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公开(公告)号：CN1437643A
公开(公告)日：2003-08-20
申请号：CN01811444.X
申请日：2001-04-11
申请人： 格雷斯公司
发明人： J·N·普赖尔
IPC分类号： C09G1/02
CPC分类号： C09D163/00 , B05D7/546 , B05D2202/10 , C09G1/02 , C09K3/1463 , H01L21/3212 , C08L2666/54
摘要： 将氧化剂添加至已加热例如高压处理的无机氧化物浆液中，从而生产研磨浆液，对于用来制备半导体晶片的导电金属层和绝缘层而言，所述浆液将赋予相对平等的抛光速率。另外，通过所述浆液还提供了就其研磨性而言相对灵活的研磨浆液，借此，当将新绝缘材料用来制备晶片时，能够对铜抛光浆液的研磨性加以改进。当利用该方法时，该浆液颗粒研磨性的增加相应于通过N2吸附(BET法)测量的颗粒表面积的下降，并且研磨性可通过对浆液的加热而增加(或下降)，从而生产出具有所希望研磨性而确定的表面积的颗粒。该方法特别适于制备二氧化硅基研磨浆液，并且所制得的浆液特别适用于对由铜导电电路和二氧化硅基绝缘层制得的晶片进行抛光。
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公开(公告)号：CN1323277A
公开(公告)日：2001-11-21
申请号：CN99812283.1
申请日：1999-07-07
申请人： 格雷斯公司
IPC分类号： C01B33/141
CPC分类号： C01B33/141
摘要： 一种包括多孔无机氧化物微粒如硅胶微粒的分散体,其中微粒的粒径中位值在3微米以下。被分散微粒的孔隙率在干燥后以氮气孔隙率测定仪测定有至少约0.50毫升/克的孔体积由孔径600或以下的微孔构成。在由硅胶制备的实施方案中孔隙率在干燥后有至少约0.7毫升/克的孔体积由孔径600或以下的微孔构成。该分散体采用由结构坚硬足以在研磨及干燥后能维持其孔隙率的无机氧化物来构成分散体。在选择了无机氧化物后,对其进行研磨,使之达到粒径中位值0.05－约3微米。
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公开(公告)号：CN101522297B
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN200780036972.4
申请日：2007-09-12
申请人： 格雷斯公司
CPC分类号： B01J21/12 , B01J23/40 , B01J35/002 , B01J35/023 , B01J35/1014 , B01J35/1019 , B01J35/1038 , B01J35/1042 , B01J35/1047 , B01J37/0221 , B01J37/031 , C01F7/02 , C01F7/021 , C01P2002/52 , C01P2004/01 , C01P2004/61 , C01P2004/84 , C01P2006/12 , C01P2006/16
摘要： 本发明涉及改进的催化剂载体以及由此得到的适于处理内燃机，尤其柴油机的废气产物的催化剂。本发明的载体是包括具有高孔隙率和表面积的氧化铝芯颗粒的结构，其中该结构具有大约1到大约40wt％的在所述氧化铝芯表面积上的覆层形式的硅石。所得载体具有至多15μg/m2的标称化硫摄取率(NSU)。
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公开(公告)号：CN1849379B
公开(公告)日：2011-12-14
申请号：CN200480026003.7
申请日：2004-07-09
申请人： 格雷斯公司
IPC分类号： C09K3/14 , C09G1/02 , H01L21/321
CPC分类号： B24B37/044 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , H01L21/3212
摘要： 一种用于抛光基材的磨料组合物，包括许多具有多分散粒度分布的磨料颗粒，所述多分散粒度分布的中值粒度按体积为约20纳米到约100纳米；跨度值按体积为大于或等于约20纳米，其中大于约100纳米的颗粒分数小于或等于磨料颗粒的约20体积％。
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公开(公告)号：CN101522297A
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：CN200780036972.4
申请日：2007-09-12
申请人： 格雷斯公司
CPC分类号： B01J21/12 , B01J23/40 , B01J35/002 , B01J35/023 , B01J35/1014 , B01J35/1019 , B01J35/1038 , B01J35/1042 , B01J35/1047 , B01J37/0221 , B01J37/031 , C01F7/02 , C01F7/021 , C01P2002/52 , C01P2004/01 , C01P2004/61 , C01P2004/84 , C01P2006/12 , C01P2006/16
摘要： 本发明涉及改进的催化剂载体以及由此得到的适于处理内燃机，尤其柴油机的废气产物的催化剂。本发明的载体是包括具有高孔隙率和表面积的氧化铝芯颗粒的结构，其中该结构具有大约1到大约40wt％的在所述氧化铝芯表面积上的覆层形式的硅石。所得载体具有至多15μg/m2的标称化硫摄取率(NSU)。
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公开(公告)号：CN1331733A
公开(公告)日：2002-01-16
申请号：CN99814723.0
申请日：1999-10-21
申请人： 格雷斯公司
发明人： J·N·普赖尔
CPC分类号： C09D163/00 , B05D7/546 , B05D2202/10 , C09G1/02 , C09K3/1463 , C08L2666/54
摘要： 用压热器处理多孔的、无机氧化物颗粒的淤浆,所述处理方法导致所述颗粒的磨损性增加,表现为当按标准抛光条件进行化学机械抛光时,被抛光基材的除去速率增加。本发明提供了具有新型磨损性的淤浆,具体地说,是以二氧化硅为基础的淤浆。颗粒磨损性的增加与颗粒表面积的减少有很大关系,其中表面积由氮气吸附法测定(BET法)。因此,通过采用加热无机氧化物颗粒的淤浆使其达到某BET表面积的方法可获得具有符合要求的磨损度的淤浆,而已经证实,BET法测定的比表面积与所需的磨损度有关。所得的淤浆可用于传统的抛光机。所述方法特别适合制备以二氧化硅为基础的研磨淤浆。
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公开(公告)号：CN114585672A
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202080075681.1
申请日：2020-08-19
申请人： 格雷斯公司
摘要： 公开了含有低孔隙体积二氧化硅粒子和高孔隙体积二氧化硅粒子的共混物形式的基于二氧化硅的消光剂的改进的涂料配制物。所述消光配制物可用于水性涂料组合物，从而为经涂布的基底提供优异的性质。在基底上由含有基于二氧化硅的消光剂的涂料配制物获得的膜出乎意料地为基底，特别是木材或塑料的表面提供改进的耐化学品性。也公开了制备和使用所述基于二氧化硅的消光配制物的方法。
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公开(公告)号：CN1142989C
公开(公告)日：2004-03-24
申请号：CN99814723.0
申请日：1999-10-21
申请人： 格雷斯公司
发明人： J·N·普赖尔
CPC分类号： C09D163/00 , B05D7/546 , B05D2202/10 , C09G1/02 , C09K3/1463 , C08L2666/54
摘要： 用压热器处理多孔的、无机氧化物颗粒的淤浆，所述处理方法导致所述颗粒的磨损性增加，表现为当按标准抛光条件进行化学机械抛光时，被抛光基材的除去速率增加。本发明提供了具有新型磨损性的淤浆，具体地说，是以二氧化硅为基础的淤浆。颗粒磨损性的增加与颗粒表面积的减少有很大关系，其中表面积由氮气吸附法测定(BET法)。因此，通过采用加热无机氧化物颗粒的淤浆使其达到某BET表面积的方法可获得具有符合要求的磨损度的淤浆，而已经证实，BET法测定的比表面积与所需的磨损度有关。所得的淤浆可用于传统的抛光机。所述方法特别适合制备以二氧化硅为基础的研磨淤浆。
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