公开(公告)号：CN101546132B

公开(公告)日：2012-11-14

申请号：CN200910117907.5

申请日：2009-02-23

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 中本裕见 ,  山贺胜 ,  佐藤仁 ,  高桥一雄

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种投影曝光装置，该投影曝光装置缩短了伴随基板的更换的遮光体的取出和再设置所需要的时间，并具有对应于多样的遮光区域的简易的遮光体。投影曝光装置(100)向掩膜照射包含紫外线的光线，借助于投影光学系由通过掩膜的光线对涂布了负性光致抗蚀剂的基板进行曝光。该投影曝光装置具有：至少2个用于遮蔽光线的第1遮光体(84)；以及使第1遮光体从基板的外侧向基板的中心移动的第1移动部(82、83、86)，并且在使第1遮光体向基板的中心移动时，第1遮光体对基板的整个周边部进行遮光。

公开(公告)号：CN101546132A

公开(公告)日：2009-09-30

申请号：CN200910117907.5

申请日：2009-02-23

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 中本裕见 ,  山贺胜 ,  佐藤仁 ,  高桥一雄

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种投影曝光装置，该投影曝光装置缩短了伴随基板的更换的遮光体的取出和再设置所需要的时间，并具有对应于多样的遮光区域的简易的遮光体。投影曝光装置(100)向掩膜照射包含紫外线的光线，借助于投影光学系由通过掩膜的光线对涂布了负性光致抗蚀剂的基板进行曝光。该投影曝光装置具有：至少2个用于遮蔽光线的第1遮光体(84)；以及使第1遮光体从基板的外侧向基板的中心移动的第1移动部(82、83、86)，并且在使第1遮光体向基板的中心移动时，第1遮光体对基板的整个周边部进行遮光。