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公开(公告)号：CN101377624B
公开(公告)日：2012-06-06
申请号：CN200810110150.2
申请日：2008-06-13
Applicant: 株式会社ORC制作所
CPC classification number: G03F7/2002 , G03F9/708 , G03F9/7084 , G03F9/7088 , H01L2924/0002 , H05K1/0269 , H05K1/0393 , H05K3/0008 , H05K3/0082 , H05K3/064 , H05K2201/09918 , H05K2203/0505 , H05K2203/0557 , H05K2203/056 , H05K2203/1545 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种不会产生垃圾或者尘埃，可以高精度地将掩膜的电路图案曝光在被曝光体上的曝光装置。曝光装置(100)具有使送出被曝光体(T)的供给盘旋转的供给盘旋转部(61)、引导由该供给盘旋转部旋转而从供给盘送出的被曝光体的导向辊(63)、为了沿着曝光台搬送来自导向辊的被曝光体而设置在该曝光台两侧的第一搬送辊(64)以及第二搬送辊(66)、配置在导向辊和第一搬送辊之间，在被曝光体上描绘用于与电路图案掩膜(M)进行对位的校准标记(AM)的校准标记描绘部(30)。
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公开(公告)号：CN100517080C
公开(公告)日：2009-07-22
申请号：CN200710104445.4
申请日：2007-04-20
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供一种搬运装置，其是一种不对带状的工件施加负荷、以稳定的状态进行搬运的搬运机构。搬运机构(A)的供给卷筒旋转部(1)配置于比供给侧第一导引滚子(2)高的位置，供给侧第二导引滚子(3)配置于与供给侧第一导引滚子(2)相同或较低的位置，并且该供给侧第二导引滚子(3)配置于比第一搬运滚子(4)高的位置，卷绕卷筒旋转部(9)配置于比卷绕侧第二导引滚子(8)高的位置。卷绕侧第二导引滚子(8)配置于与卷绕侧第一导引滚子(7)相同或较高的位置，并且该卷绕侧第二导引滚子(8)配置于比卷绕卷筒旋转部(9)低的位置。在第一搬运滚子(4)和第二搬运滚子(6)上具有使工件吸附于滚子表面(41a)的吸附单元(42)。
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公开(公告)号：CN101286012A
公开(公告)日：2008-10-15
申请号：CN200810086963.2
申请日：2008-03-28
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明涉及一种在基板上形成预定图案的投影曝光装置。用于在基板上形成图案的该投影曝光装置包括：掩模台，该掩模台用于保持其上具有预定图案的光掩模；光源，该光源用于发射包含包括g线、h线、i线及j线在内的光谱线的光线；波长选择器，该波长选择器用于从所述光源发射的光线中选择包含预定光谱线的光线；照明光学系统，该照明光学系统用于用所选光线照射所述光掩模；Offner式投影系统，该Offner式投影系统用于将穿过所述光掩模的光投影至所述基板上；基板台，该基板台包括用于保持所述基板的真空部，该基板台用于定位所述基板；以及遮光体，该遮光体用于部分地阻挡照射到所述基板上的光。
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公开(公告)号：CN101063826A
公开(公告)日：2007-10-31
申请号：CN200710092240.9
申请日：2007-04-02
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种投影曝光装置，抑制了装置的水平方向及垂直方向的大小而使其设置容积比现有的装置的设置容积小。投影曝光装置(20)使用配置于铅直方向的曝光台(24)，将掩模(M)的图案利用照射光投影在膜带状的工件(F)上而进行曝光，该投影曝光装置包括：搬运机构(25)，其将工件于铅直方向朝曝光台移动；以及投影光学机构，其具有戴森光学系统(23)，该戴森光学系统(23)配置在与该搬运机构以曝光台为边界的相邻位置上，戴森光学系统配置成使得入射到该戴森光学系统的照射光的光轴以及从该戴森光学系统射出的照射光的光轴与曝光台上的工件成正交。
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公开(公告)号：CN101546132B
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：CN200910117907.5
申请日：2009-02-23
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种投影曝光装置，该投影曝光装置缩短了伴随基板的更换的遮光体的取出和再设置所需要的时间，并具有对应于多样的遮光区域的简易的遮光体。投影曝光装置(100)向掩膜照射包含紫外线的光线，借助于投影光学系由通过掩膜的光线对涂布了负性光致抗蚀剂的基板进行曝光。该投影曝光装置具有：至少2个用于遮蔽光线的第1遮光体(84)；以及使第1遮光体从基板的外侧向基板的中心移动的第1移动部(82、83、86)，并且在使第1遮光体向基板的中心移动时，第1遮光体对基板的整个周边部进行遮光。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101546133B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200910118213.3
申请日：2009-02-25
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明涉及曝光装置和曝光方法。该曝光装置(100)是将具有规定宽度的胶卷形状的被曝光体(T)送至曝光台(50)上，并将掩膜(M)的电路图案曝光在被曝光体上的曝光装置。该曝光装置(100)具有：按压被曝光体的压板(42)；用于观察形成在被曝光体上的第1校准识别标记(AM)和形成在电路图案掩膜上的第2校准识别标记(MM)的图像识别部(54)；使压板和图像识别部同时向被曝光体的规定宽度方向移动的第1移动部(43)。
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公开(公告)号：CN101546132A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200910117907.5
申请日：2009-02-23
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种投影曝光装置，该投影曝光装置缩短了伴随基板的更换的遮光体的取出和再设置所需要的时间，并具有对应于多样的遮光区域的简易的遮光体。投影曝光装置(100)向掩膜照射包含紫外线的光线，借助于投影光学系由通过掩膜的光线对涂布了负性光致抗蚀剂的基板进行曝光。该投影曝光装置具有：至少2个用于遮蔽光线的第1遮光体(84)；以及使第1遮光体从基板的外侧向基板的中心移动的第1移动部(82、83、86)，并且在使第1遮光体向基板的中心移动时，第1遮光体对基板的整个周边部进行遮光。
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公开(公告)号：CN101063825A
公开(公告)日：2007-10-31
申请号：CN200710091393.1
申请日：2007-03-30
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供曝光装置和曝光方法。该曝光装置可将带子(6)的中央区域(17)与侧边区域(19)固定在曝光台(2)上。上述曝光装置每次将两侧形成有穿孔(20)的薄膜状的带子(6)的一块(21)输送至曝光台(2)，同时在曝光台(2)上按照每一块(21)对带子(6)进行曝光，曝光台(2)具有：设有中央吸引口(13)的中央部(22)，该中央吸引口作用第一吸气力吸引以穿孔(20)为边界而配置于内侧的带子(6)的中央区域(17)，吸引并吸附中央区域(17)；设有侧边吸引口(3)的侧边部(23)，该侧边吸引口作用比第一吸气力大的第二吸气力吸引以穿孔(20)为边界而配置于外侧的带子(6)的侧边区域(19)，吸引并吸附侧边区域(19)。
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公开(公告)号：CN101546133A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200910118213.3
申请日：2009-02-25
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明涉及曝光装置和曝光方法。该曝光装置(100)是将具有规定宽度的胶卷形状的被曝光体(T)送至曝光台(50)上，并将掩膜(M)的电路图案曝光在被曝光体上的曝光装置。该曝光装置(100)具有：按压被曝光体的压板(42)；用于观察形成在被曝光体上的第1校准识别标记(AM)和形成在电路图案掩膜上的第2校准识别标记(MM)的图像识别部(54)；使压板和图像识别部同时向被曝光体的规定宽度方向移动的第1移动部(43)。
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公开(公告)号：CN100529970C
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200710092240.9
申请日：2007-04-02
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种投影曝光装置，抑制了装置的水平方向及垂直方向的大小而使其设置容积比现有的装置的设置容积小。投影曝光装置(20)使用配置于铅直方向的曝光台(24)，将掩模(M)的图案利用照射光投影在膜带状的工件(F)上而进行曝光，该投影曝光装置包括：搬运机构(25)，其将工件于铅直方向朝曝光台移动；以及投影光学机构，其具有戴森光学系统(23)，该戴森光学系统(23)配置在与该搬运机构以曝光台为边界的相邻位置上，戴森光学系统配置成使得入射到该戴森光学系统的照射光的光轴以及从该戴森光学系统射出的照射光的光轴与曝光台上的工件成正交。
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