编码器(30)。编码器(30)构成为在曝光动作中在工作台(12)移动的期间检测由偏转等引起的相对于Y方向(副扫描方向)的倾斜。编码器信号校正处理电路(60)根据运算式而输出校正编码器信号，各曝光头的DMD驱动电路根据校正编码器信号而从各存储器读出与曝光位置对应的描绘数据，驱动DMD。

公开(公告)号：CN117806127A

公开(公告)日：2024-04-02

申请号：CN202310402789.2

申请日：2023-04-14

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 长谷川祐哉

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

Abstract: 本发明提供曝光装置和曝光装置的焦点检测方法。在曝光装置中，维持焦点检测精度并且迅速地进行焦点检测。曝光装置(10)在工作台(12)的端部附近具有测定部(40)，测定部(40)具有遮光部(41)和受光部(42)。遮光部(41)具有形成有多个透光部(50)的遮光面(41S)，遮光面(41S)相对于与投影光学系统(23)的光轴(C)垂直的方向倾斜了倾斜角度(θ)。在焦点检测时，一边使工作台(12)移动一边将图案光(FP)投影于测定部(40)的遮光面(41S)，根据从受光部(42)输出的光量信号而取得成像位置，以及进行焦点调整。

公开(公告)号：CN119024646A

公开(公告)日：2024-11-26

申请号：CN202311393436.7

申请日：2023-10-25

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 长谷川祐哉 ,  奥山隆志 ,  小林义则

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供光源装置和曝光装置。不使用透镜阵列，使用密集地配置有多个LED裸片的封装，减小光学系统的尺寸。一种光源装置，其是对涂布于基板的感光材料进行曝光的曝光装置用的光源装置，其中，所述光源装置具有：第一LED阵列光源和第二LED阵列光源，它们发出不同波长的紫外光；棱镜，从第一和第二LED阵列光源发出的发散光入射到该棱镜；均匀化单元，来自棱镜的光入射到该均匀化单元；以及透光区域，其配置在棱镜与均匀化单元之间，该透光区域的折射率小于棱镜的折射率。

公开(公告)号：CN112540510A

公开(公告)日：2021-03-23

申请号：CN202010294095.8

申请日：2020-04-15

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 长谷川祐哉

IPC: G03F7/20

Abstract: 提供曝光装置及其性能评价方法。课题在于在曝光装置中，同时评价多个评价项目。在曝光装置中，使条状图案光(PL1～PL3)排列而成的图案列(PT)透过狭缝(ST)。此时，将图案列(PT)的图案间隔(PP)、图案宽度(PW)、狭缝(ST)的狭缝宽度(SP)形成为使得谷部分(V)得到平坦的光量分布波形(AT)。