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公开(公告)号：CN101334590A
公开(公告)日：2008-12-31
申请号：CN200810109033.4
申请日：2008-05-23
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 奥山隆志
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F7/70275
Abstract: 在增加使用DMD组件的绘图速度而提高生产性的情形中，缩短DMD组件的微型反射镜的切换时间而提高生产性。绘图装置(100)包括：DMD组件(41)，具有数组状配置的复数个微型反射镜M；光源(10)，对于微型反射镜M供给曝光光线；偏压电压控制部(83)，施加使微型反射镜M设定于第一状态的第一电压，使曝光光线朝被曝光面(CB)导引，且施加使反射组件设定于第二状态的零电压，曝光光线不到达被曝光面。
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公开(公告)号：CN118689042A
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202311167446.9
申请日：2023-09-11
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 奥山隆志
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供曝光装置用曝光头、曝光装置以及曝光方法。在具有DMD等光调制元件阵列的曝光装置中，提供适应图案的高分辨率化的分割光学系统。曝光装置(10)具有曝光头(20)，曝光头(20)具有DMD(22)和投影光学系统(25)，该投影光学系统(25)包含第1成像光学系统(30)、分割光学系统(40)、第2成像光学系统(50)。分割光学系统(40)将由位于第1成像光学系统(30)的成像面的入射面所分割出的图案像投影于不同的扫描带区域(B1～B3)。并且，分支光学系统(42)构成为使得各分割图案像的从成像面到投影区域(TA1～TA3)的光路长度相互相等。
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公开(公告)号：CN113448176B
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202011470253.7
申请日：2020-12-15
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 奥山隆志
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供曝光装置和曝光方法。在曝光装置中，平滑地形成图案倾斜线。在曝光装置(10)中，矢量数据处理电路(40)将轮廓(BD0)的矢量数据变换为向±X方向(轮廓线外侧和/或在轮廓线内侧方向)移位后的轮廓线校正矢量数据(BD+)，并通过交替使用原始轮廓线矢量数据(BD0)和轮廓线校正矢量数据(BD+)来执行多重曝光动作。
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公开(公告)号：CN113448176A
公开(公告)日：2021-09-28
申请号：CN202011470253.7
申请日：2020-12-15
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 奥山隆志
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供曝光装置和曝光方法。在曝光装置中，平滑地形成图案倾斜线。在曝光装置(10)中，矢量数据处理电路(40)将轮廓(BD0)的矢量数据变换为向±X方向(轮廓线外侧和/或在轮廓线内侧方向)移位后的轮廓线校正矢量数据(BD+)，并通过交替使用原始轮廓线矢量数据(BD0)和轮廓线校正矢量数据(BD+)来执行多重曝光动作。
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公开(公告)号：CN105676596A
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201510881762.1
申请日：2015-12-03
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20
Abstract: 曝光装置，在该曝光装置中，简单且精度良好地检测或确认对焦状态。一边使载台(12)移动，一边向形成有缝隙(ST1～ST6)的遮光部(40)投影由条形图案(PL1～PL4)构成的图案列(PT)，由此从光电传感器(PD)输出光量信号。然后，基于根据光量信号求出的振幅比(M)，判断是否维持在对焦状态。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119511640A
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202410253316.5
申请日：2024-03-06
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 奥山隆志
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供曝光装置和曝光方法。对于无掩模曝光装置，提供如下的曝光装置：该曝光装置能够执行形成更高分辨率的图案的数据处理。曝光装置(10)具有栅格转换部(60)。栅格转换部(60)将矢量数据按照单位区域生成分割矢量数据，并且生成细分栅格数据，该细分栅格数据由尺寸比微镜的投影区域小的单元尺寸构成。
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公开(公告)号：CN119024646A
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202311393436.7
申请日：2023-10-25
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供光源装置和曝光装置。不使用透镜阵列，使用密集地配置有多个LED裸片的封装，减小光学系统的尺寸。一种光源装置，其是对涂布于基板的感光材料进行曝光的曝光装置用的光源装置，其中，所述光源装置具有：第一LED阵列光源和第二LED阵列光源，它们发出不同波长的紫外光；棱镜，从第一和第二LED阵列光源发出的发散光入射到该棱镜；均匀化单元，来自棱镜的光入射到该均匀化单元；以及透光区域，其配置在棱镜与均匀化单元之间，该透光区域的折射率小于棱镜的折射率。
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公开(公告)号：CN101334590B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200810109033.4
申请日：2008-05-23
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 奥山隆志
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F7/70275
Abstract: 在增加使用DMD组件的绘图速度而提高生产性的情形中，缩短DMD组件的微型反射镜的切换时间而提高生产性。绘图装置(100)包括：DMD组件(41)，具有数组状配置的复数个微型反射镜M；光源(10)，对于微型反射镜M供给曝光光线；偏压电压控制部(83)，施加使微型反射镜M设定于第一状态的第一电压，使曝光光线朝被曝光面(CB)导引，且施加使反射组件设定于第二状态的零电压，曝光光线不到达被曝光面。
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公开(公告)号：CN101183221B
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN200710169544.0
申请日：2007-11-09
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 奥山隆志
Abstract: 本发明提供以不使数据转送的规模扩大而进行从控制部朝装置头部的数据转送的装置。多重曝光装置(1)具备在作为基于作为在连续而被复数进行的曝光用中被使用的向量数据的绘制数据而被作成的网格数据的复数的曝光数据中、基于前后曝光数据间的差异而作成差异数据的曝光数据产生部(11)。具备具有在曝光用中被使用的DMD(33)、以及基于差异数据驱动DMD的组件控制部(31)的装置头部(30)。
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公开(公告)号：CN101206408B
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN200710159754.1
申请日：2007-12-21
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 奥山隆志
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70291 , G03F7/70508
Abstract: 本发明提供曝光数据产生装置。所述曝光数据产生装置包括第一存储器、第二存储器和曝光数据存储器。第一存储器按位图格式存储绘图数据，作为用于曝光的第一数据。第二存储器存储第二数据，根据所述第一数据，所述第二数据在列方向的数据单位被转换为各个单元的信息的分辨率单位。曝光数据存储器存储曝光数据，所述曝光数据是通过在每个列单位的对第三数据的脉冲传输而获得的光栅数据。将第二数据重新排列并转换为第三数据，其中，将第二数据在列方向的各个单元的数据排列改变为行方向。所述单元构成根据所述曝光数据进行曝光的数字微镜装置的显示元素。
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